一种图形描绘装置（１），包括：保持基板（９）的平台单元（３）；在Ｘ方向上移动平台单元（３）的平台移动机构（２）；水银灯（５１２）；具有光闸开口的光闸；具有多个掩模组开口的掩模组；在Ｘ方向上移动光闸的Ｘ方向移动机构，扫描通过了光闸开口和掩模组开口的光被引导到的光照射区域而描绘图形。在图形描绘装置（１）中，在图形的描绘开始点附近和描绘结束点附近，按照与平台单元（３）的移动速度相等的移动速度，在Ｘ方向上移动光闸，改变光照射区域的长度，调整图形的端部的累积光量，使之与图形上的其他部位的累积光量相等。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种通过向基板上的感光材料照射光来描绘图形的技术。
技术介绍
在现有技术中，作为通过向形成在半导体基板、印刷基板或等离子显示装置、液晶显示装置、光掩模用的玻璃基板等(以下称作“基板”)上的感光材料照射光来描绘图形的方法，已知有邻近效应曝光方式和分段曝光方式等这样的在感光材料上转印掩模图形的方法。在这样的转印掩模图形的描绘方式中，很难灵活应对进行描绘的图形的间距和宽度的变更。另一方面，作为不使用掩模的描绘方法，如日本专利特开平5-150175号公报中公开的那样，提出了一边使调制后的光束在感光材料上扫描，一边进行照射，直接描绘图形的方式(以下称作“直描方式”)，根据直描方式，能够灵活应对图形的间距和宽度的变更。但是，在使光束扫描而描绘图形的直描方式中，在描绘的开始点和结束点进行光束的照射的开/关。这时，一边扫描光束一边仅开/关光源，图形的端部的累积光量就成为向着图形的最端部而逐渐减少的分布，有在图形的端部轮廓模糊等描绘精度降低的可能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种在基板上的感光材料上描绘图形的图形描绘装置，使图形的端部中的累积光量与图形上的其他部位相等。本专利技术涉及的图形描绘装置具有光源；保持部，保持引导来自上述光源的光的基板；遮光机构，通过部分地遮挡来自上述光源的光，在上述基板上的感光材料上，向排列在第一方向上的多个照射区域引导光；照射区域移动机构，按一定的移动速度，对于上述感光材料相对地向垂直于上述第一方向的第二方向移动上述多个照射区域；遮光机构控制部，在上述感光材料的描绘开始点附近，使各照射区域的上述第二方向中的端部与上述描绘开始点一致，并按照上述移动速度增大上述各照射区域的上述第二方向的长度，在描绘结束点附近，使各照射区域的上述第二方向中的端部与上述描绘结束点一致，并按照上述移动速度缩小上述各照射区域的上述第二方向的长度，上述遮光机构具有光闸、形成了多个光通过区域的掩模、通过相对于上述掩模移动上述光闸，来改变上述多个照射区域的各自的上述第二方向的长度的机构。根据图形描绘装置，能够用简单的结构改变多个照射区域的第二方向的长度，能够使图形的端部中的累积光量与图形上的其他部位相等。此外，由于上述遮光机构具有在与上述第一方向相对应的方向上相对于上述掩模移动上述光闸的机构，因此，能够改变基板上的照射区域的个数。另外，由于上述光闸具有大小能向上述掩模的上述多个光通过区域引导光的开口区域；在与上述开口区域的上述第一方向和上述第二方向相对应的方向上相邻，大小能分别遮蔽通向上述多个光通过区域的光的两个遮光区域；与上述两个遮光区域相邻，大小能向上述多个光通过区域引导光的另一个开口区域，因此，能够减小光闸的与第一方向相对应的方向的宽度。另一方面，在描绘过程中的各照射区域的长度成为最大的状态中，通过由上述光闸形成上述各照射区域的上述第二方向中的一个端部，就能够调整描绘过程中的多个照射区域的第二方向的长度。此外，上述掩模的上述多个光通过区域的与上述第一方向相对应的方向的宽度相同，并且，上述多个光通过区域的间隔一定，由于上述遮光机构还具有在与上述第一方向相对应的方向上移动上述掩模的掩模移动机构，因此，能够容易地微调多个照射区域的第一方向的位置，由于在与上述多个光通过区域的上述第一方向相对应的方向上相邻形成上述掩模，具有多个排列在上述第一方向上的间隔或各自的宽度与上述多个光通过区域不同的另一光通过区域，因此，能够很大地改变图形的第一方向的宽度或间距。再有，由于图形描绘装置还具有将来自上述光源的光均匀的积分器，将上述光闸配置在上述积分器的光射出面附近，因此，能够容易地配置光闸。参照附图，由以下进行的本专利技术的详细说明，能进一步明确上述目的及其他目的、特征、方式和优点。附图说明图1是示出第一实施方式的图形描绘装置的结构的视图。图2是示出光闸机构的平面图。图3是示出第一掩模的平面图。图4是示出第二掩模的平面图。图5是示出掩模部的结构的视图。图6是示出光照射区域的一部分的视图。