废气除害单元制造技术

大幅消除从前级管道配管至热分解塔的废气路径的堵塞。废气除害单元(U)包括真空泵(1)、废气导入喷嘴部(20)、废气清洗部(40)。废气导入喷嘴部(20)包括：废气喷嘴(21)；保护气体喷嘴(25)，形成包围来自废气喷嘴(21)的废气(H)的保护气帘(Gk)；以及水分喷出喷嘴(27)，包围保护气帘(Gk)。废气清洗部(40)包括上述水槽(41)和搅拌部(46)。水槽(41)是在内部贮存有清洗用水(M)的中空容器，连接有废气导入喷嘴部(20)。水槽(41)的水(M)与其顶壁部(41a)之间的空间为供废气(H)流通的流通空间(45)。搅拌部(46)包括从水槽(41)的顶壁部(41a)垂设且下部浸渍在水槽(41)内的水(M)中的第一堰(47)、和设置在上述第一堰(47)的下游且上部在比上述水(M)靠上部的位置露出的第二堰(48)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】废气除害单元
本专利技术涉及对从半导体、液晶等的电子器件的制造工艺排出的废气进行无害化并向大气放出的废气除害单元，更详细而言，涉及能够大幅缓和该废气中含有的粉尘、反应生成物导致的废气通路中的配管、设备内部的堵塞的废气除害单元。
技术介绍
在半导体、液晶等的电子器件的制造工艺中，使用了多种有害或具有易燃性、爆炸性的危险度高的气体、成为臭氧层破洞的原因等的地球环境破坏气体。作为地球环境破坏气体，例如可举出包含作为CVD腔室的清洁气体而使用的CF4及C2F6那样的全氟碳、NF3那样的不含碳的氟化合物等全氟化合物(以下，称为“PFC”)的各种化合物的气体。在电子器件制造工厂中，通常在上层的无尘室内设置有CVD那样的制造装置和机械增压泵，在下层单个地设置有例如由螺旋式真空泵、入口洗涤器、热分解塔、出口洗涤器等构成的一系列的废气除害设备类，它们通过配管连接(专利文献1、2)。而且，经由机械增压泵，上层的制造装置的工艺腔室与下层的螺旋式真空泵被配管连接，工艺腔室内的废气被上述真空泵吸引。从工艺腔室出来的废气包含在设备制造工艺中生成的反应生成成分(例如，水溶性成分、与水分反应而生成大量粉尘的水解性气体)。在下层中，依次配管连接有与上述真空泵连续地设置，用于利用喷淋对从上述真空泵排出的废气进行水清洗而去除上述水溶性成分、水解性成分，并且捕集通过反应而产生的粉尘的入口洗涤器、收容从上述入口洗涤器流出的清洗用的水的水槽、设置于该水槽之上，对被水清洗后的上述废气进行热分解的热分解塔、将在该热分解塔中产生且除害废气中所含的反应生成成分(酸性成分、粉尘等)去除的出口洗涤器等。作为废气除害用的热分解塔，已知有利用电加热器的热将废气分解的加热分解式的热分解塔(专利文献2)、使废气通过等离子体空间进行等离子体分解处理的等离子体式的热分解塔等(专利文献3)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016-33364号公报专利文献2：日本特开平11-333247号公报专利文献3：日本专利第5307556号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题如上所述，废气中有时含有水解性成分，该水解性成分从工艺腔室排出，在向下游的废气除害设备流动的期间，与废气除害设备的配管内或设备类内的水分反应而产生反应生成物，该反应生成物附着在配管内或设备类的内表面并成长，最终会引起在废气流路的某个部分堵塞该废气流路的闭塞事故。就以往的废气除害设备而言，用户单个地购入真空泵、入口洗涤器、热分解塔、出口洗涤器、清洗水回收用的水槽等设备类以及它们的连接配管，并在本社的电子器件制造工厂内进行组装。