A method for controlling a manufacturing device, wherein the method comprises the following steps: (a) to identify at least one input, wherein the at least one input to at least two output multiple output of change; (b) experience store the output values of the identified inputs and the corresponding value and predicted output values among them, the predicted output values are partially identified based on the input value; (c) by minimizing a score equation to calculate a set of transform coefficients, the score equations are in part of one or more of the experience output function of differences between the predicted output values and their corresponding the value of the score equation is: S: P = W *: I, K (Y: actual = IK - Y: P Redicted = IK (I = * ': (* = I, *))) = 2: I the number of wafers; k output quantity; Y: actual: Y: Empirical output values; predicted forecast the output value is in accordance with the specific input transform chip based on I (* = I' \) to calculate; I: = = * '(X: 1 = I', X: 2 = I ', X: 3 = I'\) is to transform the input vector in the form of value; * = I = (X: 1 = I = 2, X: I, X: 3 = I) for I wafer together with transformation parameters *, Therefore, the optimal values of * are computed; and (d) one or more input values are calculated for one or more desired output values based on the calculated set of transform coefficients in part.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对工艺进行建模和控制的方法、系统和介质。更具体地,本专利技术涉及对具有多变量输入参数的半导体处理设备进行建模和控制。
技术介绍
在制造包括精确的分立部件的产品(例如硅衬底上的微电子芯片)时,控制制造工艺扮演着重要的角色。控制这样的工艺可要求,尤其是要监视所制造部件(例如被处理的晶片,此后被称为输出)的特征并据此调整输入参数。通过调整输入参数的值,可以产生不同类型的输出,并且可控制输出的特征。为了使制造工艺的控制自动化,可以使用处理设备的数学模型。这种模型的一个例子被称为预测模型。这个模型被用于基于历史信息(例如输入参数值和对应的输出质量)来预测未来的输出值(例如产品的特征)。一个这样的预测模型是偏移技术,如图1中所示。特别地,大量输入参数101的值被输入/输出依赖模型103接收,输入/输出依赖模型103基于输入值计算预测输出值y1Pred105。然后校正算子109比较输入参数的给定值的预测值y1Pred和实际输出值y1a107。如果预测输出值和实际输出值在确定的范围内相互类似,那么就不改变输入/输出依赖模型103。如果预测的和实际输出值相互不同( ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员:Y·科科托夫,E·延京,J·塞罗尔,Y·菲舍尔,S·萨雷尔,A·P·桑穆加桑德拉姆,A·T·施瓦姆,Y·J·派克,
申请(专利权)人:应用材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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