利用毛细作用力在基体上形成微型图案的方法技术

在使用带有预定图案结构的模具在基体上形成微型图案的方法中，制备一个模具，该模具带有包括凹陷部分和突起部分的预定图案结构。在基体上沉积聚合物材料。然后，控制模具的突起部分与聚合物材料接触，且利用聚合物材料的毛细作用力，使与模具的突出部分接触的聚合物材料渗入到其凹陷部分的敞空部分，从而去除与模具的突起部分接触的聚合物材料。之后，拆除该模具使基体的顶表面的部分暴露出来，从而在基体上形成聚合物微型图案。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在基体如硅片、陶瓷、金属或聚合物层上形成微型图案的方法；尤其涉及一种在制造集成电路、电子设备、光学仪器、表面消声器等时利用毛细作用力形成尺寸为1μm至数十纳米的超微型图案的方法。
技术介绍
在基体上形成微型图案以制造如半导体、电子、光电子和磁显示设备，是本领域众所周知的。传统的微型图案形成方法之一就是利用光的光刻技术。在光刻技术中，将可与光反应的聚合材料如光致抗蚀剂涂覆在基体上，在该基体上层压或沉积有待形成图案的材料。然后，该聚合物材料暴露给通过已设计好的分划板而照射在其上面的光线，以得到所需的图案。其后，清除掉已曝光的聚合物材料并进行显影步骤，使得带有目标图案的图案形成掩膜(或蚀刻掩膜)形成在待形成图案的材料上。接下来，通过使用图案形成掩膜，利用蚀刻步骤使沉积或层压在基体上的材料形成图案，从而具有所需的图案。在传统的光刻技术中，线宽或图案宽度是由曝光步骤中照射在聚合物材料上的光的波长决定的。因此，鉴于相关领域的现有技术，很难通过光刻技术在基体上制作超微型如小于100nm的图案。作为另一种利用光的微型图案形成方法，通过多步骤过程在大面积基体上形成三维形状图案。然而本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种使用带有预定图案结构的模具在基体上形成微型图案的方法，该方法包括以下步骤：ａ）制备一个模具，该模具带有包括凹陷部分和突起部分的预定图案结构；ｂ）在基体上沉积聚合物材料；ｃ）使模具的突起部分与聚合物材料接触；　 　ｄ）利用聚合物材料的毛细作用力，使与模具的突出部分接触的聚合物材料渗入到其凹陷部分的敞空部分，从而去除与模具的突起部分接触的聚合物材料；和ｅ）通过拆除该模具使基体的顶表面的部分暴露出来，从而在基体上形成聚合物微型图案。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李弘熙，徐甲亮，金然祥，刘弼珍，
申请(专利权)人：米卢塔技术株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]