【技术实现步骤摘要】
一种射频放电等离子体增强吸附速率的装置
本专利技术属于电磁与材料应用领域，具体涉及一种射频放电等离子体增强吸附速率的装置。
技术介绍
当前很多领域的工业应用以及基础科学研究均需在真空环境下进行，包括镀膜、热处理、微机电系统、表面科学、原子物理、纳米技术及半导体工业等。对于真空技术而言，内部真空环境及真空度的大小直接影响着工作范围和效率，特别是步入21世纪之后，随着各项应用指标的不断提高和基础学科研究的深入，其运行以及研究的环境均需要不同程度的高真空甚至超高真空来维系，这也对真空封装过程的工艺以及后续真空环境的获得手段提出了更高的要求和挑战。因此，除了采用常规的真空获取手段，如机械泵，分子泵，低温泵等技术之外，基于吸气材料发展而来的真空吸附技术也逐渐受到关注并展露出了更加重要的作用。非蒸散型吸气剂(Non-EvaporableGetter，NEG)因其平衡气压低、吸气容量大和吸气速率高等特性，已在电真空器件、超高真空获得、原子能工业等科学研究和工业生产中得到了应用。一般来说，目前该型吸气材料在进行工作时均需要对其进行加...
【技术保护点】
1.一种射频放电等离子体增强吸附速率的装置，其特征在于：包括真空腔室、抽真空系统组件、供气系统组件及气压采集系统组件；/n所述的真空腔室包括采用绝缘材料制成的上端开口、下端密闭的中空容器；中空容器的开口端通过密封法兰密闭；于中空容器底部放置有吸气剂；于中空容器底部设有用于为吸气剂加热的电加热元件，电加热元件与外电源连接；/n于中空容器中部的外壁面上缠绕有射频耦合线圈，射频耦合线圈一端通过高频同轴线与射频电源的射频电压输出端相连，另一端接地；/n真空腔室通过管路与抽真空系统组件(如：真空泵的进口)和供气系统组件(如：供气气源)相连通；于真空腔室上设有用于测量真空腔室内部压力的...
【技术特征摘要】
1.一种射频放电等离子体增强吸附速率的装置，其特征在于：包括真空腔室、抽真空系统组件、供气系统组件及气压采集系统组件；
所述的真空腔室包括采用绝缘材料制成的上端开口、下端密闭的中空容器；中空容器的开口端通过密封法兰密闭；于中空容器底部放置有吸气剂；于中空容器底部设有用于为吸气剂加热的电加热元件，电加热元件与外电源连接；
于中空容器中部的外壁面上缠绕有射频耦合线圈，射频耦合线圈一端通过高频同轴线与射频电源的射频电压输出端相连，另一端接地；
真空腔室通过管路与抽真空系统组件(如：真空泵的进口)和供气系统组件(如：供气气源)相连通；于真空腔室上设有用于测量真空腔室内部压力的气压采集系统组件(如：真空计)。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述的真空腔室主要用于产生真空环境，并且内部放置吸气剂，主要包括中空容器及密封法兰组件；所述的中空容器为可密封且耐高温的绝缘材料，如石英或陶瓷等；其形状为空心圆筒；密封法兰组件包括依次从上至下设置的密封法兰上盖、密封O圈以及密封法兰下盖；密封法兰上端设有二个开放接口，分别连接气压采集系统组件、抽真空系统组件及供气系统组件，同时吸气剂放置于中空容器底部位置。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述的抽真空系统组件包括两个气流量可控的球阀以及机械泵；机械泵经两个球阀、送气管及适配接头与真空腔室密封连接，从而使真空腔室达到低气压真空水平；
所述的供气系统组件包括供气气源及真空质量流量计；供气气源经真空质量流量计、送气管及适配接头与真空腔室密封连接，由此可以通过改变供气气源调节真空腔室中气体的种类及压强，同时可由质量流量计控制通入气体的流速。
4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于：用于连接真空腔室的密封法兰材质为不锈钢，铝，铁，铜及其合金等金属材质中的一种或二种以上；所述的送气管可以为不锈钢、铁等金属硬管、也可以为聚四氟乙烯、特氟龙等耐高温高压绝缘管中的一种或二种以上；所述的适配接头可以是法兰、KF接头、不锈钢直通接头、四氟直通接...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨亮，石文波，李庆伟，耿自才，周灿华，李永钊，回晓康，金玉奇，
申请(专利权)人：中国科学院大连化学物理研究所，
类型：发明
国别省市：辽宁;21
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