在该情况下，存在以下那样的问题。(1)由于构成废气除害设备的单个装置被分散地配置并被配管连接，因此废气除害单元的设置面积容易扩大。(2)用户一边确认性能一边单个地购入上述机器类、连接配管，但若分散地购入，则作为设备整体，在维护管理方面难以取得统一，如果存在弱点部分，则该部分的维护被集中地要求，难以进行维护管理。例如，存在这样的问题：在将电子器件制造装置的工艺腔室经由真空泵与入口洗涤器连结的被称为前级管道的配管中，包含在废气中的水解性成分与入口洗涤器的喷淋水反应，其反应生成物堆积在喷淋出口，将喷淋出口在短时间内闭塞，或者上述喷淋水的水分在流经前级管道配管内的废气中进行逆渗透并在前级管道配管中反应，反应生成物附着生长在前级管道配管的内表面而在短时间内闭塞前级管道配管。(3)而且，若对来自工艺腔室的废气进行水清洗，则产生大量的粉尘，其与清洗废气一起被带入热分解塔，也有时在热分解塔内部产生堵塞。本专利技术是鉴于这样的现有系统的问题而完成的，第一课题在于，大幅地消除从前级管道配管至热分解塔的废气路径的堵塞，从而能够进行长时间的连续作业，第二课题在于，在统一全部构成要素的设计思想下构建成废气除害单元，实现将它们组装于1个框体内的汇集化，由此实现设置面积的省空间化。用于解决课题的技术方案为了解决上述课题，本专利技术(技术方案1)的废气除害单元U的特征在于，包括：真空泵1，从半导体制造装置200的工艺腔室201吸引废气H；废气导入喷嘴部20，对从该真空泵1排出的废气H进行水清洗；以及废气清洗部40，对由该废气导入喷嘴部20进行水清洗而排出的清洗废气H所包含的夹杂物进行捕集，并将所述清洗废气H向接下来的废气分解工序送出，所述废气导入喷嘴部20包括：废气喷嘴21，将废气H导入废气清洗部40；保护气体喷嘴25，喷出将从所述废气喷嘴21喷出的废气H包围的保护气体G而形成保护气帘Gk；以及水分喷出喷嘴27，包围从所述保护气体喷嘴25喷出的保护气帘Gk，所述废气清洗部40包括所述水槽41和搅拌部46，所述水槽41是在水平方向上延伸且在内部贮存有清洗用的水M的中空容器，包括：废气H的导入开口41c，连接有废气导入喷嘴部20的出口；以及流通空间45，是所述水M与所述水槽41的顶壁部41a之间的空间，供废气H流通并将该废气H送入到废气分解工序，所述搅拌部46包括：第一堰47，从水槽41的顶壁部41a垂设，下部浸渍在水槽41内的水M中，在所述浸渍部分设置有废气通过路47a；以及第二堰48，在所述第一堰47的下游，通过了所述废气通过路47a的废气H经由搅拌所述水M的搅拌区域49而设置，上部在比所述水M靠上部的位置露出。由此，从废气喷嘴21喷出的废气H在被保护气帘Gk保护的范围内与来自水分喷出喷嘴27的水分M的接触被遮断，因此，若不存在因基于废气H的水解性成分与水分M的接触的反应而生成的粉尘等反应生成物附着于废气喷嘴21而堵塞废气喷嘴21这样的情况，则不会使在废气喷嘴21流动的废气H逆渗透而闭塞废气喷嘴21的上游侧的废气路径。并且，从废气导入喷嘴部20出来的清洗废气H被导入到废气清洗部40的水槽41内，与水槽41内的水M一起被搅拌部46搅拌，由此废气中含有的粉尘以及其它的夹杂物被有效地捕集于水M，且作为不含夹杂物的清洗废气H被送入下一工序。需要说明的是，在本专利技术中，所谓水分，含有水、雾、蒸气、洒水等，全部用附图标记M表示。技术方案2根据技术方案1所述的废气除害单元U，其特征在于，废气导入喷嘴部20还包括飞散构件30，该飞散构件30在从废气喷嘴21离开的位置超出保护气帘Gk，且设置在从所述废气喷嘴21喷出的废气H与来自水分喷出喷嘴27的水分M碰撞的位置，在所述废气H、保护气体G及水分M碰撞后使它们向周围分散。