一种有光低钠釉面瓷片的制造方法技术

本发明专利技术提供了一种有光低钠釉面瓷片的制造方法,包括以下步骤:称取熔块原料，混合后加入熔块炉煅烧熔融，流出熔块炉水淬成熔块备用；称取有光面釉原料，球磨8

【技术实现步骤摘要】
一种有光低钠釉面瓷片的制造方法


[0001]本专利技术属于陶瓷建筑装饰材料领域，具体涉及一种有光低钠釉面瓷片的制造方法。

技术介绍

[0002]瓷片是瓷砖中的一种，有内墙砖、釉面砖等多种叫法。瓷片属于陶质砖，吸水率在10％-20％间，目前市面上吸水率普遍在16％左右，主要使用场所是室内。有光瓷片产品目前市场上占主流，在室内使用场景中，瓷片釉面是与人可以感观接触的部分，其釉面的美观度在很大程度上决定了消费者购买欲望的大小。
[0003]瓷片具有良好的釉面是成为产品畅销的关键因素之一，瓷片目前主流生产采用二次烧成，先素烧后釉烧，釉烧温度低于素烧温度，釉烧温度普遍在1100℃左右，相对瓷质砖大于1200℃的烧成温度，瓷片的釉烧温度就算低的了；因为其烧成温度低，瓷片面釉原料不能采用生料釉，现在主流采用熔块釉，熔块是把原料经混合后煅烧熔融水淬而的熔块，他把可溶性原料变为不溶于水的状态，将有毒性原料成为毒性较小的形式，熔块釉的烧成温度因适合于瓷片生产而大量使用。主流有光釉瓷片熔块占比达到90％以上，有光釉瓷片要想获得良好的釉面质量，熔块的质量成影响釉面质量的关键因素之一。
[0004]熔块性能因素有：1、釉的熔融温度范围，2、釉熔体的黏度、3、釉熔体的表面张力，4、釉的膨胀系数和坯釉适应性，5、釉的机械性质。在熔块组分中氧化钠、氧化钾、氧化钙、氧化镁等碱金属和碱土金属氧化物具有助熔作用，其中以氧化钠、氧化钾助熔效果最明显，氧化钠相对氧化钾形成的液相黏度较低，故熔融范围较窄，其黏度随温度的升高而降低的速度较快使瓷片釉面容易产生釉泡与针孔；氧化钠与氧化钾的线膨胀系数因子较大，当其含量较大时容易龟裂与热稳定性不过关，同时会降低釉的抗张强度，氧化钠相对氧化钾影响更大，氧化钠与氧化钾的含量对熔块的烧成温度起着重要的影响作用，氧化钠与氧化钾的含量越高，烧成温度越低，但氧化钠与氧化钾的含量增加会影响釉的热稳定性与抗张强度，同时容易产生针孔釉泡；反之氧化钠与氧化钾含量越低，釉的热稳定性与抗张强度越好，但是烧成温度会越高。
[0005]目前为降低生产成本普遍采用低温快烧，希望烧成温度低烧成速度快，而釉的热稳定性、抗张强度与低温快烧是矛盾的，这使得烧成温度低与烧成速度快这两种要求无法同时满足，因而十分有必要开发一种可以同时满足烧成温度低与烧成速度快这两种要求的瓷片制造方法。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种可以同时满足烧成温度低与烧成速度快这两种要求有光低钠釉面瓷片的制造方法。
[0007]本专利技术的技术方案如下所述。
[0008]一种有光低钠釉面瓷片的制造方法,包括以下步骤:
[0009]步骤A、称取熔块原料，原料经混合后进行煅烧熔融，随后水淬成熔块备用；
[0010]步骤B、称取有光面釉原料，球磨8-12小时；
[0011]步骤C、步骤B制备的釉浆取样过80-120目筛，再过325目筛并将测筛余控制在0.6％以下，筛余合格前，釉浆继续球磨，筛余合格后，釉浆结束球磨并过80-120目筛，陈腐备用；
[0012]步骤D、素坯经施底釉后，将有光面釉均匀施到底釉上；
[0013]步骤E、施有有光面釉的砖坯经印花后烧成，得到有光低钠釉面瓷片。
[0014]作为优选，所述熔块原料包含以下重量百分比的组分：钾长石35-40％、石英砂22-26％、硼钙石8-11％、方解石8-11％、白云石3-6％、氧化锌6-10％、硼酸2-6％、锆英粉1.5-6％、碳酸钾0-1.5％。
[0015]作为优选，所述熔块原料的化学组成为：二氧化硅为56-62％、氧化铝为5-6％，氧化镁为2.6-4％、氧化钙为8-12％，氧化钠为0-0.3％、氧化钾为4.0-5.5％、氧化锌为6.6-10.2％、氧化硼为4.8-8.0％、氧化铁为0-0.3％、二氧化钛为0-0.2％、二氧化锆为1.0-4.3％、灼减为0-0.3％。
[0016]作为优选，所述有光面釉包含以下重量百分比的组分：熔块90-98％、气刀土2-8％、水按干料重量的36-43％、甲基纤维素0.1-0.4％、三聚磷酸钠0.2-0.6％。
