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本发明为一种适用于步进扫描投影光刻机的轨迹规划系统及方法，其克服了现有技术中存在的光刻机掩模台及硅片台在恒速扫描运动之间无最优轨迹的问题，实现最小化扫描运动之间的时间，提高系统的效率。本发明包括用于向轨迹规划模块提供初始控制数据的上位机控制...
该专利属于西安工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安工业大学授权不得商用。

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