用于光刻工艺的基板及导电膜制造技术

本申请提供了一种用于光刻工艺的基板及导电膜，基板包括：光截止层、第一基材层以及第二基材层。第一基材层设置在光截止层的第一面上。第二基材层设置在光截止层上与第一面相对的第二面上。本申请提供的基板用于制作触控传感器的后续黄光工艺时，正反两面的光线不能够穿透光截止层，避免两侧光线的相互干扰从而制作正确的图案，因此可以降低现有技术采用其他遮光方式而导致的工艺复杂性。

【技术实现步骤摘要】
用于光刻工艺的基板及导电膜
本申请涉及光刻工艺领域，具体而言，涉及一种用于光刻工艺的基板及具有该基板的导电膜。
技术介绍
本申请对于
技术介绍
的描述属于与本申请相关的相关技术，仅仅是用于说明和便于理解本申请的申请内容，不应理解为申请人明确认为或推定申请人认为是本申请在首次提出申请的申请日的现有技术。透明导电薄膜是平板电视、触摸屏、智能窗玻璃、发光二极管以及光伏电池等器件制造的必要组成部分。由于容式触摸屏具有功耗低寿命长以及流畅操作性能的特点，各种电容式触摸屏产品纷纷面世。目前，市场上电容式触摸屏主要用有机薄膜为基材，镀上导电材料，再图案化做成感应层。其中双面再镀上导电材料的结构设计，由于为了降低触摸屏的厚度及生产成本，一般采用将驱动层和感测层分别设置在薄膜基材的两个表面的光刻工艺，该种工艺存在如下问题：(1)制作工序繁琐复杂。(2)上下两层的导电层光刻对位的精度极高。(3)生产的过程之中，双面同时曝光会相互干扰。
技术实现思路
本申请第一方面的实施例提供了一种用于光刻工艺的基板，包括：光截止层；第一基材层，所述第一基材层设置在所述光截止层的第一面上；以及第二基材层，所述第二基材层设置在所述光截止层上与所述第一面相对的第二面上。本申请提供的基板用于制作触控传感器的后续黄光工艺时，正反两面的光线不能够穿透光截止层，避免两侧光线的相互干扰，从而制作正确的图案，因此可以降低现有技术采用其他遮光方式而导致的工艺复杂性。可选地，所述光截止层由光吸收材料制成，所述光吸收材料包括的组分和各组分的质量比为：光吸收剂0.1％～1％、基材99％～99.9％。可选地，所述光截止层的厚度为1μm～20μm。可选地，所述光截止层的厚度为5μm～10μm。可选地，所述基材包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、环烯烃聚合物、聚酰亚胺、环烯烃共聚物、聚偏氟乙烯或聚酰胺中的至少一种。可选地，所述光截止层为由光吸收剂制成的光吸收剂层。可选地，所述光吸收剂层的厚度为40nm～20μm。可选地，所述光吸收剂层的厚度为200nm～1μm。可选地，所述光吸收剂包括水杨酸酯类、苯酮类、苯并三唑类、取代丙烯腈类、三嗪类和受阻胺类等、邻羟基苯甲酸苯酯、2-(2ˊ-羟基-5ˊ-甲基苯基)苯并三氮唑、2，4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-(2’-羟基-3’，5’-二叔苯基)-5-氯化苯并三唑、单苯甲酸间苯二酚酯、2，2’-硫代双(4-叔辛基酚氧基)镍、(1，2，2，6，6-五甲哌啶基)亚磷酸酯、4-苯甲酰氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶、2，4，6-三(2’正丁氧基苯基)-1，3，5-三嗪或六甲基磷酰三胺中的至少一种。本申请第二方面的实施例提供了一种导电膜，包括上述任一项所述的基板；所述基板的两个侧面上依次设置有硬化层、折射率匹配层、透明导电层。本申请提供的导电膜，导电膜的触控功能精准性好，导电膜的可靠性高，从而提高了产品的市场竞争力。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本申请。本申请的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本申请的实践了解到。附图说明本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是本申请所述基板第一种实施例的结构示意图；图2是本申请所述基板第二种实施例的结构示意图；图3是本申请所述导电膜一实施例的结构示意图。其中，图1至图3中附图标记与部件名称之间的对应关系为：光截止层10，光吸收材料层11，光吸收剂层12，第一基材层20，第二基材层30，硬化层40，折射率匹配层50，透明导电层60。具体实施方式为了能够更清楚地理解本申请的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本申请进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请，但是，本申请还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本申请的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。