一种使薄膜形成图案的方法技术

一种使薄膜形成图案的方法，包括：在基底上沉积中间辐射敏感层；在该中间层上沉积该薄膜－－在沉积该薄膜之前或之后：使该中间层曝光于图案化的辐射以引发其中的化学反应；以及除去该中间层和相应薄膜的图案化辐射所限定的部分，以在基底上留下图案化的薄膜和图案化的中间层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】第1/15页0001本专利技术涉及，具体而言，但不限于， 一种选择性地使基底上的有机薄膜形成图案的方法。0002人们对于允许可重复地且低成本地在薄膜结构中产生微 米分辨率"图形"或几何特征的图案形成技术具有相当大的兴趣。对 于基于有机半导体的电子器件、光电器件和光学器件的制造来说，这 些技术是特别令人感兴趣的。由于它们在显示系统、成像系统、分析 系统、通信系统和传感系统上的应用，这些材料已经引起了关注，其 中与柔性基底相容的高生产量、低温制造是商业化的主要驱动力。0003这种通过要形成图案的薄膜的沉积、接着通过传统的照 相平版法、电子束平版印刷术和X射线平版印刷术而形成高分辨图案 化薄膜的方法已很完善，并且通常用于制造无机半导体器件诸如硅集 成电路。普通的方法是触点形成图案法、电互连形成图案法和绝缘体 形成图案法。各情形中的重要界面是要形成图案的薄膜与下面的无机 半导体晶片之间的界面，无机半导体晶片通常是高温下制备的晶体材 料。传统的平版印刷术涉及在要形成图案的薄膜(被称为活性层)上 面提供诸如负性光致抗蚀剂。辐射后，未曝光的光致抗蚀剂必须被去 除，然后不再受去除的光致抗蚀剂保护的未曝本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种使薄膜形成图案的方法，其包括：　在基底上沉积中间辐射敏感层；　将所述薄膜沉积在所述中间层上；　在沉积所述薄膜之前或之后：　使所述中间层曝光于图案化辐射，以引发其中的化学反应；和　去除所述中间层的图案化辐射限定的部分和相应的薄膜，留下所述基底上的图案化薄膜和图案化中间层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：J德梅洛，D布拉德利，J黄，
申请(专利权)人：帝国创新有限公司，
类型：发明
国别省市：GB[英国]