一种铜制品的抛光方法技术

技术编号:27487974 阅读:21 留言:0更新日期:2021-03-02 18:04
本发明专利技术涉及一种铜制品的抛光方法,包括以下步骤:步骤1,将待抛光的铜制品表面用清洗液清洗,清洗后干燥形成干燥产品;步骤2,将所述干燥产品通过研料抛光,抛光的过程中,在铜制品附近增加磁场。本发明专利技术提供的铜制品的抛光方法,在抛光的过层中在铜制品附近增加磁场,由于抛光的过程中研料与铜制品表面产生摩擦,使得铜制品表面产生的铜粉带有电荷,进而在抛光的过程中铜粉受磁场作用被吸附,使得铜粉不容易与研料混合阻止研料与铜制品表面的接触,抛光效果好。光效果好。

【技术实现步骤摘要】
一种铜制品的抛光方法


[0001]本专利技术涉及铜制品加工
,特别涉及一种铜制品的抛光方法。

技术介绍

[0002]铜制品是采用纯铜或铜合金为主要原料加工而成的产品,在对铜制品加工的过程中,抛光是一个重要的环节,其抛光的好坏直接影响铜制品的质量,现有的铜制品抛光方法一般是在打磨后用使用研料或抛光轮等对铜制品表面进行修饰加工,这种方式存在以下问题:在抛光的过程由于铜的延展性较好,因此在加工的过程中,铜粉容易与研料混合或者附着在抛光轮表面阻止研料或抛光轮与铜制品表面的接触,如何解决该问题,人们一直探究。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种铜制品的抛光方法,以解决上述的技术问题。
[0004]本专利技术的一个技术方案为:
[0005]一种铜制品的抛光方法,包括以下步骤:步骤1,将待抛光的铜制品表面用清洗液清洗,清洗后干燥形成干燥产品;
[0006]步骤2,将所述干燥产品通过研料抛光,抛光的过程中,在铜制品附近增加磁场。
[0007]优选的,所述步骤2中还包括以下步骤:
[0008]步骤3,间隔一定时间后暂停对干燥产品的抛光,对研料振动处理。
[0009]优选的,间隔时间为2-5分钟。
[0010]优选的,所述步骤1之后还包括:
[0011]步骤11,向干燥产品表面送风。
[0012]本专利技术提供的铜制品的抛光方法,在抛光的过层中在铜制品附近增加磁场,由于抛光的过程中研料与铜制品表面产生摩擦,使得铜制品表面产生的铜粉带有电荷,进而在抛光的过程中铜粉受磁场作用被吸附,使得铜粉不容易与研料混合阻止研料与铜制品表面的接触,抛光效果好。
[0013]本专利技术的另一个技术方案为:一种铜制品的抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:
[0014]步骤1,将待抛光的铜制品表面用清洗液清洗,清洗后干燥形成干燥产品;
[0015]步骤2,将所述干燥产品通过抛光轮抛光,抛光的过程中,在铜制品附近增加磁场。
[0016]优选的,所述步骤1之后还包括:
[0017]步骤11,向干燥产品表面送风。
[0018]本专利技术提供的铜制品的抛光方法,在抛光的过层中在铜制品附近增加磁场,由于抛光的过程中抛光轮与铜制品表面产生摩擦,使得铜制品表面产生的铜粉带有电荷,进而在抛光的过程中铜粉受磁场作用被吸附,使得铜粉不容易附着在抛光轮上阻止抛光轮与铜制品表面的接触,抛光效果好。
具体实施方式
[0019]以下对本专利技术的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。
[0020]实施例1,一种铜制品的抛光方法,包括以下步骤:步骤1,将待抛光的铜制品表面用清洗液清洗,清洗后干燥形成干燥产品;
[0021]步骤2,将所述干燥产品通过研料抛光,抛光的过程中,在铜制品附近增加磁场;
[0022]在步骤2中,间隔一定时间后暂停对干燥产品的抛光,对研料振动处理。
[0023]本专利技术提供的铜制品的抛光方法,在抛光的过层中在铜制品附近增加磁场,由于抛光的过程中研料与铜制品表面产生摩擦,使得铜制品表面产生的铜粉带有电荷,进而在抛光的过程中铜粉受磁场作用被吸附,使得铜粉不容易与研料混合阻止研料与铜制品表面的接触,抛光效果好,此外,由于少部分铜粉会受研料阻挡而掺杂在研料中,为此,间隔一定时间后暂停对干燥产品的抛光,对研料振动处理,使得铜粉有一定的动力并且与研料分开,从而进一步去除研料中的铜粉,使得铜粉更不容易与研料混合阻止研料与铜制品表面的接触,抛光效果好。
