一种远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法。所述制备方法包括：在陶瓷抛釉砖的表面涂覆远红外纳米液，所述远红外纳米液含有麦饭石纳米颗粒。根据本发明专利技术，在抛光后的陶瓷抛釉砖表面涂覆远红外纳米液，使得砖面效果更好，表面粗糙度减小，防污性能变佳，同时使陶瓷抛釉砖具有高远红外功能，远红外法向释放率达到93%以上（8～22μm）。到93%以上（8～22μm）。到93%以上（8～22μm）。

【技术实现步骤摘要】
一种远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法，属于建筑陶瓷研发生产制造


技术介绍

[0002]近年来随着我国工业的快速发展，我国的经济实力迅速上升，人们对于生活质量的追求逐步提高，特别是对居住环境的要求更为苛刻。为了迎合市场企业推出众多装修产品如壁纸、漆、涂料等装饰材料，但是这些材料多为有机物且含有一定的有害物质例如苯、甲醛等，这些物质对人体造成一定伤害。另外日常环境中病毒和细菌无处不在，这对人类的健康发起挑战。远红外陶瓷砖具有一定的催化功能，能有效去除有机物挥发带来的苯、甲醛等，并具有杀菌功能。目前远红外抗菌陶瓷砖常见的制备方法是通过在釉料中加入远红外添加剂制备远红外釉料从而使瓷砖具有远红外抗菌功能，但是陶瓷砖经过高温烧制后可能使得釉料中远红外添加剂的作用大大减弱。原因是远红外釉料中的远红外添加剂多数是天然硅酸盐矿物，其化学成分主要是无机硅铝酸盐，除了含有陶瓷常见的八大元素及对应化合物(SiO2、Al2O3、Fe2O3、TiO2、CaO、MgO、K2O、Na2O)以外，还含有一些有机物质。如此使得远红外釉料高温烧制后材料中的元素成分和陶瓷的坯料釉料成分相互发生反应，导致远红外添加剂的成分和结构发生改变，远红外功能随之大大降低。

