一种适用于步进扫描投影光刻机的轨迹规划系统及方法技术方案

本发明专利技术为一种适用于步进扫描投影光刻机的轨迹规划系统及方法，其克服了现有技术中存在的光刻机掩模台及硅片台在恒速扫描运动之间无最优轨迹的问题，实现最小化扫描运动之间的时间，提高系统的效率。本发明专利技术包括用于向轨迹规划模块提供初始控制数据的上位机控制系统，初始控制数据包括一个扫描的起始点、所需的距离和扫描的速度以及终止点；轨迹规划模块产生轨迹数据，轨迹数据包括位置状态信号、速度状态信号和加速状态信号，所述状态信号定义硅片台或掩模台在某一方向上的运动。本发明专利技术规划方法包括以下步骤：(1)接收关于扫描起点和终点、距离和速度的初始控制数据；(2)根据所述的初始控制数据设计所述部件的每个轴移动轨迹。迹。迹。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于步进扫描投影光刻机的轨迹规划系统及方法

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[0001]本专利技术属于集成电路制造技术
，涉及一种适用于步进扫描投影光刻机的轨迹规划系统及方法。

技术介绍
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[0002]许多工业过程都涉及沿着每一时刻的位置都被精确定义的轨迹移动。投影光刻就是上述过程中的一个例子。在投影曝光过程中，光源产生一个光束；该光束穿过掩模或者被掩模反射，以把掩模台上的图像传输到硅片的感光层上。
[0003]步进扫描投影光刻机在曝光的过程中使用扫描技术，把掩模上的图像投影到涂有光刻胶的硅片表面。扫描过程中经扫描狭缝移动掩模台以使掩模上的图案被曝光到在相反的方向上进行同步运动的硅片上。掩模和涂有光刻胶的硅片能进行一维或者多维的运动。
[0004]通常，数字化的轨迹能提升高精度多轴运动控制系统的效率。特别关注的是在掩模上的图案被成像且投影到硅片表面这一过程期间，步进扫描投影光刻机掩模及硅片所遵循的移动轨迹。整个硅片按顺序被逐场扫描曝光。每个场在曝光过程中，要求硅片和掩模以严格同步且恒定的速度经过光学成像系统的曝光场。硅片和掩模的速率比必须精确匹配本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于步进扫描投影光刻机的轨迹规划系统，其特征在于：包括用于向轨迹规划模块(115)提供初始控制数据(110)的上位机控制系统(105)，初始控制数据(110)包括一个扫描的起始点、所需的距离和扫描的速度以及终止点；轨迹规划模块(115)产生轨迹数据(120)，轨迹数据(120)包括位置状态信号(121)、速度状态信号(122)和加速状态信号(123)，所述状态信号定义硅片台或掩模台在某一方向上的运动。2.根据权利要求1所述的一种适用于步进扫描投影光刻机的轨迹规划系统，其特征在于：位置状态信号(121)为一个非等距离采样的二阶曲线，相应的速度状态信号(122)为一个非等距离采样的梯形信号，加速状态信号(123)包含一系列方形和/或矩形脉冲；位置状态信号(121)、速度状态信号(122)和加速状态信号(123)的关系表示为P＝P
i
+1/2At2+V
i
t和V＝V
i
+At，其中P
i
表示位置状态信号(121)，P表示一个位置信号，A表示加速状态信号(123)，V
i
表示速度状态信号(122)，V表示速度信号。3.一种适用于步进扫描投影光刻机的轨迹规划系统的规划方法，其特征在于：包括以下步骤：(1)接收关于扫描起点和终点、距离和速度的初始控制数据；(2)根据所述的初始控制数据设计所述部件的每个轴移动轨迹。4.根据权利要求3所述的一种适用于步进扫描投影光刻机的轨迹规划系统的规划方法，其特征在于：步骤(2)根据所述的初始控制数据设计所述部件的每个轴移动轨迹包括以下步骤：(1)调整恒速扫描长度以补偿滤波器宽度、稳定时间和量化；(2)计算在连续的恒速扫描之间的加速时间间隔；(3)在连续的恒速扫描之间...

【专利技术属性】
技术研发人员：李兰兰，李建超，张雄星，李越，
申请(专利权)人：西安工业大学，
类型：发明
国别省市：