一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃，包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，在所述第一玻璃基片上从下至上依次溅射有第一氮化硅SiNx层、复合电介质层、金属银层、减反层、第二氮化硅SiNx层和保护层，在所述保护层热压第二玻璃基片；所述复合电介质层采用下列材料ZnSnOx、Si3N4或TiOx中一种或多种；所述减反层采用下列材料SiO2、ZnOx、ZnAlOx、AZO中一种或多种；所述保护层采用下列材料NiCr或NiCrOx中一种或两种。本发明专利技术具有高透射率和低遮阳系数双重优点的低辐射镀膜玻璃，其透射率为83.5‑85.1％。

【技术实现步骤摘要】
一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备工艺
本专利技术涉及低辐射镀膜玻璃
，尤其涉及一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备工艺。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉积一层金属银作为功能层，对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用，从而降低玻璃对红外线的吸收和辐射率，所以称之为低辐射镀膜玻璃。氮化硅材料结构与玻璃材料结构相近，其薄膜更易于和玻璃结合，其薄膜光学折射率高，玻璃面反射颜色选择性好、靶材成本低廉。用氮化硅作为附着层材料是行业发展趋势。普遍高可见光透射的产品其遮阳系数较高，尚没有同时满足高透射率和低遮阳系数的低辐射镀膜玻璃，而本申请的低辐射镀膜玻璃可解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备工艺，解决了无法同时满足高透射率和低遮阳系数的低辐射镀膜玻璃问题。根据本专利技术提出的一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃，包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，在所述第一玻本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，在所述第一玻璃基片上从下至上依次溅射有第一氮化硅SiNx层、复合电介质层、金属银层、减反层、第二氮化硅SiNx层和保护层，在所述保护层热压第二玻璃基片；/n所述复合电介质层采用下列材料ZnSnOx、Si

【技术特征摘要】
1.一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，在所述第一玻璃基片上从下至上依次溅射有第一氮化硅SiNx层、复合电介质层、金属银层、减反层、第二氮化硅SiNx层和保护层，在所述保护层热压第二玻璃基片；
所述复合电介质层采用下列材料ZnSnOx、Si3N4或TiOx中一种或多种，若为两种以上时，镀成多层复合层；
所述减反层采用下列材料SiO2、ZnOx、ZnAlOx、AZO中一种或多种，若为两种以上时，镀成多层复合层；
所述保护层采用下列材料NiCr或NiCrOx中一种或两种，若为两种时，镀成双层复合层。


2.根据权利要求1所述的一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一氮化硅SiNx层溅射厚度为5-25nm，所述复合电介质层溅射厚度为30-100nm，所述金属银层溅射厚度为10-50nm，所述减反层溅射厚度为20-60nm，所述第二氮化硅SiNx层溅射厚度为5-15nm，所述保护层溅射厚度为25-50nm。


3.根据权利要求2所述的一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述复合电介质层为单层时，溅射厚度为30-50nm，所述复合电介质层为多层时，每层溅射厚度在20-35nm。


4.根据权利要求2所述的一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述减反层为单层时，溅射厚度为20-45nm，所述减反层为多层时，每层溅射厚度在10-25nm。


5.根据权利要求2所述的一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：章余华，张波，朱海勇，程晓瑜，任建林，熊平，
申请(专利权)人：安徽凤阳玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34