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本发明公开了一种45度角反射镜面光滑度的制造结构以及制造方法，包括：晶面硅片衬底以及掩膜层，所述掩膜层生长于晶面硅片衬底上，所述晶面硅片衬底上开设有腐蚀斜面，所述腐蚀斜面内安装有反射镜结构；本发明涉及硅湿法腐蚀制作反射镜技术领域,降低了成本...
该专利属于上海矽安光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海矽安光电科技有限公司授权不得商用。

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