一种45度角反射镜面光滑度的制造结构以及制造方法技术

本发明专利技术公开了一种45度角反射镜面光滑度的制造结构以及制造方法，包括：晶面硅片衬底以及掩膜层，所述掩膜层生长于晶面硅片衬底上，所述晶面硅片衬底上开设有腐蚀斜面，所述腐蚀斜面内安装有反射镜结构；本发明专利技术涉及硅湿法腐蚀制作反射镜技术领域,降低了成本，提高了器件的性能，可靠性：硅基材料的芯片上制作的反射镜，它具有尺寸小，产出率高，成本低、重复性好、耐用性强、热学性能稳定等的优点。由于是45度角，平行光入射进去，垂直入射出来，光路调整简洁，且优化的工艺成倍提高了反射镜的输出射功率，得到的图像亮度高，画质更清晰精准，色彩更逼真，属于超精密光学元器件。

【技术实现步骤摘要】
一种45度角反射镜面光滑度的制造结构以及制造方法
本专利技术涉及硅湿法腐蚀制作反射镜
，特别是一种45度角反射镜面光滑度的制造结构以及制造方法。
技术介绍
湿法腐蚀反射镜目前通常采(100)晶面硅片,腐蚀斜面(111)面和晶面(100)的夹角为54.74度，停在(111)面，(111)面的特性稳定且光滑，可做为光学反射镜面使用，但是(100)硅片很难设计出45度角的特定夹角面，而采用(110)晶面硅片可以制作和晶面成45度角夹角：(100)晶面和硅片平面(110)晶面可以形成45度角，但是湿法腐蚀后(100)面和(110)面均略有小坑(比较粗糙)，不可作为光学镜面的反射面。这是由于(100)和(110)晶面密度比(111)晶面低相关，是固有属性，鉴于此，针对上述问题深入研究，遂有本案产生。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决上述问题，设计了一种45度角反射镜面光滑度的制造结构以及制造方法，解决了现有的湿法腐蚀后(100)面和(110)面均略有小坑，表面比较粗糙的问题。实现上述目的本专利技术的技术方案为：一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种45度角反射镜面光滑度的制造方法，包括以下操作步骤，步骤S1、选材腐蚀；步骤S2、外侧防护；步骤S3、低温热熔；步骤S4、外侧镀金；/n所述步骤S1：首先采用(100)或者(110)的硅晶圆衬底，通过KOH(氢氧化钾)等碱性腐蚀液腐蚀出(100)和(110)面的45度夹角；/n所述步骤S2：在45度夹角(100)和(110)面上涂布一层低熔点材料；/n所述步骤S3：升温使低熔点材料融化，在表面张力的作用下形成光滑平面；/n所述步骤S4：在光滑平面上镀金或其它高反射率金属，形成45度金反射镜。/n

【技术特征摘要】
1.一种45度角反射镜面光滑度的制造方法，包括以下操作步骤，步骤S1、选材腐蚀；步骤S2、外侧防护；步骤S3、低温热熔；步骤S4、外侧镀金；
所述步骤S1：首先采用(100)或者(110)的硅晶圆衬底，通过KOH(氢氧化钾)等碱性腐蚀液腐蚀出(100)和(110)面的45度夹角；
所述步骤S2：在45度夹角(100)和(110)面上涂布一层低熔点材料；
所述步骤S3：升温使低熔点材料融化，在表面张力的作用下形成光滑平面；
所述步骤S4：在光滑平面上镀金或其它高反射率金属，形成45度金反射镜。


2.根据权利要求1所述的一种45度角反射镜面光滑度的制造方法，其特征在于，所述步骤S2中低熔点材料，在45度夹角(100)和(110)面上涂布可流动性可固化材料。


3.根据权利要求1所述的一种45度角反射镜面光滑度的制造方法，其特征在于，所述步骤S2低熔点材料，包含但不限于硼磷硅玻璃薄膜，熔点较低的金属薄膜或者它们的合金薄膜，如Bi，Sn、Pb等金属或者它们的合金薄膜。厚度在1～10um，目的是在熔点有流动性，填充硅腐蚀坑。


4.根据权利要求1所述的一种45度角反射镜面光滑度的制造方法，其特征在于，所述步骤S2可流动可固化材料，包含但不限于聚酰亚胺。


5.根据权利要求1所述的一种45度角反射镜面光滑度的制造方法，其特征在于，所述步骤S3低熔点材...

【专利技术属性】
技术研发人员：李蜀文，徐艳，李忠旭，
申请(专利权)人：上海矽安光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31