技术实现思路

[0003]针对上述问题，本专利技术的目的在于提供一种采用表面涂覆远红外纳米液来制备远红外陶瓷抛釉砖的方法以及由该方法制得的远红外陶瓷抛釉砖，实现了陶瓷远红外功能，其生产工艺简单，生产成本低，但是得到的产品远红外发射率较高。
[0004]第一方面，本专利技术提供一种远红外陶瓷抛釉砖的制备方法。所述制备方法包括：在陶瓷抛釉砖的表面涂覆远红外纳米液，所述远红外纳米液含有麦饭石纳米颗粒。
[0005]远红外线是一种电磁波，易被人体吸收，进入人体的远红外线便会引起原子和分子的振动，且和人体细胞的原子和分子振动频率一致，从而活化细胞，增进微循环，提高人体的代谢和免疫能力。根据本专利技术，在抛光后的陶瓷抛釉砖表面涂覆远红外纳米液，使得砖面效果更好，表面粗糙度减小，防污性能变佳，同时使陶瓷抛釉砖具有高远红外功能，远红外法向释放率达到93％以上(8～22μm)。不仅如此，该制备方法工艺简单，价格低廉，适合应用于工业领域。
[0006]较佳地，所述远红外纳米液的固含量为20％以下。将远红外纳米液的固含量控制在上述范围利于获得优异的远红外效果。
[0007]较佳地，所述麦饭石纳米颗粒的粒径≤20nm。
[0008]较佳地，所述远红外纳米液包括：按质量百分比计，麦饭石5
‑
10％、二氧化钛1
‑
5％、二氧化硅1
‑
5％、聚丙烯酸钠5
‑
10％、乙二醇3
‑
5％、2
‑
咪唑烷酮10
‑
15％、聚二甲基硅氧烷1
‑
5％、蒸馏水40
‑
75％。
[0009]较佳地，远红外纳米液涂覆量为5～10g/m2。远红外纳米液的涂覆量过多会导致砖面出现蜡痕等抛光缺陷。涂覆时砖坯温度控制在50～100℃。此温度范围同样为最佳抛光温度。温度过低或者温度太高都会导致烧蜡现象，砖面出现痕迹。
[0010]优选地，使用磨块以打磨的方式使远红外纳米液进入砖面。如果在抛光后的砖面上直接喷洒远红外纳米液，然后再施加蜡水，这样会导致砖面光泽不均匀，甚至出现水渍等痕迹。另外在砖面直接涂覆远红外纳米液会导致远红外材料的耐久性较差，不能实现理想的远红外效果。
[0011]较佳地，所述陶瓷抛釉砖的制备方法还包括：在陶瓷抛釉砖的表面涂覆远红外纳米液之前，在坯体上依次施面釉、喷墨打印图案、施抛釉、烧成、抛光。
[0012]较佳地，所述抛釉的矿物组成包括：按质量百分比计，钾长石：30％～45％，高岭土：4％～10％，碳酸钡：8％～15％，烧滑石：8％～15％，白云石：5％～10％，氧化锌：2％～8％，烧土：2％～8％，石灰石：3％～6％，硅灰石：2％～6％。
[0013]较佳地，所述抛釉的化学组成包括：按质量百分比计，SiO2：40～50％、Al2O3：10～15％、碱土金属氧化物：11～21％、碱金属氧化物：3～8.5％、ZnO：5～10％。
[0014]较佳地，所述抛光采用弹性磨块抛光，排列为240目4组，300目8组，400目8组，600目4组，800目4组，1000目4组，1500目4组，2000目4组，3000目8组。
[0015]较佳地，涂覆远红外纳米液后对陶瓷抛釉砖进行烘干和上保护蜡水。这样可以提高远红外材料的耐久性，同时掩盖打远红外纳米液可能带来的砖面缺陷，使砖面效果更好。
[0016]第二方面，本专利技术提供一种由上述任一项制备方法获得的远红外陶瓷抛釉砖。所述远红外陶瓷砖的远红外法向释放率≥93％。
附图说明
[0017]图1为实施例1远红外陶瓷抛釉砖的砖面效果图；图2为对比例1远红外陶瓷抛釉砖的砖面效果图；图3为对比例2远红外陶瓷抛釉砖的砖面效果图；图4为对比例3远红外陶瓷抛釉砖的砖面效果图。
具体实施方式
[0018]通过下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，下述实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。以下各百分含量如无特别说明均指质量百分含量。
[0019]本专利技术通过在陶瓷抛釉砖表面涂覆远红外纳米材料使得瓷砖具有远红外功能。以下示例性说明本专利技术远红外陶瓷抛釉砖的制备方法。
[0020]首先，制备坯体。坯体可通过本领域常用方法制备，例如先制备陶瓷坯体粉体，然后进行压机成型干燥。
[0021]然后，在坯体上施面釉。面釉的化学组成不受限制，采用常规的可遮盖坯体底色瑕疵的面釉即可。面釉的化学组成可包括：按质量百分比计，SiO2：60％～70％、Al2O3：15％～25％、K2O：2～5％、Na2O：1～3％。采用该面釉可以使得釉面发色效果更佳。一些实施方式中，面釉的化学组成可包括：按质量百分比计，SiO2：60％～70％、Al2O3：15％～25％、Fe2O3：0.2～0.5％、TiO2：0.2～0.3％、CaO：0.3～0.8％、MgO：0.1～0.3％、K2O：2～5％、Na2O：1～3％、
烧失：1～1.5％。
[0022]例如，所述面釉的原料组成可包括：按质量百分比计，长石：30％～50％，高岭土5％～10％，石英砂10％～20％，硅酸锆5％～15％，煅烧高岭土1％～5％，氧化铝1％～5％。
[0023]面釉可采用喷釉或淋釉方式施釉。喷釉工艺参数为比重1.35～1.45g/cm3，重量为450～650g/m2。采用该喷釉工艺参数可以减少釉面缺陷。
[0024]接着，在面釉上喷墨打印机打印砖面图案。
[0025]然后，施抛釉。抛釉的化学组成可包括：按质量百分比计，SiO2：40～50％、Al2O3：10～15％、碱土金属氧化物：11～21％、碱金属氧化本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种远红外陶瓷抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：在陶瓷抛釉砖的表面涂覆远红外纳米液，所述远红外纳米液含有麦饭石纳米颗粒。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述远红外纳米液的固含量为20%以下；优选地，所述麦饭石纳米颗粒的粒径≤20nm。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述远红外纳米液包括：按质量百分比计，麦饭石5
‑
10%、二氧化钛1
‑
5%、二氧化硅1
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5%、聚丙烯酸钠5
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10%、乙二醇3
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5%、2
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咪唑烷酮10
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15%、聚二甲基硅氧烷1
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5%、蒸馏水40
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75%。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述远红外纳米液的涂覆量为5～10g/m2，涂覆时砖坯温度控制在50～100℃；优选地，...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘一军，王贤超，郑贵友，杨元东，张克林，
申请(专利权)人：蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：