用于电镀机的药水循环系统技术方案

本发明专利技术公开了一种用于电镀机的药水循环系统，包括药水槽和过滤机，药水槽的横向空间依次分隔为电解仓、主药水仓、过滤药水仓，电解仓与主药水仓之间通过第一隔板分隔，主药水仓与过滤药水仓之间通过第二隔板分隔，第一隔板的高度高于第二隔板的高度且低于药水槽的深度，电解仓内设有电解装置，电解仓内的药水满后会越过第一隔板自动溢流到主药水仓，主药水仓内的药水通过过滤机过滤后送入过滤药水仓，过滤药水仓内的药水满后会越过第二隔板自动溢流回主药水仓，过滤药水仓内的药水通过药水泵送入电镀机，电镀机排出的旧药水回收至电解仓。本发明专利技术可保证药水充分流动性、提高药水质量。量。量。

【技术实现步骤摘要】
用于电镀机的药水循环系统


[0001]本专利技术主要涉及电镀设备领域，特指一种用于电镀机的药水循环系统。

技术介绍

[0002]在电镀机电镀过程中，电镀药水会产生杂质，为保证电镀质量，需要源源不断地向电镀机送入新的电镀药水，并将旧的药水排出后进行回收过滤再使用，构成药水循环系统。现有的电镀机药水循环系统，一般只有一个简单的循环回路，其循环过程为：药水槽内的电镀药水通过过滤机过滤后送入电镀机，电镀机将电镀药水排出后重新回到药水槽内。这种方式存在以下不足：当电镀机停机时，药水槽内的电镀药水就无法循环流动，导致出现沉积，使电镀药水质量下降，从而影响产品的电镀质量。

技术实现思路

[0003]本专利技术要解决的技术问题在于：针对现有技术存在的不足，提供一种可实现药水内外双循环，保证药水充分流动性、提高药水质量的用于电镀机的药水循环系统。
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术采用以下技术方案：
[0005]一种用于电镀机的药水循环系统，包括药水槽和过滤机，所述药水槽的横向空间依次分隔为电解仓、主药水仓、过滤药水仓，所述电解仓与主药水仓之间通过第一隔板分隔，所述主药水仓与过滤药水仓之间通过第二隔板分隔，所述第一隔板的高度高于第二隔板的高度且低于药水槽的深度，所述电解仓内设有电解装置，所述电解仓内的药水满后会越过第一隔板自动溢流到主药水仓，所述主药水仓内的药水通过过滤机过滤后送入过滤药水仓，所述过滤药水仓内的药水满后会越过第二隔板自动溢流回主药水仓，所述过滤药水仓内的药水通过药水泵送入电镀机，电镀机排出的旧药水回收至电解仓。
[0006]进一步，还包括回收槽，电镀机排出的旧药水依靠自重流至回收槽，回收槽内的药水通过回收泵送入电解仓。
[0007]进一步，还包括控制器，所述药水槽与回收槽之间设有溢流补偿管道相连，所述回收槽内设有用来检测药水液位是否过低的液位传感器，所述控制器根据液位传感器的信号控制回收泵的启停和溢流补偿管道的阀门开关。
[0008]进一步，所述主药水仓和过滤药水仓内设有用来控制药水温度的冷/热水管道。
[0009]进一步，所述过滤机设有过滤进水管道和过滤出水管道，所述过滤进水管道伸入主药水仓的底部，且过滤进水管道位于主药水仓底部的一段横管沿长度方向均匀开设有多个细孔，所述过滤出水管道伸入过滤药水仓的底部，且过滤出水管道位于过滤药水仓底部的一段横管沿长度方向均匀开设有多个细孔。
[0010]与现有技术相比，本专利技术的优点在于：本专利技术将药水槽分隔成电解仓、主药水仓、过滤药水仓共三个仓，电解仓能够对回收后的药水进行电解，把药水中的镀层金属离子析出来，并把其他离子(杂质)还原，起到补充镀层金属离子并去杂质的效果；电解仓内的药水满后才会越过第一隔板自动溢流到主药水仓，这样可保证药水在电解仓内得到充分的电
解；主药水仓内的药水先通过过滤机送入过滤药水仓，过滤药水仓内的药水满后又越过第二隔板自动溢流到主药水仓，这样就实现了药水在药水槽内部的内循环流动，就算电镀机停机时，也能够保证药水的的充分流动，防止沉积；当电镀机工作时，通过药水泵将过滤药水仓内的药水送入电镀机，电镀机排出的旧药水再回收至电解仓，这样又实现了电镀机工作时药水的外循环流动；药水的内外双循环，能够使药水一直处于循环流动状态，有效地保证了药水的充分流动性，提高了药水质量。
附图说明
[0011]图1为本专利技术的结构示意图。
[0012]图2为本专利技术的工作原理示意图。
[0013]图3为本专利技术中过滤机的过滤进水管道伸入主药水仓的结构示意图。
[0014]图例说明：1、药水槽；11、电解仓；12、主药水仓；13、过滤药水仓；14、第一隔板；15、第二隔板；2、过滤机；21、过滤进水管道；22、过滤出水管道；23、细孔；3、电解装置；4、药水泵；5、回收槽；6、回收泵；61、回收管道；7、溢流补偿管道；8、冷/热水管道；81、盘管；9、加水管道。
具体实施方式
[0015]以下结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步详细说明，应当指出，本专利技术的保护范围并不仅局限于下述实施例，在不脱离本专利技术原理的前提下，对本专利技术所作出的任何改进和润饰，均应视为本专利技术的保护范围。
[0016]如图1、图2所示，本专利技术的用于电镀机的药水循环系统，包括药水槽1和过滤机2，过滤机2用来对药水进行过滤，将药水在电镀过程中产生的杂质过滤掉。药水槽1为一方形槽，药水槽1的横向空间依次分隔为电解仓11、主药水仓12、过滤药水仓13，电解仓11与主药水仓12之间通过第一隔板14分隔，主药水仓12与过滤药水仓13之间通过第二隔板15分隔，第一隔板14的高度高于第二隔板15的高度且低于药水槽1的深度。
[0017]电解仓11内设有电解装置3，用来对回收后的药水进行电解，把药水中的镀层金属离子析出来，并把其他离子(杂质)还原，起到补充镀层金属离子并去杂质的效果。电解装置3为成熟的现有技术，其具体结构和工作原理在此就不再赘述。电解仓11内的药水满后会越过第一隔板14自动溢流到主药水仓12，主药水仓12内的药水通过过滤机2过滤后送入过滤药水仓13，过滤药水仓13内的药水满后会越过第二隔板15自动溢流回主药水仓12，过滤药水仓13内的药水通过药水泵4送入电镀机，电镀机排出的旧药水回收至电解仓11。
[0018]本实施例中，药水循环系统还包括一回收槽5，回收槽5的高度应保证电镀机排出的旧药水能够通过自身重力流至回收槽5，回收槽5内的药水再通过回收泵6经回收管道61送入电解仓11。
[0019]本实施例中，药水循环系统还包括一控制器(图中省略未示)，药水槽1与回收槽5之间设有溢流补偿管道7相连，回收槽5内设有用来检测药水液位是否过低的液位传感器(图中省略未示)，控制器根据液位传感器的信号控制回收泵6的启停和溢流补偿管道7的阀门开关。当回收槽5里面的药水太少，液位过低时，回收泵6无法抽取药水，时间一长，这些沉在回收槽5底部的药水由于无法流动，就会成为“死水”。因此本专利技术通过在回收槽5内设置
液位传感器，当液位传感器检测到药水液位过低时，将发送信号给控制器，由控制器控制回收泵6停止，并控制溢流补偿管道7的阀门打开，让药水槽1内的药水流入回收槽5，使回收槽5内的药水液位上升；当液位传感器检测到药水液位上升到设定值时，控制器控制回收泵6再次启动抽取药水，并控制溢流补偿管道7的阀门关闭。通过这种反馈控制来避免回收槽5出现“死水”现象，保证所有的药水都时刻处于流动状态。
[0020]本实施例中，主药水仓12和过滤药水仓13内设有用来控制药水温度的冷/热水管道8，通过往冷/热水管道8内通入流动的冷/热水对药水进行温度控制。冷/热水管道8在主药水仓12和过滤药水仓13内来回弯折形成盘管81，以保证制冷/加热的均匀性。
[0021]本实施例中，过滤机2设有过滤进水管道21和过滤出水管道22，如图3所示，过滤进水管道21伸入主药水仓12的底部，且过滤进水管道21位于主药水仓12底部的一段横管沿长度方向本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于电镀机的药水循环系统，包括药水槽(1)和过滤机(2)，其特征在于：所述药水槽(1)的横向空间依次分隔为电解仓(11)、主药水仓(12)、过滤药水仓(13)，所述电解仓(11)与主药水仓(12)之间通过第一隔板(14)分隔，所述主药水仓(12)与过滤药水仓(13)之间通过第二隔板(15)分隔，所述第一隔板(14)的高度高于第二隔板(15)的高度且低于药水槽(1)的深度，所述电解仓(11)内设有电解装置(3)，所述电解仓(11)内的药水满后会越过第一隔板(14)自动溢流到主药水仓(12)，所述主药水仓(12)内的药水通过过滤机(2)过滤后送入过滤药水仓(13)，所述过滤药水仓(13)内的药水满后会越过第二隔板(15)自动溢流回主药水仓(12)，所述过滤药水仓(13)内的药水通过药水泵(4)送入电镀机，电镀机排出的旧药水回收至电解仓(11)。2.根据权利要求1所述的用于电镀机的药水循环系统，其特征在于：还包括回收槽(5)，电镀机排出的旧药水依靠自重流至回收槽(5)，回收槽(5)内的药水通过回...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓才参，谭炳维，
申请(专利权)人：肇庆市英拓自动化设备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：