一种时间域浮动面转换深度域计算方法及计算系统技术方案

技术编号:28032013 阅读:36 留言:0更新日期:2021-04-09 23:13
本发明专利技术公开了一种时间域浮动面转换深度域计算方法及计算系统,包括:获取浮动面与高速层顶界面之间的层静校正替换量;计算等效近地表速度;利用等效近地表速度填充高速层顶界面以上的层面,并基于层静校正替换量和等效近地表速度获得高速层顶界面的相对厚度;基于高速层顶界面的高程和高速层顶界面的相对厚度,获得时间域浮动面转换到深度域的高程位置。本发明专利技术的时间域浮动面转换深度域计算方法及计算系统与实际静校正的层剥离过程相关,不受替换速度影响,更符合实际情况,精度更高,转化后的高程位置与实际真地表更接近,有利于提高构造成图精度、减小深度域与井标定的井震误差。

【技术实现步骤摘要】
一种时间域浮动面转换深度域计算方法及计算系统
本专利技术属于地震勘探领域,具体涉及一种时间域浮动面转换深度域计算方法及计算系统。
技术介绍
复杂近地表表现为地表高程起伏和近地表速度的剧烈变化,静校正处理是解决复杂近地表地震数据处理的关键步骤。带有复杂近地表的时间域成像剖面转换到深度域的方法与静校正处理过程有关。对于地表起伏较大的复杂近地表问题,如图1a所示,静校正一般包括层剥离及层替换两个步骤,即从真地表面向下层剥离到高速层顶界,以消除近地表(风化层、低速层、降速层)对时间域地震数据处理的影响;然后用替换速度(常速VR)从高速层顶界向上进行层替换到最终基准面,以满足CMP道集的所有炮检点在同一水平面的要求,使得同相轴尽量保持双曲线形态,这时获得的静校正量是从真地表到最终基准面的总静校正量。为避免最终基准面距离真地表较远、总静校正量偏大,导致对原始数据同相轴时移量校正过度的问题,一般需要对总静校正量进行高低频分解。将位于最终基准面上的每个CMP道集的所有炮检点反较一个低频分量,即相当于将每个CMP道集整体从最终基准面向下时移一个时间值(即低频静校本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种时间域浮动面转换深度域计算方法,其特征在于,包括:/n获取浮动面与高速层顶界面之间的层静校正替换量;/n计算等效近地表速度;/n利用所述等效近地表速度填充所述高速层顶界面以上的层面,并基于所述层静校正替换量和所述等效近地表速度获得高速层顶界面的相对厚度;/n基于所述高速层顶界面的高程和所述高速层顶界面的相对厚度,获得时间域浮动面转换到深度域的高程位置。/n

【技术特征摘要】
1.一种时间域浮动面转换深度域计算方法,其特征在于,包括:
获取浮动面与高速层顶界面之间的层静校正替换量;
计算等效近地表速度;
利用所述等效近地表速度填充所述高速层顶界面以上的层面,并基于所述层静校正替换量和所述等效近地表速度获得高速层顶界面的相对厚度;
基于所述高速层顶界面的高程和所述高速层顶界面的相对厚度,获得时间域浮动面转换到深度域的高程位置。


2.根据权利要求1所述的时间域浮动面转换深度域计算方法,其特征在于,通过以下公式(1)计算所述层静校正替换量:



其中,t层静校正替换量为浮动面与高速层顶界面之间的层静校正替换量,t低频静校正量为低频静校正量,也表示从最终基准面到当前浮动面的下移时间,H最终基准面为最终基准面高程,H高速层顶界高程为高速层顶界面的高程,vR为替换速度。


3.根据权利要求1所述的时间域浮动面转换深度域计算方法,其特征在于,根据以下公式(2)计算所述等效近地表速度:



其中,v近地表速度为等效近地表速度,hi为从真地表到高速层顶界面的第i层的层厚度,vi为第i层的层速度,N为从真地表到高速层顶界面的层数。


4.根据权利要求1所述的时间域浮动面转换深度域计算方法,其特征在于,根据以下公式(3)计算所述高速层顶界面的相对厚度:
H高速层顶界的相对厚度=t层静校正替换量*v近地表速度(3)
其中,H高速层顶界的相对厚度为高速层顶界面的相对厚度,v近地表速度为等效近地表速度,t层静校正替换量为浮动面与高速层顶界面之间的层静校正替换量。


5.根据权利要求1所述的时间域浮动面转换深度域计算方法,其特征在于,根据以下公式(4)计算所述时间域浮动面转换到深度域的高程位置:
Hcmp高程=H高速层顶界高程+H高速层顶界的相对厚度=H高速层顶界高程+t层静校正替换量*v近地表速度(4)
其中,Hcmp高程为当前CMP点从时间域浮动面转换到深度域的高程,H高速层顶界高程为高速层顶界面的高程,H高速层顶界的相对厚度为高速层顶界面的相对厚度,v近地表速度为等效近地表速度,t层静校正替换量为浮动面与高速层顶界面之间的层静校正替换量。


6.一种时间域浮动面转换深度域计算系统,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡杰雄王鹏燕王守进
申请(专利权)人:中国石油化工股份有限公司中国石油化工股份有限公司石油物探技术研究院
类型:发明
国别省市:北京;11

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