[0024]上述方案中,间隔时间一般为2-5分钟即可。
[0025]实施例2,一种铜制品的抛光方法,包括以下步骤:步骤1,将待抛光的铜制品表面用清洗液清洗,清洗后干燥形成干燥产品;
[0026]步骤2,将所述干燥产品通过研料抛光,抛光的过程中,在铜制品附近增加磁场;
[0027]步骤11,向干燥产品表面送风。
[0028]本专利技术提供的铜制品的抛光方法,在抛光的过层中在铜制品附近增加磁场,由于抛光的过程中研料与铜制品表面产生摩擦,使得铜制品表面产生的铜粉带有电荷,进而在抛光的过程中铜粉受磁场作用被吸附,使得铜粉不容易与研料混合阻止研料与铜制品表面的接触,抛光效果好,此外,由于少部分铜粉会受研料阻挡而掺杂在研料中,为此,在抛光的过程中向干燥产品表面送风,使得铜粉有一定的动力并且与研料分开,从而进一步去除研料中的铜粉,使得铜粉更不容易与研料混合阻止研料与铜制品表面的接触,抛光效果好,一般可使用微风送风装置送风即可。
[0029]实施例3,一种铜制品的抛光方法,包括以下步骤:步骤1,将待抛光的铜制品表面用清洗液清洗,清洗后干燥形成干燥产品;
[0030]步骤11,向干燥产品表面送风;
[0031]步骤2,将所述干燥产品通过研料抛光,抛光的过程中,在铜制品附近增加磁场。
[0032]本专利技术提供的铜制品的抛光方法,在抛光的过层中在铜制品附近增加磁场,由于抛光的过程中研料与铜制品表面产生摩擦,使得铜制品表面产生的铜粉带有电荷,进而在抛光的过程中铜粉受磁场作用被吸附,使得铜粉不容易与研料混合阻止研料与铜制品表面的接触,抛光效果好,此外,由于少部分铜粉会受研料阻挡而掺杂在研料中,为此,在抛光的过程中向干燥产品表面送风,使得铜粉有一定的动力并且与研料分开,从而进一步去除研料中的铜粉,使得铜粉更不容易与研料混合阻止研料与铜制品表面的接触,抛光效果好,一般可使用微风送风装置送风即可。
[0033]实施例4,一种铜制品的抛光方法,包括以下步骤:步骤1,将待抛光的铜制品表面用清洗液清洗,清洗后干燥形成干燥产品;
[0034]步骤2,将所述干燥产品通过研料抛光,抛光的过程中,在铜制品附近增加磁场并且向干燥产品表面送风。
[0035]本专利技术提供的铜制品的抛光方法,在抛光的过层中在铜制品附近增加磁场,由于抛光的过程中研料与铜制品表面产生摩擦,使得铜制品表面产生的铜粉带有电荷,进而在抛光的过程中铜粉受磁场作用被吸附,使得铜粉不容易与研料混合阻止研料与铜制品表面的接触,抛光效果好,此外,由于少部分铜粉会受研料阻挡而掺杂在研料中,为此,在抛光的过程中向干燥产品表面送风,使得铜粉有一定的动力并且与研料分开,从而进一步去除研料中的铜粉,使得铜粉更不容易与研料混合阻止研料与铜制品表面的接触,抛光效果好,一般可使用微风送风装置送风即可。
[0036]实施例5,一种铜制品的抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:
[0037]步骤1,将待抛光的铜制品表面用清洗液清洗,清洗后干燥形成干燥产品;
[0038]步骤2,将所述干燥产品通过抛光轮抛光,抛光的过程中,在铜制品附近增加磁场;
[0039]步骤11,向干燥产品表面送风。
[0040]本专利技术提供的铜制品的抛光方法,在抛光的过层中在铜制品附近增加磁场,由于抛光的过程中抛光轮与铜制品表面产生摩擦,使得铜制品表本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铜制品的抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,将待抛光的铜制品表面用清洗液清洗,清洗后干燥形成干燥产品;步骤2,将所述干燥产品通过研料抛光,抛光的过程中,在铜制品附近增加磁场。2.根据权利要求1所述的铜制品的抛光方法,其特征在于,所述步骤2中还包括以下步骤:间隔一定时间后暂停对干燥产品的抛光,对研料振动处理。3.根据权利要求2所述的铜制品的抛光方法,其特征在于,间隔时间为2-5分钟。4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:邵云林
申请(专利权)人:扬州宜拓金属有限公司
类型:发明
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