成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够实现维护性的提高的成膜装置。该成膜装置的特征在于，具备：靶单元(100)，设置在腔室内，具有靶(110)；端块(200)，具有靶单元(100)的旋转中心轴线方向的一端侧的轴承功能；以及支承块(300)，具有靶单元(100)的旋转中心轴线方向的另一端侧的轴承功能，用于使靶单元(100)旋转的驱动力从端块(200)内与靶单元(100)连接，供给于靶单元(100)的冷却液与施加于靶(110)的电压从支承块(300)内与靶单元(100)连接。

【技术实现步骤摘要】
成膜装置
本专利技术涉及通过溅射在基板上形成薄膜的成膜装置。
技术介绍
在通过溅射在基板上形成薄膜的成膜装置中，已知有成为阴极的一部分的圆筒状的靶一边旋转一边进行溅射的技术。在这样的技术中，在靶的两侧分别设置有轴承功能。以往，采用在靶的单侧集中地设置用于使靶旋转的驱动系统、向靶的内部供给冷却液的供给系统、以及向靶施加电压的电气系统的结构。因此，存在靶的单侧大型化的倾向。由此，存在更换靶等时的维护作业变得大规模的倾向。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016-108633号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术的目的在于提供一种能够实现维护性的提高的成膜装置。用于解决课题的技术方案本专利技术为了解决上述课题而采用了以下的技术方案。本专利技术的成膜装置通过溅射在基板上形成由靶的构成原子形成的薄膜，其特征在于，该成膜装置具备：腔室；靶单元，设置在所述腔室内，具有所述靶；第一壳体单元，具有所述靶单元的旋转中心轴线方向本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成膜装置，通过溅射在基板上形成由靶的构成原子形成的薄膜，其特征在于，/n该成膜装置具备：/n腔室；/n靶单元，设置在所述腔室内，具有所述靶；/n第一壳体单元，具有所述靶单元的旋转中心轴线方向的一端侧的轴承功能；以及/n第二壳体单元，具有所述靶单元的旋转中心轴线方向的另一端侧的轴承功能，/n用于使所述靶单元旋转的驱动力从所述第一壳体单元内与所述靶单元连接，/n供给于所述靶单元的冷却液和施加于所述靶的电压从所述第二壳体单元内与所述靶单元连接。/n

【技术特征摘要】
20191031 JP 2019-1992221.一种成膜装置，通过溅射在基板上形成由靶的构成原子形成的薄膜，其特征在于，
该成膜装置具备：
腔室；
靶单元，设置在所述腔室内，具有所述靶；
第一壳体单元，具有所述靶单元的旋转中心轴线方向的一端侧的轴承功能；以及
第二壳体单元，具有所述靶单元的旋转中心轴线方向的另一端侧的轴承功能，
用于使所述靶单元旋转的驱动力从所述第一壳体单元内与所述靶单元连接，
供给于所述靶单元的冷却液和施加于所述靶的电压从所述第二壳体单元内与所述靶单元连接。


2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述靶单元具备：
所述靶；
磁力单元，设置在所述靶的内部，且具有产生磁力的磁力产生构件；
第一驱动机构，使所述靶旋转；以及
第二驱动机构，使所述磁力单元旋转。


3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，
所述磁力单元在径向内侧和径向外侧分别具有空间，径向内侧的空间被用作冷却液的通路，径向外侧的环状空间是收容所述磁力产生构件的密闭空间。


4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，
所述磁力单元的所述径向内侧的空间同所述磁力单元与所述靶之间的环状间隙连通，成为供冷却液流动的通路。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的成膜装置，其特征在于，
该成膜装置具备：
第一支承轴部，旋转自如地轴支承于所述第一壳体单元；以及
第二支承轴部，旋转自如地轴支承于所述第二壳体单元，
所述靶单元构成为相对于所述第一支承轴部和所述第二支承轴部装卸自如。


6.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，
所述靶单元具备：
所述靶；以及
磁力单元，设置在所述靶的内部，且具有产生磁力的磁力产生构件，
所述第一支承轴部具备：
环状的第一靶用支承轴，构成为相对于所述靶装卸自如；以及...

【专利技术属性】
技术研发人员：松本行生，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP