【技术实现步骤摘要】
一种硅片加工用除异味装置
本技术涉及微电子
，尤其涉及一种硅片加工用除异味装置。
技术介绍
微电子技术是随着集成电路，尤其是超大型规模集成电路而发展起来的一门新的技术。微电子技术是一门作用于半导体上的微小型集成电路系统的学科。微电子技术的关键在于研究集成电路的工作方式以及如何实际制造应用。集成电路的发展依赖于半导体器件的不断演化。微电子技术可在纳米级超小的区域内通过固体内的微观电子运动来实现信息的处理与传递，并且有着很好的集成性。而微电子技术的发展离不开硅片，硅片是制作集成电路的重要材料，可以通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件。在加工硅片时，需要在硅片的表面涂附一层负光阻剂，涂附后再进行烘干，而负光阻剂中含有二甲苯等有害物质，当负光阻剂附着在硅片上后，有害气味会散发出来，因此，在烘干之前需要对这些异味进行去除。现有技术中在对硅片进行除异味时，通常通过吊顶式和墙面侧挂式的抽风系统将异味抽除，然而，在现有的吊顶式以及墙面侧挂式抽风系统中，抽风罩与硅片之间存在相应的距离，吊顶式的距离在80cm...
【技术保护点】
1.一种硅片加工用除异味装置，其特征在于，包括除味箱、集气箱和引风机，所述集气箱位于所述除味箱的侧部，所述引风机的进风口与所述除味箱连接，所述引风机的出风口与所述集气箱连接；/n所述除味箱底端的四个拐角分别设置有第一支撑腿，所述除味箱内腔的底部固定安装有电机，所述电机的转轴端部向上与涡轮扇叶固定连接，所述除味箱的内腔中还设置有隔板，所述隔板位于所述涡轮扇叶的上部，所述隔板上间隔开设有通孔，所述除味箱的前端密封设置有箱门，所述箱门的外壁上设置有拉把，所述除味箱侧壁的底部设置有吸气口，所述吸气口位于所述隔板的下部，所述吸气口与吸气支管的一端连接，所述吸气支管的另一端与吸气干管的...
【技术特征摘要】
1.一种硅片加工用除异味装置，其特征在于，包括除味箱、集气箱和引风机，所述集气箱位于所述除味箱的侧部，所述引风机的进风口与所述除味箱连接，所述引风机的出风口与所述集气箱连接；
所述除味箱底端的四个拐角分别设置有第一支撑腿，所述除味箱内腔的底部固定安装有电机，所述电机的转轴端部向上与涡轮扇叶固定连接，所述除味箱的内腔中还设置有隔板，所述隔板位于所述涡轮扇叶的上部，所述隔板上间隔开设有通孔，所述除味箱的前端密封设置有箱门，所述箱门的外壁上设置有拉把，所述除味箱侧壁的底部设置有吸气口，所述吸气口位于所述隔板的下部，所述吸气口与吸气支管的一端连接，所述吸气支管的另一端与吸气干管的一端连接，所述吸气干管的另一端与所述引风机的进风口连接；
所述集气箱底端的四个拐角分别设置有第二支撑腿，所述引风机固定安装在所述集气箱的外壁上，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：程崑岚，陈仕军，程俊斌，张贤锋，
申请(专利权)人：固镒电子芜湖有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。