【技术实现步骤摘要】
一种气相沉积装置
本申请涉及化学气相沉积
,更具体地说,尤其涉及一种气相沉积装置。
技术介绍
气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程,在工件表面形成功能性的金属、非金属或化合物涂层。化学气相沉积是一种制备材料的气相生长方法,它是把一种或者集中含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入放置有基体的反应室,借助空间气相化学反应在基体表面上沉积固态薄膜的技术。目前,化学气相沉积技术已被广泛应用于生产碳-碳、碳-碳化硅、碳化硅-碳化硅等复合材料,而这些复合材料在航天、航空、交通等领域正发挥着重要作用。目前,化学气相沉积一般采用气相沉积装置对工件进行加工,其中,气相沉积装置中的温度和沉积气体的流场对工件表面的沉积效果有很大的影响,但是现有的气相沉积装置中,往往由于气体流场的均匀性和热场均匀性无法得到保证,导致工件表面沉积厚度不均匀,极大地影响了工件的处理质量。因此,在现有技术的基础上,一种能够的化学气相沉积装置是本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本申请提供一种 ...
【技术保护点】
1.一种气相沉积装置,其特征在于,包括,壳体(1);/n设置在所述壳体(1)的内腔(4)的料盘(2),所述料盘(2)用于承载工件(3);/n设置在所述料盘(2)下方,与所述料盘(2)连接的传动轴组件(5);/n驱动装置(6);设置在所述壳体(1)外部,与所述传动轴组件(5)远离所述料盘(2)的一端连接,所述驱动装置(6)被配置为:带动所述传动轴组件(5)转动的同时使得所述传动轴组件(5)沿轴向方向移动。/n
【技术特征摘要】
1.一种气相沉积装置,其特征在于,包括,壳体(1);
设置在所述壳体(1)的内腔(4)的料盘(2),所述料盘(2)用于承载工件(3);
设置在所述料盘(2)下方,与所述料盘(2)连接的传动轴组件(5);
驱动装置(6);设置在所述壳体(1)外部,与所述传动轴组件(5)远离所述料盘(2)的一端连接,所述驱动装置(6)被配置为:带动所述传动轴组件(5)转动的同时使得所述传动轴组件(5)沿轴向方向移动。
2.根据权利要求1所述的气相沉积装置,其特征在于,
所述驱动装置(6),包括,
与所述传动轴组件(5)连接,带动所述传动轴组件(5)转动的驱动件(61);
与所述驱动件(61)连接,带动所述驱动件(61)沿所述传动轴组件(5)的轴向方向运动的移动装置。
3.根据权利要求2所述的气相沉积装置,其特征在于,
所述移动装置,包括,
滑台(62),与所述驱动件(61)连接;
推杆(63);使得所述滑台(62)沿所述传动轴组件(5)的轴向方向运动。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的气相沉积装置,其特征在于,
所述传动轴组件(5),包括,
与所述料盘(2)连接的第一传动轴(51),所述第一传动轴(51)的材料是耐高温的材料;以及,
与所述驱动装置(6)连接的第二传动轴(52);所述第二传动轴(52)远离所述驱动装置(6)的一端与所述第一传动...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡祥龙,周岳兵,戴煜,许鹏,王艳艳,
申请(专利权)人:湖南顶立科技有限公司,
类型:发明
国别省市:湖南;43
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