一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法技术

本申请适用于无掩膜光刻技术领域，提供了一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法，无掩膜光刻设备包括用于产生面阵光的照明装置、设置于照明装置发出的面阵光的光路上的数字微镜器件、用于承载待加工的基板的载物台组件、设置于载物台组件和数字微镜器件之间的投影物镜，以及电气连接载物台组件和数字微镜器件的控制单元；数字微镜器件具有多个纵横排列的微反射镜单元，微反射镜单元反射的面阵光经过投影物镜后在基板上形成刻蚀光斑；各刻蚀光斑沿第一方向和与第一方向垂直的方向纵横排列，且刻蚀光斑能够沿第二方向扫描照射基板，第一方向和第二方向之间的夹角θ为锐角。控制单元控制微反射镜单元偏转，使得基板上的印制电路具有连续可变性。有连续可变性。有连续可变性。

【技术实现步骤摘要】
一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法


[0001]本申请涉及无掩膜光刻
，特别涉及一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法。

技术介绍

[0002]无掩膜光刻技术是一种直接利用图形工作站输出的数据，驱动激光成像装置，在印制电路板(Printed Circuit Board，PCB)基材上进行图形成像的技术，因此又称为激光直接成像技术(Laser Direct Imaging，LDI)。无掩膜光刻技术是一种非接触式成像技术，因其不需要使用掩膜板，能够大大简化印刷流程、节约制程时间的优点，目前已经被广泛应用于PCB印刷领域。
[0003]LDI设备通常采用数字微镜器件(Digital Micromirror Device，DMD)对照射到PCB板材上的激光图像进行控制。DMD是一种微镜阵列，由若干纵横排列的微反射镜单元组成，每一个微反射镜单元都是一个独立的个体，可以翻转不同角度(通常由三个预设角度，即+12
°
、0
°
和-12
°
)，当翻转至其中一个预设角度时，即可将激光光束反射，并使得激本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种无掩膜光刻设备，其特征在于，包括用于产生面阵光的照明装置、设置于所述照明装置发出的面阵光的光路上的数字微镜器件、用于承载待加工的基板的载物台组件、设置于所述载物台组件和所述数字微镜器件之间的投影物镜，以及电气连接所述载物台组件和所述数字微镜器件的控制单元；所述数字微镜器件具有多个纵横排列的微反射镜单元，所述微反射镜单元反射的所述面阵光经过所述投影物镜后在所述基板上形成刻蚀光斑；各所述刻蚀光斑沿第一方向和与所述第一方向垂直的方向纵横排列，且所述刻蚀光斑能够沿第二方向扫描照射所述基板，所述第一方向和所述第二方向之间的夹角θ为锐角。2.如权利要求1所述的无掩膜光刻设备，其特征在于，所述载物台组件包括载物台本体，以及连接所述载物台本体的移动平台；所述基板设置于所述移动平台的正对所述投影物镜的一侧，所述移动平台能够在所述控制单元的控制下带动所述基板移动。3.如权利要求2所述的无掩膜光刻设备，其特征在于，所述基板包括与所述移动平台接触的第一底面、与所述第一底面相对且正对所述投影物镜的第二底面，以及同时连接所述第一底面和所述第二底面的周缘的第一侧面；所述第一侧面平行于所述第一方向，且所述移动平台能够带动所述基板沿所述第二方向移动。4.如权利要求1-3任一项所述的无掩膜光刻设备，其特征在于，所述数字微镜器件还包括承载各所述微反射镜单元的数字微镜主板，以及与所述数字微镜主板电气连接并用于为所述数字微镜主板供电的数字微镜电源；各所述微反射镜单元纵横排列于所述数字微镜主板的与所述照明装置相对的一侧，所述数字微镜主板能够与所述控制单元连接，且所述数字微镜主板能够在所述控制单元的控制下，分别驱动各所述微反...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴明仓，
申请(专利权)人：广东思沃激光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：