一种晶片自动清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种晶片自动清洗装置，属于机械领域，包括超声波机箱和清洗池，超声波机箱内设置有超声波发生器和超声波换能器，超声波机箱上还设置有控制面板，清洗池内设置有清洗框，清洗池的两侧壁上还相对设有一对轴承座，清洗框的两侧壁上相对设置有一对固定有连接轴的连接耳，连接耳与轴承座通过连接轴可转动连接；清洗池的外侧还设置有一个伺服电机，伺服电机的动力输出端与其中一个连接轴通过联轴器固定连接；本装置还包括4个晶片盛放篮，4个晶片盛放篮呈田字形放置在清洗框内。本实用新型专利技术具有结构简单、工作效率高、晶片不易损坏、清洗方便、清洗干净的特点，大大提高了工人的工作效率，并且还能对晶片表面进行高效的清洗。

An Automatic Wafer Cleaning Device

The utility model discloses an automatic wafer cleaning device, which belongs to the mechanical field, including an ultrasonic machine box and a cleaning pool. An ultrasonic generator and an ultrasonic transducer are arranged in the ultrasonic machine box, a control panel is arranged on the ultrasonic machine box, a cleaning frame is arranged in the cleaning pool, and a pair of bearing seats are arranged on the two sides of the cleaning pool, and the two sides of the cleaning frame are opposite. There is a pair of connecting ears fixed with connecting axle, connecting ear and bearing seat can be rotatably connected by connecting axle; there is also a servo motor on the outside of the cleaning pool, and the power output end of the servo motor is fixed with one of the connecting axles through coupling; the device also includes four wafer basket, and four wafer basket is placed in the cleaning frame in the shape of field. The utility model has the advantages of simple structure, high working efficiency, non-destructive wafer, convenient cleaning and clean cleaning, which greatly improves the working efficiency of workers, and can efficiently clean wafer surface.

【技术实现步骤摘要】
一种晶片自动清洗装置
本技术涉及机械领域，尤其涉及一种晶片自动清洗装置。
技术介绍
现有的超声波清洗(ultrasoniccleaning)是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。超声波在液体中传播，使液体与清洗槽在超声波频率下一起振动，液体与清洗槽振动时有自己固有频率，这种振动频率是声波频率，所以人们就听到嗡嗡声。随着清洗行业的不断发展，越来越多的行业和企业运用到了超声波清洗机。超声波清洗机原理由超声波发生器发出的高频振荡信号，通过换能器转换成高频机械振荡而传播到介质－－清洗溶剂中，超声波在清洗液中疏密相间的向前辐射，使液体流动而产生数以万计的直径为50-500μm的微小气泡，存在于液体中的微小气泡在声场的作用下振动。这些气泡在超声波纵向传播的负压区形成、生长，而在正压区，当声压达到一定值时，气泡迅速增大，然后突然闭合。并在气泡闭合时产生冲击波，在其周围产生上千个大气压，破坏不溶性污物而使他们分散于清洗液中，当团体粒子被油污裹着而黏附在清洗件表面时，油被乳化，固体粒子及脱离，从而达到清洗件净化的目本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶片自动清洗装置，包括超声波机箱和清洗池，所述超声波机箱与所述清洗池固定连接，所述超声波机箱内设置有超声波发生器和超声波换能器，所述超声波发生器与所述超声波换能器连接，所述超声波机箱上还设置有控制面板，所述超声波发生器与超声波换能器与所述控制面板电连接；所述清洗池内设置有清洗框，其特征在于，所述清洗池的两侧壁上还相对设有一对轴承座，所述清洗框的两侧壁上相对设置有一对固定有连接轴的连接耳，所述连接耳与所述轴承座通过所述连接轴可转动连接；所述清洗池的外侧还设置有一个伺服电机，所述伺服电机与超声波机箱分别位于所述清洗池的两侧，并且所述伺服电机的动力输出端与其中一个连接轴通过联轴器固定连接；所...

【技术特征摘要】
1.一种晶片自动清洗装置，包括超声波机箱和清洗池，所述超声波机箱与所述清洗池固定连接，所述超声波机箱内设置有超声波发生器和超声波换能器，所述超声波发生器与所述超声波换能器连接，所述超声波机箱上还设置有控制面板，所述超声波发生器与超声波换能器与所述控制面板电连接；所述清洗池内设置有清洗框，其特征在于，所述清洗池的两侧壁上还相对设有一对轴承座，所述清洗框的两侧壁上相对设置有一对固定有连接轴的连接耳，所述连接耳与所述轴承座通过所述连接轴可转动连接；所述清洗池的外侧还设置有一个伺服电机，所述伺服电机与超声波机箱分别位于所述清洗池的两侧，并且所述伺服电机的动力输出端与其中一个连接轴...

【专利技术属性】
技术研发人员：程崑岚，查平，
申请(专利权)人：固镒电子芜湖有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34