下述讨论提供了本申请的多个实施例。虽然每个实施例代表了申请的单一组合，但是本申请不同实施例可以替换，或者合并组合，因此本申请也可认为包含所记载的相同和/或不同实施例的所有可能组合。因而，如果一个实施例包含A、B、C，另一个实施例包含B和D的组合，那么本申请也应视为包括含有A、B、C、D的一个或多个所有其他可能的组合的实施例，尽管该实施例可能并未在以下内容中有明确的文字记载。如图1和图2所示，本申请第一方面的实施例提供的用于光刻工艺的基板，包括：光截止层10、第一基材层20以及第二基材层30。第一基材层20设置在光截止层10的第一面上。第二基材层30设置在光截止层10上与第一面相对的第二面上。本申请提供的基板用于制作触控传感器的后续黄光工艺时，正反两面的光线不能够穿透光截止层，避免两侧光线的相互干扰从而制作正确的图案，因此可以降低现有技术采用其他遮光方式而导致的工艺复杂性。可选地，光截止层10对波长为380nm以下光的透过率<10％。实施例1如图1所示，本申请第一实施例提供的基板包括光截止层10(光吸收材料层11)、第一基材层20以及第二基材层30。光截止层10为由光吸收材料制成的光吸收材料层11，光吸收材料包括的组分和各组分的质量比为：光吸收剂0.1％～1％、基材99％～99.9％。第一基材层20设置在光吸收材料层11的第一面上。第二基材层30设置在光吸收材料层11上与第一面相对的第二面上。在该实施例中，光截止层10由复合材料制成，基材作为光吸收剂的载体，光吸收剂吸次曝光显影蚀刻时的光，基材为光截止层10提供机械强度，即提供高了整个基板的机械强度，从而延长了产品的使用寿命，进而增加了产品的市场竞争力。另外，第一基材层20和第二基材层30能够有效地防止光吸收剂的挥发，从而保证了光截止层10的光截止效果，进而保证了产品的使用可靠性，增加了产品的市场竞争力。在本申请的一个实施例中，光截止层10的厚度H为1μm～20μm。可选地，光截止层10的厚度H为5μm～10μm。在该实施例中，一方面，避免光截止层10小于1μm，截止层的厚度H过小，导致截止层的光吸收效果不好；另一方面，避免光截止层10大于20μm，截止层的厚度过大，导致基板的厚度较大；光截止层10的厚度H在1μm～20μm内，光截止层10的厚度适中，且能够有效地防止第二次曝光显影蚀刻时的光不能够穿透。在本申请的一个实施例中，光截止层10的厚度H为7μm。在能够有效地防止第二次曝光显影蚀刻时的光不能够穿透的情况下，光截止层10的厚度适中。在本申请的一个实施例中，基材包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于光刻工艺的基板，其特征在于，包括：/n光截止层；/n第一基材层，所述第一基材层设置在所述光截止层的第一面上；以及/n第二基材层，所述第二基材层设置在所述光截止层上与所述第一面相对的第二面上。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于光刻工艺的基板，其特征在于，包括：
光截止层；
第一基材层，所述第一基材层设置在所述光截止层的第一面上；以及
第二基材层，所述第二基材层设置在所述光截止层上与所述第一面相对的第二面上。


2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，
所述光截止层由光吸收材料制成，所述光吸收材料包括的组分和各组分的质量比为：光吸收剂0.1％～1％、基材99％～99.9％。


3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，
所述光截止层的厚度为1μm～20μm。


4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，
所述光截止层的厚度为5μm～10μm。


5.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，
所述基材包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、环烯烃聚合物、聚酰亚胺、环烯烃共聚物、聚偏氟乙烯或聚酰胺中的至少一种。


6.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，
所述光截止层为由光吸收剂制成的光吸收剂层。


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【专利技术属性】
技术研发人员：谢峰，胡昆星，万国伟，
申请(专利权)人：南昌欧菲显示科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36