本实用新型专利技术公开了一种导电薄膜，由下至上依次为柔性衬底、光学调整层、耐候层、电传导层，所述电传导层的材料为金属，所述电传导层包含最高点和最低点，且最高点和最低点之间的距离小于或等于3nm，所述耐候层上具有复数个凹槽。解决了现有技术中金属作为电传导层，岛状结构引起的电传导效果不佳的问题，同时提高了导电薄膜的透光率。了导电薄膜的透光率。了导电薄膜的透光率。
【技术实现步骤摘要】
导电薄膜及触控装置
[0001]本技术涉及导电薄膜，尤其涉及一种显示领域的低阻导电薄膜。
技术介绍
[0002]近年来，低阻导电薄膜因其低电阻被广泛应用于各个领域中，包括太阳能电池、图像传感器、液晶显示器、有机电致发光(OLED)和触摸屏面板。在这些领域两种，行业追求的是需要的波长范围内大的光学透明度和适当的电导率，并且不断在改革创新。
[0003]低阻导电薄膜结构中，通常采取复合叠层结构，其中关键的一层电传导层通常是采用金属层，其中该电传导层有两个重要的参数影响该低阻导电薄膜结构，一是导电率，二是光透过率。即该电传导层不宜太厚，否则影响光透过率，同时该电传导层不宜太薄，太薄的情况下，金属的特性导致制程容易出现岛状结构，即整个金属膜层不连续的孤岛形态，岛状结构影响金属粒子迁移，从而影响低阻导电薄膜的导电率。
技术实现思路
[0004]为解决现有技术存在的问题，本技术提出了1.一种导电薄膜，由下至上依次为柔性衬底、光学调整层、耐候层、电传导层，所述电传导层的材料为金属，所述电传导层包含最高点和最低点，且最高点和最低点之间的距离小于或等于3nm，所述耐候层上具有复数个凹槽。
[0005]优选的，所述电传导层的厚度小于或等于10nm。
[0006]优选的，所述金属为银、铜或铜银合金。
[0007]优选的，所述凹槽为条状或点状。
[0008]优选的，所述凹槽的深度为2nn-3nm。
[0009]优选的，所述凹槽的宽度小于等于4nm。
[0010]优选的，所述凹槽通过激光在耐候层上形成。
[0011]优选的，所述电传导层是通过磁控溅射的方法形成，所述溅射的方法包括将金属靶材放于充有惰性气体的腔室内，在溅射过程中通入氧气或氮气。
[0012]优选的，所述惰性气体为氩气，氩气的充入量为280-320sccm。
[0013]本技术解决了现有技术中金属作为电传导层，岛状结构引起的电传导效果不佳的问题，同时提高了导电薄膜的透光率。
[0014]本技术还提供了一种包含以上导电薄膜的触控装置。该触控装置具有良好的透光效果和灵敏度。
附图说明
[0015]图1为本技术导电薄膜结构的一个实施例的剖视图。
具体实施方式
[0016]通过在本技术所提出的叠层结构中对于多种元件的位置使用例如“顶上”、“上”、“最上”、“下面”等取向单词，我们是指元件相对于水平设置的、面向上的支承体的相对位置。并不预期膜或制品在其制造期间或者之后在空间中应该具有任何具体取向。
[0017]本技术的“岛状结构”是指金属在承载层上微观呈现像岛屿一样形成的结构，该岛屿不与其他岛屿相连接。
[0018]本技术的“连续结构”是指金属在承载层上微观呈现像山脉连延的形状，在低谷也必须相连，也可以指金属上呈现平整的层状结构。
[0019]术语“光学透明的”当用于膜或层合的玻璃制品时是指通过肉眼在约1米的距离处检测，在膜或制品中没有视觉上可见的失真、模糊或缺陷。
[0020]如图1所示，导电薄膜由下至上依次为柔性衬底1、光学调整层2、耐候层 3、电传导层4，所述电传导层的材料为金属，所述电传导层4包含最高点和最低点，且最高点和最低点之间的距离小于或等于3nm，所述耐候层3上具有复数个凹槽。电传导层4的特性影响了导电薄膜结构的导电率和透光率，当电传导层4的厚度d小于或等于10nm时，导电薄膜能保持良好的透光性，一般情况下，金属通过化学气相沉积的方法形成金属层由于其高表面能容易形成岛状结构，岛状结构影响影响金属粒子的迁移，从而影响导电薄膜结构的导电率。本技术所述耐候层3上具有复数个凹槽，增加承载层的表面粗糙度，当金属沉积在耐候层3上，防止具有高表面能的金属在形成层状结构时产生岛状结构。
[0021]所述电传导层4的最高点和最低点之间的距离小于或等于3nm。本技术追求的是一种连续结构的高电子迁移率的电传导层，而电传导层4的最高点和最低点之间的距离L≤3nm。此处的L是指以电传导层的最高点的水平线和最低点的水平线之间的垂直距离。
