内部源组件和相关联的部件制造技术

一种用于质谱仪的内部源组件，所述组件包括：基座；和容积式外壳，其能够可移除地连接到所述基座，以用于在其间保持推斥极组件，其中，所述基座和容积式外壳中的一者包括至少两个突起，并且所述容积式外壳和基座中的另一者包括至少两个对应的狭槽以容纳和保持所述突起，其中，所述突起彼此不同，和/或所述狭槽彼此不同。同。同。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】内部源组件和相关联的部件


[0001]本专利技术涉及内部源组件和相关联的部件，包括推斥极组件、电离布置结构、接线安装件、质谱仪组件和内部源手柄组件。

技术介绍

[0002]气相色谱（GC）是一种众所周知的分析分离技术。含有固定相的柱被布置在GC烘箱中。样品与流动相（载气）一起被引入到柱中，并通过GC烘箱加热。样品与柱中的固定相相互作用，并且样品组分从色谱柱端部以不同速率洗脱，该速率取决于它们的化学和物理性质以及对固定相的亲和力。流动相可包括例如惰性或非反应性气体，诸如氦气或氮气。
[0003]已知将GC烘箱与质谱仪（MS）——所谓的GC/MS系统布置结构——接口连接，以用于分析样品中分离的组分。
[0004]一般来说，质谱仪包括离子源、质量分析仪和检测器。有不同类型的离子源。本说明书中所指类型的质谱仪的离子源包括内部源组件和外部源组件。来自GC的样品的进入组分（GC洗脱液）首先被引入内部源组件中。这里，它们在与由一根或多根灯丝发射的电子碰撞时被离子源电离，并且然后被朝向外部源组件发射，该外部源组件引导离子朝向质谱仪的分析仪和检测器通过一系列离子透镜（提取透镜堆叠）。提取透镜堆叠通常固定到分析仪外壳。在使用中，内部源组件与外部源组件配合。
[0005]内部源可采用多种类型的离子源中的一种，包括电子电离（EI）和化学电离（CI）。样品从气相色谱柱进入离子源，进入到邻近一根或多根灯丝的内部源外壳的容积中。由灯丝发射的电子与样品分子相互作用，所述分子用于使它们电离。然后，带电荷的推斥极朝向外部源组件的透镜堆叠推斥正离子。
[0006]本文公开的专利技术的方面大致涉及对内部源组件的各种部件的改进。术语“内部源”和“外部源”与上述一般定义一致地在本文使用，以增加清晰度。然而，内部和外部源组件的相应部件同样是源组件整体的部件。
[0007]质谱仪是高度灵敏和精确的设备，并且需要定期维护和清洁，以便保持其最佳操作条件。如果维护中的至少一些可以由实验技术人员在现场使用常规工具（如果有的话）执行，则这是有益的。期望确保维护尽可能简单，从而减少出错的机会，最小化设备的停机时间，并确保质谱仪在重新组装时有效操作。同样，期望确保质谱仪的制造和组装尽可能简化。

