图像形成方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及用于在辐射敏感材料上形成图案的装置，该装置包括形成辐射光束的源、用来在所述辐射敏感材料上扫描来自所述辐射源的至少一束光的扫描组件，用来按照输入图案数据文件在扫描期间调制所述至少一束光的调制器，其中对所述光束的调制在所述工件上产生相干的子图像，并且非相干地叠加多个子图像，以产生最终的图像。本发明专利技术同样也涉及用于对工件形成图案的方法以及同一类的工件。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术一般来说涉及用于光学光刻技术，尤其涉及用于利用SLM形成工件图案的方法，它同时也涉及工件和用于形成工件图案的装置。
技术介绍
集成有电路、掩膜、刻线(reticle)、平面模板显示器、微型机械或者微型光学设备及例如引线框的封装设备、以及MCM的光刻产品，可以包含将在SLM上所包含的主模(master pattern)成像到晶片的光学系统，所述晶片包括对利用例如可见或不可见光的电磁辐射敏感的层。所述SLM可以是例如空间光调制器(SLM)，包括可移动反射型微型镜的一维或者两维阵列或者矩阵、透射型LCD晶体的一维或两维阵列或者矩阵、或者其他类似的基于栅效应(grating effect)、干涉效应或者例如光阀的机械组件的可编程一维或者两维阵列。利用空间光调制器的图案生成器一般使用脉冲式电磁辐射源，以便将SLM的图案投影到所述工件上。脉冲长度典型地在纳秒的范围内，而重复速率典型地在kHz范围内。有关所述脉冲式电磁辐射源的问题是它们可有在相邻脉冲之间的脉冲能量变化的脉冲或者时间变化的脉冲，即所谓的抖动，这将会影响所写入图案的严格尺寸。
技术实现思路
鉴于前述背景，脉冲能量变化的所述脉冲对实现亚微米范围线宽和5nm量级的线宽容限是至关重要的。因此，本专利技术的目的是提供用于用克服或者至少降低如上所述问题的高分辨率形成工件图案的方法。在第一实施例中，本专利技术提供了一种用于对在图像平面排列且用电磁辐射敏感层部分覆盖的工件形成图案的装置。所述装置包括发送电磁辐射到目标平面的源；包括多个开-关对象象素的SLM，其适合接收并按照输入图案描述(pattern description)调制在所述目标平面的所述电磁辐射，并将所述电磁辐射传递到所述工件；同步器，用来将所述工件的运动和从所述SLM到所述工件传递的图案描述同步；以及在所述SLM和所述工件之间排列的图像偏转组件，适合偏转所述传递的图案描述。在另一个实施例中，其中所述SLM包括透射型象素。仍在另一个实施例中，所述SLM包括反射型象素。仍在另一个实施例中，所述反射型象素是微型镜。仍在另一个实施例中，执行所述同步以使得所述传递的图案描述在延长的时间周期撞击到所述工件的固定区域。仍在另一个实施例中，当用新的图案描述重新加载所述SLM时，防止所述电磁辐射源撞击到所述工件上。仍在另一个实施例中，偏转所述辐射以防止撞击到所述工件上。仍在另一个实施例中，抑制所述辐射以防止撞击到所述工件上。仍在另一个实施例中，关断所述辐射源以防止所述辐射撞击到所述工件上。仍在另一个实施例中，将在所述SLM上的连续图案描述彼此相邻地成像到所述工件上。仍在另一个实施例中，将在所述SLM上的连续图案描述至少部分地重叠到所述工件上。仍在另一个实施例中，将在所述SLM上的连续图案描述不重叠到所述工件上。仍在另一个实施例中，将在所述SLM上的连续图案描述彼此不相邻地成像到所述工件上。仍在另一个实施例中，所述成像偏转组件是旋转的棱镜。仍在另一个实施例中，所述成像偏转组件是旋转的反射型多面体。仍在另一个实施例中，所述旋转的反射型多面体包括至少3个反射面。仍在另一个实施例中，当将所述传递图案描述偏转到所述工件上时，改变在所述SLM上的所述图案描述。本专利技术同样也涉及一种对在图像平面排列且用电磁辐射敏感层至少部分覆盖的工件形成图案的方法。将电磁辐射发射到目标平面；接收所述电磁辐射，并由包括多个开-关对象象素的SLM在所述目标平面上按输入图案描述进行调制，将所述电磁辐射传递到所述工件；偏转从所述SLM所传递的图案描述到所述工件；以及将所述工件的运动和从所述SLM到所述工件的传递图案描述进行同步。