[0022]所述指柔性衬底1，优选光学透明柔性基材，材料选自聚对苯二甲酸乙二酯 (PET)、聚酰亚胺(PI)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、三醋酸纤维素(TAC)、FMH 丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚氯乙烯(PVC)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚四氟乙烯(PTFE)、环烯烃共聚物(COP、Arton)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)一种或多种。
[0023]所述光学调整层2，是通过选取不同折射率的材料进行折射率匹配后，去除耐候层、导电层和其他层叠结构的色差。
[0024]所述耐候层3，是指通过一层或数层来防止电传导层受腐蚀或受氧化的层结构。
[0025]在其他实施方式中，所述电传导层4的厚度d小于或等于10nm。本技术得到的电传导层4的厚度d可以在小于或等于10nm的情况下，没有岛状结构，电子迁移率高。此处所述的电传导层4的厚度d是指以所述的电传导层的最高点与耐候层表面的垂直距离。
[0026]在具体实施方式中，所述耐候层3的表面粗糙度Ra为3-8nm。
[0027]在其他实施方式中，所述耐候层3上的凹槽为不限形状，优选为长条状和点状，此处的长条状是指在微观形态上为在线性上延伸有一定宽度的形状，此处的宽度小于等于4nm；点状是指宏观肉眼为点状，优选的，微观形态上弧面凹陷、圆柱形凹陷、圆锥形凹陷；凹陷与耐候层的相交切面为圆形，此处圆形的直径为小于等于4nm，因为正常情况下，岛状结构的底部岛围的最大直径为 4nm，因此长条宽度或所述圆形直径在小于等于4nm，金属沉积时不会在凹槽或凹陷处形成孤岛，而表面粗糙度为3-8nm又能有效抵抗金属的表面能，从而改下岛状结构问题。
[0028]在其他实施方式中，所述凹槽为条状交叉(X字型、Z字型)凹槽，金属在沉积是在交叉处扩散效果较明显，有效抑制岛状效应。
[0029]在其他实施方式中，所述凹槽通过激光在耐候层3上雕刻形成。
[0030]优选的，所述电传导层4是通过磁控溅射的方法形成。在具有实施方式中，所述溅射的方法包括将金属靶材放于充有惰性气体的腔室内，在溅射过程中通入氧气或氮气。所述金属靶的金属可以是单一金属也可以是合金金属，如银靶、铜靶、金靶、铝靶、钨靶、镍靶或其中的两种及两种以上的合金。优选的，所述惰性气体为氩气，氩气的充入量为280-320sccm。
[0031]以上导电薄膜用于触控装置能有效提高所述触控装置的透光性，因为电传导率有效提高，从而提高了触控装置的灵敏度。
[0032]实施例1
[0033]取PET柔性衬底涂覆一光学调整层和耐候层，用激光设备对耐候层进行雕刻出平行条状凹槽，条状凹槽的宽度为4nm，后放入真空腔室。柔性衬底在 8nm.m/min溅射速度下向前运动，并且在以2.5*10-6本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种导电薄膜，由下至上依次为柔性衬底、光学调整层、耐候层、电传导层，其特征在于：所述电传导层的材料为金属，所述电传导层包含最高点和最低点，且最高点和最低点之间的距离小于或等于3nm，所述耐候层上具有复数个凹槽。2.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，所述电传导层的厚度小于或等于10nm。3.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，所述金属为银、铜或铜银合金。4.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，所述凹槽为条状或点状。5.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，所述凹槽的深度为2nn-3n...
【专利技术属性】
技术研发人员：张玉春，仲树栋，
申请(专利权)人：北京载诚科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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