技术实现思路

[0008]因此，本专利技术的一个方面提供了一种用于质谱仪的内部源组件，该组件包括：基座；和容积式外壳，其能够可移除地连接到基座，用于在其间保持推斥极组件，其中，基座和容积式外壳中的一者包括至少两个突起，并且容积式外壳和基座中的另一者包括至少两个对应的狭槽以容纳和保持所述突起，
其中，突起彼此不同，且狭槽彼此不同。
[0009]在至少一个实施例中，第一突起比第二突起更长。在至少一个实施例中，第一突起具有比第二突起更大的宽度。在至少一个实施例中，每个突起的近端带有螺纹，并且被容纳在基座或容积式外壳中的螺纹孔中。在至少一个实施例中，第一突起近端上的螺纹不同于第二突起近端上的螺纹。
[0010]在至少一个实施例中，第一突起近端上的螺纹是顺时针的，并且第二突起近端上的螺纹是逆时针的。在至少一个实施例中，第一突起近端上的螺纹的螺距不同于第二突起近端上的螺纹的螺距。在至少一个实施例中，突起一体地形成在容积式外壳上。在至少一个实施例中，狭槽从容积式外壳或基座的轴向端面纵向延伸，并且每个狭槽包括口部。在至少一个实施例中，第一狭槽的口部比第二狭槽的口部更宽。在至少一个实施例中，第一狭槽的口部比第一突起更宽，且比第二突起更窄。在至少一个实施例中，基座包括凹形部分，并且容积式外壳包括至少部分可容纳在基座的凹形部分中的凸形部分。在至少一个实施例中，所述至少两个径向延伸的突起设置在凸形部分上，并且所述至少两个对应的狭槽设置在凹形部分上。在至少一个实施例中，基座的至少上部部分是大致圆柱形的，并且包括其中设置有所述狭槽的壁。在至少一个实施例中，所述至少两个狭槽是大致L形卡口狭槽。在至少一个实施例中，狭槽包括大致纵向延伸的第一部段、大致垂直于第一部段延伸的第二部段和大致纵向延伸的第三部段。在至少一个实施例中，第二部段还包括卡位。在至少一个实施例中，内部源组件还包括弹性构件，以偏压基座和容积式外壳彼此远离。在至少一个实施例中，突起是销。
[0011]本专利技术的另一方面提供了一种推斥极组件，包括：包括轴的推斥极；和推斥极保持器，其包括用于容纳推斥极轴的至少一部分的孔，其中所述轴和/或推斥极保持器包括对应的键接特征，以防止推斥极相对于推斥极保持器的旋转移动。
[0012]在至少一个实施例中，轴和孔中的一者设置有至少一个纵向突起，该突起可容纳在设置在孔和轴中的另一者上的至少一个对应通道中。在至少一个实施例中，所述轴和/或推斥极具有单个对称平面，或者没有对称平面。在至少一个实施例中，轴和/或孔是非圆柱形的。在至少一个实施例中，轴和/或孔包括设置有至少一个平坦部分的基本上圆柱形的表面。在至少一个实施例中，轴和孔包括基本相同的横截面。在至少一个实施例中，推斥极保持器由基本上绝热和电绝缘的材料构成。在至少一个实施例中，推斥极的轴带有螺纹。在至少一个实施例中，还提供了一种推斥极杆，其具有螺纹孔，以在其中容纳推斥极的螺纹轴。在至少一个实施例中，还提供了电离室，推斥极和推斥极保持器的至少一部分容纳在电离室中。
[0013]本专利技术的另一方面提供了一种推斥极组件，包括：包括孔的绝热和电绝缘推斥极保持器；推斥极，其容纳在推斥极保持器的孔中；和包括孔的电离室，推斥极保持器容纳在电离室的孔中，使得推斥极基本上与电离室绝热和电绝缘。
[0014]本专利技术的另一方面提供了一种电离布置结构，包括：包含孔的容积式外壳；和
电离室，其具有外表面并且可容纳在所述孔中，其中所述孔和/或外表面被构造成使得电离室仅可以单个旋转取向容纳在孔中。
[0015]在至少一个实施例中，孔和/或外表面具有单个对称平面。
[0016]在至少一个实施例中，孔和/或外表面具有/不具有对称平面。
[0017]在至少一个实施例中，孔和/或外表面是非圆柱形的。
[0018]在至少一个实施例中，孔和/或外表面包括设置有至少一个平坦部分的基本圆柱形的表面。
[0019]在至少一个实施例中，孔和/或外表面包括基本上相同的横截面。
[0020]本专利技术的另一方面提供了一种电离布置结构套件，包括：包括具有第一横截面的孔的第一容积式外壳；包括具有第二横截面的孔的第二容积式外壳；第一电离室，其具有基本上具有第一横截面的外表面；和第二电离室，其具有基本上具有第二横截面的外表面，其中第一和第二横截面不同，使得只有第一电离室可容纳在第一容积式外壳的孔中，并且只有第二电离室可容纳在第二容积式外壳的孔中。
[0021]在至少一个实施例中，容积式外壳由铝青铜构成。
[0022]在至少一个实施例中，电离室由不锈钢构成。
[0023]本专利技术的另一方面提供了一种包括源块和电离布置结构的源组件。
