光刻照明装置及照明方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种基于空间光调制器的光刻照明装置及照明方法，采用ＳＬＭ（液晶空间光调制器）来衍射产生各种照明光瞳形貌。每个像素对光波相位的调制可通过寻址电压来进行控制，并且具有可编程控制的特点，可以利用优化算法，优化设计ＳＬＭ的相位值来产生任意的照明光瞳形貌。无需针对不同的照明模式来离线设计衍射光学元件，无需设置机械转盘，操作灵活，只需计算机编程进行在线控制，具有较高的响应速度，提高了产率。本发明专利技术可以提供更多的照明光瞳形貌，满足了一些特殊光刻线条的需要。本发明专利技术可灵活改变入射光波的偏振方向，在具有较大数值孔径的浸液光刻系统中可提供偏振照明。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻设备的照明技术，特别是涉及基于空间光调制器的光刻设 备照明技术。
技术介绍
光刻法用于制造半导体器件。光刻法使用电磁辐射，如紫外(uv)、深uv 或可见光，在半导体器件设计中产生精细的图。许多种半导体器件，如二极管、 三极管、和集成电路，能够用光刻技术制作。光刻曝光系统通常包括照明系统、含有电路图的掩模版、投影系统、和用 于涂覆了光刻胶的硅片和硅片对准台。照明系统照射掩模版电路图，投影系统 把掩模版电路图照明区域的像投射到晶片上。在光刻中，对图像质量起关键作用的两个因素是分辨率和焦深。所以既要 获得更好的分辨率来形成关键尺寸的图形，又要保持合适的焦深。离轴照明技 术可以提高焦深并且提高了分辨率。当今先进的光刻工艺要求使用离轴照明技 术，包括环形照明、双极照明、四极照明等。通过合理的选择与曝光图案相匹 配的光瞳形状可以最大限度的提高工艺窗口 ，这就要求照明系统具有可调节的 光瞳形貌。中国专利CN1474235提供了一种光刻照明装置，该装置是采用衍射片、变 焦透镜组、 一对凹凸互补的旋转三棱镜来产生连续可变的照明光瞳。这种方法 在改变照明光瞳形状时可以不损失光能，效率本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻照明装置，按光束传播的方向依次包括：　光源系统，用以产生照射光束；　空间光调制系统，包括空间光调制器和控制设备；　匀光系统，用于控制照射光束；　掩模；　其特征在于：所述光源系统发出照射光束，经过所述空间光调制器、匀光系统，照射所述掩模。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郭勇，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]