触控屏制造技术

本实用新型专利技术公开了一种触控屏，包含显示区域和传输区域，所述传输区域设置于显示区域周围的至少一边，由上至下依次为透明盖板、第一粘合剂层、第一低阻导电层、第一柔性薄膜基材、第二粘合剂层、第二低阻导电层、第二柔性薄膜基材，所述第一低阻导电层、第二低阻导电层包含连续结构的电传导层，所述电传导层包含金属和该金属的氧/氮化物；所述第一低阻导电层包含一体成型的第一触控导电层和的第一导线，所述第二低阻导电层包含一体成型的第二触控导电层和第二导线，所述第一触控导电层、第二触控导电层对应于所述显示区域，所述第一导线、第二导线对应于所述传输区域，所述第一导线的厚度大于第一触控导电层的厚度、所述第二导线的厚度大于第一触控导电层的厚度。本实用新型专利技术的目的在于使触控屏在保持高透光性的同时更加轻薄化，制程简单、节约成本。节约成本。节约成本。

【技术实现步骤摘要】
触控屏


[0001]本技术涉及一种的触控屏，尤其涉及一种电容式GFF的触控屏。

技术介绍

[0002]近年来，触控屏具有人机互动的特性，已被广泛应用于智能型手机(smart phone)、卫星导航系统(GPS navigator system)、平板计算机(tablet PC)、个人数字助理(PDA)以及笔记本电脑(laptop PC)等电子产品上。触控面板被配置在这些电器商品的显示屏上使用，以便让使用者可进行交互式输入操作，提升输入操作效率。
[0003]目前触控板中常见的一种结构是GFF结构，G是指盖板，起到保护作用，F是指承载导电层的薄膜，双层薄膜分别感应和驱动共同完成触控功能。现有技术中，导电层的材料通常为ITO，在薄膜上溅射几百纳米厚度的ITO薄膜，但是触控屏整体轻薄化的趋势，使得整体厚度偏大。且ITO有易脆和阻抗大的特点，传输区域需要用阻抗较小的银浆等材料来做电传输，需要在搭接上额外加强，否则显示和传输区域会发生脱离，影响触控功能。另外，显示区域和传输区域在制程中需要分步骤做，先溅镀ITO薄膜，再印制导电银浆，再分别对显示区域和传输区域图案化。以上制程复杂繁琐，成本高。另外显示区域和传输区域分别采用不同的材料。