[0024]在至少一个实施例中，电离布置结构的源块和容积式外壳由不同本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于质谱仪的内部源组件，所述组件包括：基座；和容积式外壳，其能够可移除地连接到所述基座，以用于在其间保持推斥极组件，其中，所述基座和容积式外壳中的一者包括至少两个突起，并且所述容积式外壳和基座中的另一者包括至少两个对应的狭槽以容纳和保持所述突起，其中，所述突起彼此不同，并且所述狭槽彼此不同。2.根据权利要求1所述的内部源组件，其中，第一突起比第二突起更长。3.根据权利要求1或2所述的内部源组件，其中，第一突起具有比第二突起更大的宽度。4.根据权利要求1至3中任一项所述的内部源组件，其中，每个突起的近端带有螺纹并被容纳在所述基座或容积式外壳中的螺纹孔中。5.根据权利要求4所述的内部源组件，其中，第一突起的近端上的螺纹不同于第二突起的近端上的螺纹。6.根据权利要求4和5中任一项所述的内部源组件，其中，第一突起的近端上的螺纹是顺时针的，并且第二突起的近端上的螺纹是逆时针的。7.根据权利要求4至6中任一项所述的内部源组件，其中，第一突起的近端上的螺纹的螺距不同于第二突起的近端上的螺纹的螺距。8.根据权利要求1至3中任一项所述的内部源组件，其中，所述突起一体地形成在所述容积式外壳上。9.根据权利要求1至7中任一项所述的内部源组件，其中，所述狭槽从所述容积式外壳或基座的轴向端面纵向延伸，并且每个狭槽包括口部。10.根据权利要求1至9中任一项所述的内部源组件，其中，第一狭槽的口部比第二狭槽的口部更宽。11.根据权利要求1至10中任一项所述的内部源组件，其中，第一狭槽的口部比第一突起更宽，并且比第二突起更窄。12.根据权利要求1至11中任一项所述的内部源组件，其中，所述基座包括凹形部分，并且所述容积式外壳包括至少部分可容纳在所述基座的凹形部分中的凸形部分。13.根据权利要求12所述的内部源组件，其中，所述至少两个径向延伸的突起设置在所述凸形部分上，并且所述至少两个对应的狭槽设置在所述凹形部分上。14.根据权利要求1至13中任一项所述的内部源组件，其中，所述基座的至少上部部分是大致圆柱形的，并且包括其中设置有所述狭槽的壁。15.根据权利要求1至14中任一项所述的内部源组件，其中，所述至少两个狭槽是大致L形卡口狭槽。16.根据权利要求1至14中任一项所述的内部源组件，其中，所述狭槽包括大致纵向延伸的第一部段、大致垂直于所述第一部段延伸的第二部段和大致纵向延伸的第三部段。17.根据权利要求16所述的内部源组件，其中，所述第二部段还包括卡位。18.根据权利要求1至17中任一项所述的内部源组件，其中，所述内部源组件还包括弹性构件，以将所述基座和所述容积式外壳彼此偏压远离。19.根据权利要求1至18中任一项所述的内部源组件，其中，所述突起是销。20.一种推斥极组件，包括：
包括轴的推斥极；和推斥极保持器，其包括用于接收所述推斥极的轴的至少一部分的孔，其中，所述轴和/或推斥极保持器包括对应的键接特征，以防止所述推斥极相对于推斥极保持器的旋转移动。21.根据权利要求20所述的推斥极组件，其中，所述轴和孔中的一者设置有至少一个纵向突起，所述至少一个纵向突起可容纳在设置在所述孔和轴中的另一者上的至少一个对应的通道中。22.根据权利要求20至21中任一项所述的推斥极组件，其中，所述轴和/或推斥极具有单个对称平面，或者没有对称平面。23.根据权利要求20至22中任一项所述的推斥极组件，其中，所述轴和/或孔是非圆柱形的。24.根据权利要求20至23中任一项所述的推斥极组件，其中，所述轴和/或孔包括基本上圆柱形的表面，其设置有至少一个平坦部分。25.根据权利要求20至24中任一项所述的推斥极组件，其中，所述轴和孔包括基本相同的横截面。26.根据权利要求20至25中任一项所述的推斥极组件，其中，所述推斥极保持器由基本上绝热和电绝缘的材料构成。27.根据权利要求20至26中任一项所述的推斥极组件，其中，所述推斥极的轴带有螺纹。28.根据权利要求27所述的推斥极组件，还包括推斥极杆，所述推斥极杆具有螺纹孔，以在其中接收所述推斥极的螺纹轴。29.根据权利要求20至28中任一项所述的推斥极组件，还包括电离室，所述推斥极和推斥极保持器的至少一部分容纳在所述电离室中。30.一种推斥极组件，包括：包括孔的绝热和电绝缘推斥极保持器；容纳在所述推斥极保持器的孔中的推斥极；和包括孔的电离室，所述推斥极保持器被容纳在所述电离室的孔中，使得所述推斥极基本上与所述电离室绝热和电绝缘。31.一种电离布置结构，包括：包括孔的容积式外壳；和电离室，其具有外表面并且可容纳在所述孔中，其中，所述孔和/或外表面被构造成使得所述电离室仅可以单个旋转取向容纳在所述孔中。32.根据权利要求31所述的电离布置结构，其中，所述孔和/或外表面具有单个对称平面。33.根据权利要求31所述的电离布置结构，其中，所述孔和/或外表面不具有对称平面。34.根据权利要求31至33中任一项所述的电离布置结构，其中，所述孔和/或外表面是非圆柱形的。35.根据权利要求31至33中任一项所述的电离布置结构，其中，所述孔和/或外表面包括设置有至少一个平坦部分的大致圆柱形表面。
36.根据权利要求31至35中任一项所述的电离布置结构，其中，所述孔和/或外表面包括基本上相同的横截面。37.一种电离布置结构套件，包括：第一容积式外壳，其包括第一横截面的孔；第二容积式外壳，其包括第二横截面的孔；第一电离室，其具有基本上具有所述第一横截面的外表面；和第二电离室，其具有基本上具有所述第二横截面的外表面，其中，所述第一和第二横截面不同，使得只有所述第一电离室可容纳在所述第一容积式外壳的孔中，并且只有所述第二电离室可容纳在所述第二容积式外壳的孔中。38.根据权利要求31至36中任一项所述的电离布置结构，其中，所述容积式外壳由铝青铜构成。39.根据权利要求31至36中任一项所述的电离布置结构，其中，电离室由不锈钢构成。40.一种源组件，包括：源块；和根据权利要求31至36、38...

【专利技术属性】
技术研发人员：A，
申请(专利权)人：英国质谱公司，
类型：发明
国别省市：