仍在另一个实施例中，所述SLM包括透射型象素。仍在另一个实施例中，所述SLM包括反射型象素。仍在另一个实施例中，所述反射型象素是微型镜。仍在另一个实施例中，执行所述同步以使得所述传递的图案描述在延长的时间段撞击到所述工件的固定区域。仍在本专利技术的另一个实施例中，当用新的图案描述重新加载所述SLM时，防止所述电磁辐射源撞击到所述工件上。仍在另一个实施例中，偏转所述辐射以防止撞击到所述工件上。仍在另一个实施例中，抑制所述辐射以防止撞击到所述工件上。仍在另一个实施例中，关断所述辐射源以防止所述辐射撞击到所述工件上。仍在另一个实施例中，将连续图案描述彼此相邻地成像到所述工件上。仍在另一个实施例中，连续图案描述至少部分地重叠到所述工件上。仍在另一个实施例中，连续图案描述不重叠在所述工件上。仍在另一个实施例中，将连续图案描述彼此不相邻地在所述工件上成像。仍在另一个实施例中，所述成像偏转组件是旋转的棱镜。仍在另一个实施例中，所述成像偏转组件是旋转的反射型多面体。仍在另一个实施例中，所述旋转反射型多面体包括至少3个反射面。仍在另一个实施例中，通过时间复用对象象素进行灰度印刷。仍在另一个实施例中，进行同步以将印记写到与在所述SLM图案描述相对应的所述工件上，其中，定义子图的所述印记一起形成完整的图案。仍在另一个实施例中，当将所述传递的图案描述偏转到所述工件上时，在所述SLM上的所述图案描述被改变。本专利技术同样也涉及一种在图像平面排列且用电磁辐射敏感层覆盖的工件，其中，通过从SLM传递的电磁辐射照射所述层，所述SLM在目标平面排列并包括包含多个开-关对象象素，适于接收，并在所述目标平面上按输入图案描述调制所述电磁辐射，将所述工件的运动和从所述计算机控制的刻线传递到所述工件的图案描述进行同步，其中通过在所述SLM和所述工件之间排列的图像偏转组件对所述传递的图案描述进行偏转。在另一个实施例中，所述工件是刻线或者掩膜。在另一个实施例中，所述工件是半导体晶片。本专利技术同样也涉及一种用于形成图像的方法。提供了一种激光源，用来自所述激光源的至少一束光扫描工件；按照输入图案数据文件对扫描期间的所述至少一束光进行调制；其中光束的调制在工件上产生相干的子图像，对几个子图像进行非相干叠加以产生最终的图像。在本专利技术的另一个实施例中，在撞击到所述SLM之前，破坏在单个光束之间的干扰。在本专利技术另一个实施例中，通过加或减频移来破坏在单个光束之间的干扰。在本专利技术另一个实施例中，通过加或减部分路径长度来破坏在单个光束之间的干扰。在本专利技术另一个实施例中，通过包括传感器阵列的声光作用单元调制所述至少一束光。在本专利技术另一个实施例中，由用模拟信号相乘的RF波驱动所述传感器。在本专利技术另一个实施例中，通过包括多个开-关对象象素的SLM调制所述至少一束光。本专利技术同样也涉及用于在工件上形成图像的方法。提供了电磁辐射源。通过至少部分空间光调制器扫描来自所述源的至少一束光。按照输入图案数据文件调制所述至少一束光，其中对所述至少一束光的调制在所述工件上产生相干的子图像，并且非相干地叠加多个子图像以产生最终的图像。在根据本专利技术的另一个实施例中，将新图案描述重新加载到所述调制器的至少一个部分，同时用所述至少一束光扫描所述调制器的不同部分。在本专利技术的另一个实施例中，所述SLM包括多个开-关象素。本专利技术同样也涉及用于在辐射敏感材料上形成图案的装置，包括用来形成辐射光束的源，扫描组件，用来在所述辐射敏感材料上扫描来自所述辐射源的至少一束光，调制器，用来按照输入图案数据文件在扫描期间调制至少一束光，其中对所述光束本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于形成图像的方法，包括活动：　　　　提供一种激光源；　　　　扫描在工件上的来自所述激光源的至少一束光；以及　　　　按照输入图案数据文件对扫描期间的所述至少一束光进行调制，其中光束的调制在工件上产生相干的子图像，对几个子图像进行非相干叠加以产生最终的图像。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：托布乔恩桑德斯特罗姆，
申请(专利权)人：麦克罗尼克激光系统公司，
类型：发明
国别省市：SE[瑞典]