[0017]作为优选，所述有光面釉的化学组成为：二氧化硅为55-62％、氧化铝为6.2-8.6％、氧化镁为2.6-3.6％、氧化钙为7.8-10.8％、氧化钠为0-0.3％、氧化钾为3.9-5.4％、氧化锌为6.5-9.2％、氧化硼为4.4-7.7％、氧化铁为0-0.3％、二氧化钛为0-0.2％、二氧化锆为0.9-4.1％、灼减为0.5-1.3％。
[0018]作为优选，所述步骤A中煅烧的温度为1500-1600℃。
[0019]作为优选，所述步骤C中陈腐的时间为12-48小时。
[0020]作为优选，所述步骤D中施有光面釉时釉比重1.7-2.0g/m3,釉量700-1300g/
㎡
。
[0021]作为优选，所述步骤E中烧成温度为1050-1200℃，烧成时间为40-60分钟。
[0022]本专利技术还公布了一种有光低钠釉面瓷片，其根据上述制造方法获得，所述有光低钠釉面砖的光泽度为90-98
°
。
[0023]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0024]本专利技术有光低钠面釉采用的熔块经高温煅烧去除了矿物类原料中的挥发性物质，提高了稳定性，从而减少了出现针孔导致吸污的情况发生；釉料混合一起熔融成玻璃态，保证了釉的均匀性；釉中氧化钠含量小于0.3％，有利于增强釉的热稳定性、抗张强度以及化学稳定性；引入的氧化硼以弥补氧化钠减少而引起的熔融温度升高；通过降低釉中氧化铝含量以降低釉的烧成温度；加入气刀土以提升釉的悬浮性和粘性。
[0025]本专利技术柔光面釉烧成后光泽度为90-98
°
，烧成温度1050-1200℃，烧成周期40-60分钟，成品釉面平滑，光亮适中，满足了广大消费者对于具有美观釉面的瓷片的需求。
具体实施方式
[0026]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，对本专利技术进一步详细说明，但本专利技术要求的保护范围并不局限于实施例。
[0027]下述实施例所采用的原料如无特殊说明，均为市售。
[0028]实施例1:
[0029]有光低钠釉瓷片的制备：
[0030]a、称取熔块原料：钾长石37.2kg、石英砂：23.9kg、硼钙石9.1kg、方解石：9.5kg、白云石：4.6kg、氧化锌7.8kg、硼酸3.6kg、锆英粉3.6kg、碳酸钾0.7kg。经混合后，加入熔块炉经1500℃煅烧熔融，煅烧熔融后流出熔块炉水淬成熔块备用。熔块的化学组成为：二氧化硅为58.7％、氧化铝为5.3％、氧化镁为3.2％、氧化钙为10.1％、氧化钠为0.15％、氧化钾为4.7％、氧化锌为8.6％、氧化硼为6.3％、氧化铁为0.15％、二氧化钛为0.1％、二氧化锆为2.5％、灼减为0.2％，基于所述熔块的总重量计。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种有光低钠釉面瓷片的制造方法,其特征在于，包括以下步骤:步骤A、称取熔块原料，原料经混合后进行煅烧熔融，随后水淬成熔块备用；步骤B、称取有光面釉原料，球磨8-12小时；步骤C、步骤B制备的釉浆取样过80-120目筛，再过325目筛并将测筛余控制在0.6％以下，筛余合格前，釉浆继续球磨，筛余合格后，釉浆结束球磨并过80-120目筛，陈腐备用；步骤D、素坯经施底釉后，将有光面釉均匀施到底釉上；步骤E、施有有光面釉的砖坯经印花后烧成，得到有光低钠釉面瓷片。2.根据权利要求1所述的有光低钠釉面瓷片的制造方法，其特征在于，所述熔块原料包含以下重量百分比的组分：钾长石35-40％、石英砂22-26％、硼钙石8-11％、方解石8-11％、白云石3-6％、氧化锌6-10％、硼酸2-6％、锆英粉1.5-6％、碳酸钾0-1.5％。3.根据权利要求1所述的有光低钠釉面瓷片的制造方法，其特征在于，所述熔块原料的化学组成为：二氧化硅为56-62％、氧化铝为5-6％，氧化镁为2.6-4％、氧化钙为8-12％，氧化钠为0-0.3％、氧化钾为4.0-5.5％、氧化锌为6.6-10.2％、氧化硼为4.8-8.0％、氧化铁为0-0.3％、二氧化钛为0-0.2％、二氧化锆为1.0-4.3％、灼减为0-0.3％。4.根据权利要求1所述的有光低钠釉面瓷片的制造方法，其特征在于，所述有光面釉包含以下重量百分比的组分：...

【专利技术属性】
技术研发人员：李辉，黄诗程，谢石长，韦前，叶德林，
申请(专利权)人：广东新明珠陶瓷集团有限公司，
类型：发明
国别省市：