技术实现思路

[0004]为解决以上问题，本技术提出来一种触控屏，在保持高透光性的同时使触控屏更加轻薄化，包含显示区域和传输区域，所述传输区域设置于显示区域周围的至少一边，由上至下依次为透明盖板、第一粘合剂层、第一低阻导电层、第一柔性薄膜基材、第二粘合剂层、第二低阻导电层、第二柔性薄膜基材，所述第一低阻导电层、第二低阻导电层包含连续结构的电传导层，所述电传导层包含金属和该金属的氧/氮化物；所述第一低阻导电层包含一体成型的第一触控导电层和的第一导线，所述第二低阻导电层包含一体成型的第二触控导电层和第二导线，所述第一触控导电层、第二触控导电层对应于所述显示区域，所述第一导线、第二导线对应于所述传输区域，所述第一导线的厚度大于第一触控导电层的厚度、所述第二导线的厚度大于第一触控导电层的厚度。
[0005]优选的，所述第一粘合剂层的折射率为1.6-1.8，所述第二粘合剂层的折射率为1.8-2.0。
[0006]优选的，所述第一触控导电层、第二触控导电层的厚度为80-120nm。
[0007]优选的，所述电传导层的厚度为3-10nm。
[0008]优选的，所述电传导层包含最高点和最低点，最高点和最低点的距离小于4nm。
[0009]优选的，所述金属为银、铜、银铜合金。
[0010]优选的，所述第一导线和第一触控导电层、第二导线和第二触控导电层的厚度差为18nm-22nm。
[0011]优选的，所述第一导线高出第一触控导电层的侧面的水平投影距离为0-5nm。
[0012]优选的，所述电传导层形成的方法包括：
[0013]步骤1)，将金属靶材放于充有惰性气体的腔室内，在溅射过程中通入氧气或氮气；
[0014]步骤2)，在显示区域放入隔档治具按步骤1的方法继续溅射传输区域。
附图说明
[0015]图1为本技术一实施例的触控屏俯视图。
[0016]图2为图1A-A
’
方向剖面示意图。
具体实施方式
[0017]通过在本技术所提出的叠层结构中对于多种元件的位置使用例如“顶上”、“上”、“最上”、“下面”等取向单词，我们是指元件相对于水平设置的、面向上的支承体的相对位置。并不预期膜或制品在其制造期间或者之后在空间中应该具有任何具体取向。
[0018]本技术的“岛状结构”是指金属在承载层上微观呈现像岛屿一样形成的结构，该岛屿不与其他岛屿相连接。
[0019]本技术的“连续结构”是指金属在承载层上微观呈现像山脉连延的形状，在低谷也必须相连，也可以指金属上呈现平整的层状结构。
[0020]术语“透明”当用于膜或层合的玻璃制品时是指通过肉眼在约1米的距离处检测，在膜或制品中没有视觉上可见的失真、模糊或缺陷。
[0021]术语“金属的氧/氮化物”是指该金属元素与氧元素组成的二元化合物或该金属元素与氮元素组成的二元化合物。
[0022]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0023]如图1、图2所示，本实施例揭露了一触控屏，包括显示区域1和传输区域2，所述传输区域2设置于显示区域1周围，由上至下依次为透明盖板3、第一粘合剂层4、第一低阻导电层5、第一柔性薄膜基材6、第二粘合剂层7、第二低阻导电层8、第二柔性薄膜基材9，所述第一低阻导电层5、第二低阻导电层8包含连续结构的电传导层，所述电传导层包含金属和该金属的氧/氮化物；所述第一低阻导电层包含一体成型的第一触控导电层51和的第一导线52，所述第二低阻导电层包含一体成型的第二触控导电层81和第二导线82，所述第一触控导电层51、第二触控导电层81对应于所述显示区域1，所述第一导线52、第二导线82对应于所述传输区域2，所述第一导线52的厚度大于第一触控导电层51的厚度、所述第二导线82的厚度大于第一触控导电层81的厚度。
[0024]现有技术中显示区域和传输区域采用不同材料制作，分道制程，通常搭接部分需要额外补强，否则搭接区域容易脱离，造成断路，本技术与传输区域对应的导线部分(以下均包括第一导线或第二导线)和与显示区域对应的触控导电层部分(以下均包括第一触控导电层或第二触控导电层)一体成型的技术特征解决了制作过程繁琐的问题，搭接区域连接效果更好。此处的一体成型是指在成膜的制程中，通过同一种方法、相同主要设备、同一个工序中形成。本技术的低阻导电层在制程上是一体成型，在功能上却是有所区分，其功能的区分是在经过后续加工中才得以实现，如对触控导电部分和导线部分进行不
同图案的设计和镭射，分别形成对应的触控区域和导线区域。
[0025]现有技术中，之所以显示区域和传输区域采用不同的材料，是因为现有的ITO材料阻抗过大，传输区域通常选用阻抗较低的导电银浆，而本技术的低阻导电层(以下均包括第一低阻导电层或第二低阻导电层)由于低阻特性，相同的材料可以用来传输信号，但是传输信号的导线不仅受电阻大小影响，也受电抗影响，因此第一导线、第二导线的厚度大于第一触控导电层、第二触控导电层，更大地降低阻抗。但是现有技术中的低阻导电层通常包含由金属构成的电传导层，但是金属电传导层太厚容易造成影响光透过率，和其他层结构折射率不同引起色差。但是由于金属的高表面能的特性，用普通的制备方法电传导太薄通常会形成岛状结果，岛状结构影响影响金属粒子的迁移，从而影响层结构的导电率，本技术的电传导层通过金属和该金属氧/氮化物的组合，解决了这技术问题。
[0026]本技术的透明盖板3可以是平面也可以是非平面，材料可以是无机材料，例如，玻璃、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种触控屏，包含显示区域和传输区域，所述传输区域设置于显示区域周围的至少一边，由上至下依次为透明盖板、第一粘合剂层、第一低阻导电层、第一柔性薄膜基材、第二粘合剂层、第二低阻导电层、第二柔性薄膜基材，所述第一低阻导电层、第二低阻导电层包含连续结构的电传导层，所述电传导层包含金属和该金属的氧/氮化物；所述第一低阻导电层包含一体成型的第一触控导电层和的第一导线，所述第二低阻导电层包含一体成型的第二触控导电层和第二导线，所述第一触控导电层、第二触控导电层对应于所述显示区域，所述第一导线、第二导线对应于所述传输区域，所述第一导线的厚度大于第一触控导电层的厚度、所述第二导线的厚度大于第一触控导电层的厚度。2.根据权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述第一粘合剂层的折射率...

【专利技术属性】
技术研发人员：张玉春，仲树栋，
申请(专利权)人：北京载诚科技有限公司，
类型：新型
国别省市：