全息图记录介质的间隙层用膜及全息图用记录介质制造技术

本发明专利技术的目的是提供一种由具有高耐热性的聚碳酸酯共聚物构成的全息图记录介质用的膜。即，本发明专利技术提供一种全息图记录介质的间隙层用膜及具有该膜的全息图记录介质，该膜由聚碳酸酯共聚物构成，该聚碳酸酯共聚物由结构单元（Ａ）与结构单元（Ｂ）构成，在全部结构单元中，结构单元（Ａ）的比例为２０～９０摩尔％，其中，结构单元（Ａ）用上式［１］表示，（式中，Ｒ↑［１］～Ｒ↑［４］分别独立，表示氢原子、含有或不含有芳香族基的碳原子数１～９的烃基或卤原子），结构单元（Ｂ）用上式［２］表示。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及全息图记录介质的间隙层用膜以及全息图用记录介质。
技术介绍
能够进行三维信息记录的全息图记录介质，与光磁记录介质或相变化光 记录介质等相比，是一种可实现大容量 高速传送的光记录技术。全息图的记录再生方式如下所示，作为二维图像而照射赋予信息的信息 光与参照光并使其发生干涉，利用形成的干涉图案使在记录层内部产生折射 率等的光学特性分布，由此记录信息。再生时，通过仅照射参照光，使具有 对应记录的干涉图案的光学特性分布的再生光在记录层上照出。作为该全息图记录介质的记录层，已知，通常，在自由基聚合性化合物 及光自由基聚合引发剂之外，还具有三维交联聚合物基体(例如，专利文献 1)。三维交联聚合物基体，具有抑制自由基聚合性化合物的过量移动，从 而抑制记录层中相当于亮部的位置及相当于暗部的位置的体积变化的功能。 作为三维交联聚合物基体材料，可以举出环氧化合物、来自阳离子聚合性单体的反应固化物等(例如，专利文献2)。另外，作为全息图记录介质的结构，已经进行了各种研究，提出了如图 l所示的全息图记录介质(例如，专利文献3、 4、 5)。在支撑体第二基板l 表面上设置伺服凹坑图案8，在该伺服凹坑图案8表面上层积由金属反射膜 构成的反射层2。进一步，在反射层2与过滤器层4之间，设置为了使第二 基板1平坦化的间隙层3。即，在过滤器层4上，依次层积保护层5、记录 层6、透光性第一基板7，从而制成。作为构成全息图记录介质的间隙层3上使用的基材，提出了从双酚A得 到的聚碳酸酯树脂(下面标记为PC—A)形成的光学膜。该膜透明性、尺寸 稳定性、耐加水分解性优异，因此被作为位相差膜、光盘用罩膜(cover film) 等的光学用基材而被广泛应用。但是，在上述全息图记录介质中，在使用由PC-A构成的光学膜用于间4隙层3的情形，在间隙层3上使用粘结剂或粘接剂等以寻求第二基板1的表 面平坦性，但由于在间隙层3上层积过滤器层4等或层积记录层时产生的热， 间隙层3发生变形，从而使层积的过滤器层4上发生皲裂等的缺陷等。另外， 由于发生变形，间隙层3的厚度变的不均一，因此，破坏第二基板l的表面 平坦性，因而成为问题。因此，对于间隙层中使用的光学膜，需要寻求其具有耐热性。(专利文献l) JP特开平11一161137号公报(专利文献2) JP特开2005 — 107312号公报(专利文献3) JP特开2004—265472号公报(专利文献4) JP特开2007—93799号公报(专利文献5) JP特开2007—79164号公报
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种全息图记录介质的间隙层用膜，该膜由耐热性 优异并且透明性、光学特性优异的聚碳酸酯树脂构成。另外，本专利技术的目的 是提供一种全息图记录介质，其不会由于在层积过滤器层时或层积记录层时 的热而引起间隙层变形，在层积的过滤器层上不会产生皲裂等的缺陷。为了解决上述课题，本专利技术提供下述方案。1. 一种全息图记录介质的间隙层用膜，其由聚碳酸酯共聚物构成，该聚 碳酸酯共聚物由结构单元(A)与结构单元(B)构成，在全部结构单元中， 结构单元(A)的比例为20 90摩尔％，其中，结构单元(A)用下式表示，(式中，^ 114分别独立，表示氢原子、含有或不含有芳香族基的碳原 子数1~9的烃基或卤原子)5结构单元(B)用下式表示，1 2. 按照上述l所述的膜，其中，聚碳酸酯共聚物的全部结构单元中的结 构单元(A)的比例为30 80摩尔％。3. 按照上述1或2所述的膜，其中，聚碳酸酯共聚物的玻璃化转变温度 为18(TC以上。4. 