由此，高效地进行废气H与水分M的气液接触，废气H中的水解性成分的大半在此被分解，产生大量的粉尘。技术方案3根据技术方案1或2所述的废气除害单元U，其特征在于，真空泵1由机械增压泵2和粗抽泵4构成，该机械增压泵2与从半导体制造装置200的工艺腔室201引出的第一前级管道配管P1连接，该粗抽泵4设置在所述机械增压泵2的下方，与从机械增压泵2引出的第二前级管道配管P2连接，在从所述粗抽泵4引出的第三前级管道配管P3连接有废气导本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种废气除害单元，其特征在于，/n该废气除害单元包括：真空泵，从半导体制造装置的工艺腔室吸引废气；废气导入喷嘴部，对从该真空泵排出的废气进行水清洗；以及废气清洗部，对由该废气导入喷嘴部进行水清洗而排出的清洗废气所包含的夹杂物进行捕集，并将所述清洗废气向接下来的废气分解工序送出，/n所述废气导入喷嘴部包括：废气喷嘴，将废气导入废气清洗部；保护气体喷嘴，喷出将从所述废气喷嘴喷出的废气包围的保护气体而形成保护气帘；以及水分喷出喷嘴，包围从所述保护气体喷嘴喷出的保护气帘，/n所述废气清洗部包括所述水槽和搅拌部，/n所述水槽是在水平方向上延伸且在内部贮存有清洗用的水的中空容器，包括：废气的导入开口，连接有废气导入喷嘴部的出口；以及流通空间，是所述水与所述水槽的顶壁部之间的空间，供废气流通并将该废气送入到废气分解工序，/n所述搅拌部包括：第一堰，从水槽的顶壁部垂设，下部浸渍在水槽内的水中，在所述浸渍部分设置有废气通过路；以及第二堰，在所述第一堰的下游，通过了所述废气通过路的废气经由搅拌所述水的搅拌区域而设置，上部在比所述水靠上部的位置露出。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种废气除害单元，其特征在于，
该废气除害单元包括：真空泵，从半导体制造装置的工艺腔室吸引废气；废气导入喷嘴部，对从该真空泵排出的废气进行水清洗；以及废气清洗部，对由该废气导入喷嘴部进行水清洗而排出的清洗废气所包含的夹杂物进行捕集，并将所述清洗废气向接下来的废气分解工序送出，
所述废气导入喷嘴部包括：废气喷嘴，将废气导入废气清洗部；保护气体喷嘴，喷出将从所述废气喷嘴喷出的废气包围的保护气体而形成保护气帘；以及水分喷出喷嘴，包围从所述保护气体喷嘴喷出的保护气帘，
所述废气清洗部包括所述水槽和搅拌部，
所述水槽是在水平方向上延伸且在内部贮存有清洗用的水的中空容器，包括：废气的导入开口，连接有废气导入喷嘴部的出口；以及流通空间，是所述水与所述水槽的顶壁部之间的空间，供废气流通并将该废气送入到废气分解工序，
所述搅拌部包括：第一堰，从水槽的顶壁部垂设，下部浸渍在水槽内的水中，在所述浸渍部分设置有废气通过路；以及第二堰，在所述第一堰的下游，通过了所述废气通过路的废气经由搅拌所述水的搅拌区域而设置，上部在比所述水靠上部的位置露出。


2.根据权利要求1所述的废气除害单元，其特征在于，
废气导入喷嘴部还包括飞散构件，该飞散构件在从废气喷嘴离开的位置超出保护气帘，且设置在从所述废气喷嘴喷出的废气与来自水分喷出喷嘴的水分碰撞的位置，在所述废气、保护气体及水分碰撞后使它们向周围分散。


3.根据权利要求1或2所述的废...

【专利技术属性】
技术研发人员：池奥哲也，
申请(专利权)人：北京康肯环保设备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11