一种OLED掩膜版Open Mask表面镁银材料清洗方法技术

本发明专利技术公开了一种OLED掩膜版Open Mask表面镁银材料清洗方法，包括以下步骤：步骤10、固定；步骤20、药水配置；步骤30、超声波振板安装；步骤40、去除膜层；步骤50、溢流超声波清洗；步骤60、脱水；步骤70、干燥。本发明专利技术通过对药水类型的选择和比例的控制，能够在不损伤产品本体的情况下将Open Mask部件表面的MgAg膜层溶解去除，从而实现Open Mask部件洗净再生、二次利用的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种OLED掩膜版OpenMask表面镁银材料清洗方法
本专利技术属于OLED坩埚部件清洗领域，具体涉及一种OLED掩膜版OpenMask表面镁银材料清洗方法。
技术介绍
OLED显示技术作为国际上一种新型的且蓬勃发展的显示技术，尤其是在OLED面板生产过程中的真空蒸镀工艺，是整个OLED工艺制程中的核心和目前的技术发展瓶颈所在。在OLED真空蒸镀工艺中，一般分为有机材料、金属材料和无机化合物材料的蒸镀，其中的OLED蒸镀掩膜版OpenMask部件，更是影响蒸镀工艺均匀性的核心蒸镀部件。而对应于每种蒸镀工艺中的核心设备零部件都有其不同的清洗方法，能否对OLED蒸镀掩膜版OpenMask部件进行清洗，关系着蒸镀工艺的效果。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题便是针对上述现有技术的不足，提供一种OLED掩膜版OpenMask表面镁银材料清洗方法，通过对药水类型的选择和比例的控制，能够在不损伤产品本体的情况下将OpenMask部件表面的MgAg膜层溶解去除，从而实现OpenMask部件洗净再生、二次利用的目的。本专本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED掩膜版Open Mask表面镁银材料清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤10、固定：根据Open Mask部件的结构，选择匹配的工装治具对其进行固定备用；/n步骤20、药水配置：按1：1-8：8-48的体积比将电子级CH3COOH、电子级H2O2和10MΩ以上的纯水置于药水槽内，搅拌混合均匀得到混合药水；/n步骤30、超声波振板安装：在药水槽内侧壁安装超声波振板；/n步骤40、去除膜层:将步骤10中固定好的Open Mask部件放入药水槽内浸泡，浸泡时间为0.5h-1h，浸泡过程中开启超声波震荡，超声波频率为60KHz，超声波能量密度为20w/inch

【技术特征摘要】
1.一种OLED掩膜版OpenMask表面镁银材料清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤10、固定：根据OpenMask部件的结构，选择匹配的工装治具对其进行固定备用；
步骤20、药水配置：按1：1-8：8-48的体积比将电子级CH3COOH、电子级H2O2和10MΩ以上的纯水置于药水槽内，搅拌混合均匀得到混合药水；
步骤30、超声波振板安装：在药水槽内侧壁安装超声波振板；
步骤40、去除膜层:将步骤10中固定好的OpenMask部件放入药水槽内浸泡，浸泡时间为0.5h-1h，浸泡过程中开启超声波震荡，超声波频率为60KHz，超声波能量密度为20w/inch2-40w/inch2，去除OpenMask部件表面膜层；
步骤50、溢流超声波清洗：将步骤50中去除表面膜层的OpenMask部件送入超声波纯水槽中进行溢流超声波纯水清洗，去除OpenMask部件表面残留的材料或化学物质，溢流超声波纯水清洗过程中，超声波频率为60KHz，超声波能量密度为20w/inch2-40w/inch2，溢流超声波纯水清洗＞30min；
步骤60、脱水：将步骤50中溢流超声波纯水清洗后的OpenMask部件送入IPA槽中进行IPA脱水，脱水时间为1h；
步骤70、干燥：将步骤60中完成IPA脱水的Open...

【专利技术属性】
技术研发人员：惠朝先，邱俊，吕先锋，王佳欣，李奎，向志强，
申请(专利权)人：四川富乐德科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51