图7是示出控制部的结构和与控制有关的信息的流程的方框图。图8是示出图形的描绘动作的流程图。图9是示出累积光量的调整动作的流程图。图10A～图10E是示出描绘开始点附近的累积光量调整的情况的视图。图11是示出累积光量的调整动作的流程图。图12A～图12D是示出描绘结束点附近的累积光量调整的情况的视图。图13是示出光量调整的情况的视图。图14和图15是示出所描绘的图形的例子的视图。图16A和图16B是示出第二实施方式的图形描绘装置的光闸的视图。图17是示出第三实施方式的图形描绘装置的第一掩模和第二掩模的视图。图18是示出第四实施方式的图形描绘装置的掩模部的视图。图19是示出第五实施方式的图形描绘装置的多个头部和基板的平面图。图20是示出光闸的其他例子的视图。图21是示出累积光量的调整动作的流程的其他例子的视图。图22A～图22E是示出描绘开始点附近的累积光量调整的情况的视图。图23是示出累积光量的调整动作的流程的其他例子的视图。图24A～图24D是示出描绘结束点附近的累积光量调整的情况的视图。具体实施例方式图1是示出本专利技术的第一实施方式的图形描绘装置1的结构的视图。图形描绘装置1是通过向液晶显示装置用的玻璃基板9(以下单称作“基板9”)照射光，从而在基板9上的感光材料(本实施方式中是彩色抗蚀剂)上描绘多个条纹状的图形的装置。描绘了图形的基板9经过后续的其他工序，最终成为作为液晶显示装置的组合部件的彩色滤光镜。图形描绘装置1具有保持基板9的平台单元3；平台移动机构2，其设置在基台11上，在X方向上移动平台单元3；框架12，其跨过平台单元3而固定在基台11上；头部5，其安装在框架12上，向基板9引导来自光源的光。平台移动机构2的结构在于，在电动机21上连接滚珠丝杠22，另外，在滚珠丝杠22上安装了固定在平台单元3上的螺母23。在滚珠丝杠22的上方固定导向轨24，当电动机21旋转时，平台单元3与螺母23一起沿着导向轨24在X方向上滑行移动。在平台单元3的(+X)侧设置了位置计测部25，其计测平台单元3的X方向上的位置。位置计测部25具有激光光源、线性干涉系统、接收器及平台反射镜251，所述平台反射镜251设置在平台单元3的(+X)侧的侧面。在位置计测部25，从激光光源射出的光束通过线性干涉系统射入到平台反射镜251上，其反射光通过线性干涉系统而与原来的光束进行干涉，由接收器接收，基于来自接收器的输出，高精度地求得平台单元3(保持在平台单元3上的基板9)的位置。平台单元3具有平台32，其直接保持基板9；平台转动机构33，其以垂直于基板9的主面的轴为中心转动平台32；支撑板34，其可转动地支撑平台32；平台升降机构35，其在图1中的Z方向上移动支撑板34；基础板36，其保持平台升降机构35，在基础板36上直接固定上述螺母23。在支撑板34上的平台32的(+X)侧设置摄像机4，其由二维排列的作为受光元件群的摄像器件接收从头部5照射的光。再有，预先调整摄像机4的摄像面，使其与基板9的感光材料的表面高度相同。头部5具有支撑头部5的头支撑部50；头部移动结构501，其在图1中的Y方向(即，与头部5的相对于平台单元3的相对移动方向垂直的方向)上移动头部5；本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种图形描绘装置，在基板上的感光材料上描绘图形，其特征在于，具有：光源；保持部，其保持来自上述光源的光被引导到的基板；遮光机构，其通过局部遮挡来自上述光源的光，从而在上述基板上的感光材料上，向排列在第一方向上的多个照 射区域引导光；照射区域移动机构，其按一定的移动速度，相对于上述感光材料，向垂直于上述第一方向的第二方向相对移动上述多个照射区域；遮光机构控制部，其通过控制上述遮光机构，在上述感光材料上的描绘开始点附近，使各照射区域的上述第二 方向上的端部与上述描绘开始点一致，并按照上述移动速度增大上述各照射区域的上述第二方向的长度，在描绘结束点附近，使各照射区域的上述第二方向上的端部与上述描绘结束点一致，并按照上述移动速度缩小上述各照射区域的上述第二方向的长度，上述遮光 机构具有：光闸；形成了多个光通过区域的掩模；通过相对于上述掩模相对移动上述光闸来改变上述多个照射区域的各自的上述第二方向的长度的机构。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：水端稔，小八木康幸，井上正雄，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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