按照上述1 3中任一项所述的膜，其中，厚度为20 200um，并且厚 度不匀值为±5%以下。5. 按照上述1~4中任一项所述的膜，其中，在16(TC下加热处理1小时 后的热尺寸变化率为0.08%以下，并且表面的微小突起数为20个/mm2以下。6. 按照上述1 5中任一项所述的膜，其中，面内迟延为20nm以下，厚 度方向的迟延为60nm以下。7. 按照上述1~6中任一项所述的膜，其中，中心线平均表面粗糙度为 5nm以下o8. —种全息图记录介质，该全息图记录介质将作为二维图像被赋予了信 息的信息光和能够干涉信息光的参照光进行重合，并利用全息图来记录信 息，该全息图记录介质由作为支撑体的第二基板、反射层、间隙层、保护层、 过滤器层、记录层以及透光性的第一基板构成，其特征在于，该间隙层为上 述1 7所述的膜。9. 按照上述8所述的全息图记录介质，其中，使信息光的光轴与参照光 的光轴同轴来照射信息光及参照光。10. 按照上述8或9所述的全息图记录介质，其中，第二基板具有为了 检出伺服信息而形成的伺服凹坑图案。11. 按照上述8 10中任一项所述的全息图记录介质，其中，第二基板在 伺服凹坑图案上形成反射膜。12. 按照上述8 11中任一项所述的全息图记录介质，其中，反射层为金属反射膜。13. 按照上述8 12中任一项所述的全息图记录介质，其中，过滤器层与 反射膜之间设置间隙层，并使第二基板表面平坦化。14. 按照上述8 13中任一项所述的全息图记录介质，其中，间隙层是通 过贴合光学用膜而形成。15. 按照上述8 14中任一项所述的全息图记录介质，其中，过滤器层是 由分色镜形成的层或胆甾型液晶形成的层，该过滤器层具有波长选择性能。16. 按照上述8 15中任一项所述的全息图记录介质，其中，过滤器层含 有颜料以及染料中至少任意之一的着色材料。17. 按照上述8 16中任一项所述的全息图记录介质，其中，在过滤器层 上形成保护层、记录层、透光性第一基板。18. 按照上述8 17中任一项所述的全息图记录介质，其中，第一基板以 及第二基板是聚碳酸酯树脂或玻璃。19. 按照上述8~18中任一项所述的全息图记录介质，采用通过照射信息 光和参照光并使其干涉而形成的干涉图案在记录层上记录信息的方式，其 中，采用下述方式，即照射与信息光及参照光不同波长的伺服用光，通过该 伺服用光的焦点距离检测出记录的干涉图案的位置信息。附图说明图1是表示直线式使用的全息图记录介质、其信息光及参照光的概要图, 其中，附图标记说明如下 1第二基板 3间隙层 5保护层 7第一基板9伺服用光(红色激光)2反射层4过滤器层6记录层8伺服凹坑图案10信息光/参照光(绿色或蓝色激光)具体实施例方式以下，详细说明本专利技术。 <聚碳酸酯共聚物>对构成全息图记录介质的间隙层进行了悉心研究，其结果是发现，通过使用由聚碳酸酯共聚物构成的光学膜，能够显示出比现有技术的PC-A更高 的耐热性，该聚碳酸酯共聚物由结构单元(A)与结构单元(B)构成，结构 单元(A)由用上式表示的二元酚衍生，结构单元(B)由用上式表示 的二元酚衍生。由上述研究结果可知，在全部结构单元中结构单元(A)的比例为20 90 摩尔％的聚碳酸酯共聚物满足上述课题。即，其是具有高的耐热性的聚碳酸 酯共聚物，并且由该聚碳酸酯共聚物构成的光学膜用于构成上述全息图记录 介质的间隙层，在层积过滤器层时或层积记录层时产生的热不会引起间隙层 变形，并且，在过滤器层上不会产生皲裂等的缺陷。该结构单元(A)，可举出下式。(式中，&~114分别独立，表示氢原子、含有或不含有芳香族基的碳本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全息图记录介质的间隙层用膜，其由聚碳酸酯共聚物构成，该聚碳酸酯共聚物由结构单元（Ａ）与结构单元（Ｂ）构成，在全部结构单元中，结构单元（Ａ）的比例为２０～９０摩尔％，其中，　结构单元（Ａ）用下式［１］表示，　＊＊＊　［１］　 　式中，Ｒ↑［１］～Ｒ↑［４］分别独立，表示氢原子、含有或不含有芳香族基的碳原子数１～９的烃基或卤原子，　结构单元（Ｂ）用下式［２］表示，　＊＊＊　［２］。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：常守秀幸，
申请(专利权)人：帝人化成株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]