包括双材料结构的衍射光栅制造技术

在本公开的一个实施例中，提出了一种用于衍射光的衍射光栅，包括衬底和位于衬底表面上的多个光栅单元格。光栅单元格在所述衬底表面上形成彼此平行或沿相同轴的光栅单元格的周期阵列。衍射光栅与由轴x、y和z定义的三维笛卡尔坐标系相关联，其中z轴垂直于所述衍射光栅。在垂直xz平面中光栅单元格的横截面包括具有第一折射率n

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括双材料结构的衍射光栅1.
本公开涉及光学和光子学领域，并且更具体地涉及平面光学器件。更具体地，但不排他地，本公开涉及衍射光栅，所述衍射光栅包含在近场区元件中的近场聚焦和射束形成，其可以用于各种各样的装置(例如，显示器，包括眼镜电子装置的波导中的光的输入和输出耦合以及用于AR(增强现实)和VR(虚拟现实)眼镜的头戴式显示器、用于照片/视频/光场相机的光学传感器、生物/化学传感器，包括芯片实验室传感器、显微镜、光谱学和计量系统、太阳能电池板等)。近场区在此以及贯穿本文是指根据本公开的器件周围的区域，其尺寸可以从主体介质中的波长的一小部分延伸到约10个波长。它显然可以不限于非辐射(反应)区，而是还可以包括菲涅耳辐射、跃迁以及部分远场区，这取决于器件的尺寸。2.
技术介绍
本部分旨在向读者介绍可能与下面描述和/或要求保护的本专利技术的各个方面相关的技术的各个方面。相信该讨论有助于向读者提供背景信息，以便于更好地理解本专利技术的各个方面。因此，应当理解，这些陈述应就此而论来阅读，而不是作为对现有技术的承认。随着纳米技术的出现，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于衍射光的衍射光栅，包括衬底和位于所述衬底表面上的多个光栅单元格(10)，其中光栅单元格(10)形成在所述基片表面上彼此平行或沿着相同的轴的光栅单元的周期性阵列，其中所述光栅的周期是属于从300nm到1000nm的范围的d，其中所述衍射光栅与由轴x、y和z定义的三维笛卡尔坐标系相关联，其中所述z轴垂直于所述衍射光栅，其中在垂直xz平面中的光栅单元格的横截面包括具有第一折射率n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180313 EP 18305263.81.一种用于衍射光的衍射光栅，包括衬底和位于所述衬底表面上的多个光栅单元格(10)，其中光栅单元格(10)形成在所述基片表面上彼此平行或沿着相同的轴的光栅单元的周期性阵列，其中所述光栅的周期是属于从300nm到1000nm的范围的d，其中所述衍射光栅与由轴x、y和z定义的三维笛卡尔坐标系相关联，其中所述z轴垂直于所述衍射光栅，其中在垂直xz平面中的光栅单元格的横截面包括具有第一折射率n1的均匀介电主介质(11)，所述主介质(11)嵌入具有沿着x轴的第一宽度W1、沿着z轴的高度H和第二折射率n2的第一介电材料的至少第一块(12)，所述第一块(12)的边缘与具有沿所述x轴的第二宽度W2、沿所述z轴的所述高度H和第三折射率n3的第二介电材料的至少第二块(13)直接接触，所述第一折射率n1、第二折射率n2和第三折射率n3彼此不同使得n1＜n3＜n2，
其中，所述第一块(12)和所述第二块(13)在所述垂直xz平面中具有梯形横截面，
其中所述第一块和所述第二块具有两个侧壁和平行于所述衬底的顶表面延伸的顶表面，所述梯形横截面限定底角，并且其中所述多个光栅单元格(10)基于由所述参数H、n1、n3、n2和所述底角的值限定的纳米射流亮斑位置来为来自电磁波的正第一衍射级和负第一衍射级提供非对称响应，所述电磁波垂直入射到所述衍射光栅上并且来自垂直xz平面中与所述衬底相对的一侧，所述电磁波具有称为工作波长的自由空间波长λ，所述自由空间波长λ属于可见光域，并且其中所述纳米射流在具有不同折射率的介电材料之间的边缘处产生。


2.根据权利要求1所述的用于衍射光的衍射光栅，其中，所述横截面包括：
-第一边缘，其沿着所述z轴在所述主介质(11)和所述第一块(12)之间，所述第一边缘的目标在于在近场区中形成第一射束，所述第一射束是第一纳米射流；
-第二边缘，其沿着所述z轴在所述第一块(12)和所述第二块(13)之间，所述第二边缘的目标在于在所述近场区中形成第二射束，所述第二射束是第二纳米射流；
-第三边缘，其沿着所述z轴在所述第二块(13)和所述主介质(11)之间，所述第三边缘的目标是在所述近场区中形成第三射束，所述第三射束是...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿提姆·鲍里斯金，米特拉·达姆加尼安，奥克萨那·什拉姆科娃，瓦尔特·德拉齐克，劳伦特·布隆德，
申请(专利权)人：交互数字CE专利控股公司，
类型：发明
国别省市：法国;FR