一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，所述第一玻璃片上依次溅射第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx、金属银、第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，然后将第二玻璃基片热压在第二氮化硅SiNx上，在上述玻璃层一周涂刷高温液态玻璃溶液进行封边，然后离线钢化，制造方法采用高真空磁控溅射镀膜设备进行逐层溅射镀膜。本发明专利技术将溅射层设置在夹层玻璃之间，提高了溅射层的使用寿命，不仅能有效隔离辐射，还能具备对自然光的高透过率，透过率为85.2

【技术实现步骤摘要】
一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法


[0001]本专利技术涉及低辐射可钢镀膜玻璃
，尤其涉及一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法。

技术介绍

[0002]现有的普通透明玻璃应用很广泛，其透射范围正好与太阳辐射光谱区域重合，因此，在透过可见光的同时，阳光中的红外线热能也能大量透过玻璃，而2.5
‑
5um中红外波段的热能又被大量的吸收，对暖气发出的波长5um以上的热辐射，普通玻璃不能直接透过而是近乎完全吸收，并通过传导、辐射及与空气对流的方式将能热传递到室外，使室内的温度降低，另外，普通玻璃不能阻挡紫外线，易使室内的家俱和织物褪色，目前还有一种离线髙透低辐射镀膜玻璃，是由锡Sn银Ag、镍铬NiCr和硅Si或锌Zn通过双端离线高真空磁控溅射技术生成的不同厚度金属化合物层和金属层组成的。
[0003]然而在溅射涂层时，厚度不易过大，不然溅射效果不佳，溅射不均匀，但需要提高低辐射的效果，往往需要多次溅射相同结构层达到其需要效果，由于溅射层次变多，导致其表面易被损坏，而且溅射过程中一旦出现溅射异常，会出现局部溅射效果差问题，而对于同一台设备相同溅射条件下，在一个部位出现溅射问题的概率相对较高，若采用多层溅射，溅射方向翻转将盖上溅射不佳问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制备方法，解决多层溅射后涂层易损坏问题，并保证了其对自然光的高透过率。
[0005]根据本专利技术提出的一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，所述第一玻璃片上依次溅射第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx、金属银、第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，然后将第二玻璃基片热压在第二氮化硅SiNx上，在上述玻璃层一周涂刷高温液态玻璃溶液进行封边，然后离线钢化。
[0006]在本专利技术的一些实施例中，所述第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度分别为3
‑
4mm和1
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2mm；所述第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx的厚度分别为30
‑
50nm、10
‑
20nm和15
‑
20nm，所述金属银厚度均在10
‑
20nm，所述第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx的厚度分别为20
‑
30nm、15
‑
25nm和40
‑
60nm。
[0007]在本专利技术的另一些实施例中，所述第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度分别为3mm和2mm；所述第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx的厚度分别为40nm、15nm和18nm，所述金属银厚度为15nm，所述第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx的厚度分别为25nm、20nm和50nm。
[0008]一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃的制造方法，具体步骤如下：
[0009]S1：选择第一玻璃基片，将其置于高真空磁控溅射镀膜设备内，真空设置为2
‑
3MPa,线速度2.5
‑
3.5m/min；
[0010]S2：在第一玻璃基片上依次溅射第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx，上述溅射层的高真空磁控溅射镀膜设备的功率分别为80KW
‑
100KW、20KW
‑
30KW和5KW
‑
10KW；
[0011]S3：在步骤S2中的第一氮铝硅SiAlNx上溅射金属银，高真空磁控溅射镀膜设备的功率为3KW
‑
5KW；
[0012]S4：在步骤S3的金属银上依次溅射第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，上述溅射层的高真空磁控溅射镀膜设备的功率分别为5KW
‑
10KW、20KW
‑
30KW和80KW
‑
100KW，然后将溅射后的玻璃置于热压机内进行预热；
[0013]S5：向步骤S4中热压机内玻璃上盖上第二玻璃基板进行热压贴合，取出；
[0014]S6：向步骤S5中形成夹层玻璃一周涂刷高温液态玻璃溶液进行封边，然后离线钢化。
[0015]在本专利技术的另一些实施例中所述第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx溅射厚度分别约为第二氮化硅SiNx、第二氧化锌铝ZnAlOx和第二氮铝硅SiAlNx厚度的70
‑
80％。
[0016]在本专利技术的另一些实施例中，所述步骤S4中溅射方向相对步骤S2的溅射方向旋转180
°
。
[0017]本专利技术中，将溅射层设置在夹层玻璃之间，钢化后，夹层玻璃之间的溅射层不易损坏，提高了溅射层的使用寿命，而且采用双溅射，不仅能有效隔离辐射，还能具备对自然光的高透过率，透过率为85.2
‑
87.3％。
具体实施方式
[0018]下面将结合本专利技术实施例，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0019]一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，所述第一玻璃片上依次溅射第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx、金属银、第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，然后将第二玻璃基片热压在第二氮化硅SiNx上，在上述玻璃层一周涂刷高温液态玻璃溶液进行封边，然后离线钢化。
[0020]实施例1
[0021]所述第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度分别为3mm和2mm；所述第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx的厚度分别为40nm、15nm和18nm，所述金属银厚度为15nm，所述第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx的厚度分别为25nm、20nm和50nm。
[0022]一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃的制造方法，具体步骤如下：
[0023]S1：选择第一玻璃基片，将其置于高真空磁控溅射镀膜设备内，真空设置为2MPa,线速度2.5m/min；
[0024]S2：在第一玻璃基片上依次溅射第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮
铝硅SiAlNx，上述溅射层的高真空磁控溅射镀膜设备的功率分别为80KW、20KW和5KW；
[0025]S3：在步骤S2中的第一氮铝硅SiAlNx上溅射金属银，高真空磁控溅射镀膜设备的功率为3KW；
[0026]S4：在步骤S本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，其特征在于：包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，所述第一玻璃片上依次溅射第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx、金属银、第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，然后将第二玻璃基片热压在第二氮化硅SiNx上，在上述玻璃层一周涂刷高温液态玻璃溶液进行封边，然后离线钢化。2.根据权利要求1所述的一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，其特征在于：所述第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度分别为3
‑
4mm和1
‑
2mm；所述第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx的厚度分别为30
‑
50nm、10
‑
20nm和15
‑
20nm，所述金属银厚度均在10
‑
20nm，所述第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx的厚度分别为20
‑
30nm、15
‑
25nm和40
‑
60nm。3.根据权利要求2所述的一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，其特征在于：所述第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度分别为3mm和2mm；所述第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx的厚度分别为40nm、15nm和18nm，所述金属银厚度为15nm，所述第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx的厚度分别为25nm、20nm和50nm。4.一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：具体步骤如下：S1：选择第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：章余华，张波，朱海勇，程晓瑜，任建林，熊平，
申请(专利权)人：安徽凤阳玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：