一种复合添加剂溶液及提高取向硅钢底层密实性的方法与取向硅钢片技术

本发明专利技术提供一种复合添加剂溶液及提高取向硅钢底层密实性的方法与取向硅钢片。该复合添加剂溶液包括10

【技术实现步骤摘要】
一种复合添加剂溶液及提高取向硅钢底层密实性的方法与取向硅钢片


[0001]本专利技术属于电工钢
，尤其涉及一种复合添加剂溶液及提高取向硅钢底层密实性的方法与取向硅钢片。

技术介绍

[0002]为了制造具有优良的硅酸镁玻璃膜底层和磁性能的取向硅钢产品，重要的是控制取向硅钢脱碳退火和高温退火工艺、氧化镁及其添加剂的配制和涂覆。其中，氧化镁及其添加剂是取向硅钢生产中形成硅酸镁玻璃膜底层的主要成膜物质。硅酸镁玻璃膜底层是取向硅钢绝缘涂层的重要组成部分，实际生产过程中，良好致密的硅酸镁底层是形成取向硅钢成品优异的表面质量和性能的关键。在生产过程中，先将纯水及TiO2、Mg(BO2)2、Sb2(SO4)3等添加剂进行搅拌，再加入氧化镁配制成浆料，随后将浆料悬浮液引入涂层机涂覆至带钢表面，干燥，带钢成卷后进入环形炉进行二次高温退火。氧化镁可以防止钢卷在高温退火时粘接，并形成硅酸镁底层，促进脱硫和脱氮反应。然而，目前的添加剂配方仍然会存在致密性和稳定性不佳的问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术为解决上述技术问题提供一种复合添加剂溶液及提高取向硅钢底层密实性的方法与取向硅钢片。
[0004]为了实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：
[0005]一种复合添加剂溶液，所述复合添加剂溶液包括10-20wt％乙醇、5-10wt％H3BO3、1-3wt％SrCl2·
6H2O、1-3wt％钴源、3-6wt％锑源、余量为水。
[0006]优选地，所述钴源为三氯化六氨合钴和CoSO4·
7H2O的混合物。
[0007]优选地，所述三氯化六氨合钴和CoSO4·
7H2O的质量比为1～3:1～3。
[0008]优选地，所述三氯化六氨合钴和CoSO4·
7H2O的质量比为1:1。
[0009]优选地，所述锑源为草酸锑。
[0010]优选地，所述水的电阻率在5
×
106以上。
[0011]一种提高取向硅钢底层密实性的方法，包括以下步骤：
[0012]将复合添加剂溶液、TiO2及水混合搅拌分散均匀；
[0013]然后在快速搅拌的情况下，徐徐加入氧化镁粉末，得到氧化镁悬浮液，控制此氧化镁悬浮液温度在5℃以下，得到氧化镁涂液；
[0014]将氧化镁涂液涂覆到取向硅钢退火板上使用。
[0015]以上氧化镁涂液的配制比例为：100重量份的氧化镁、1～5重量份的TiO2、3～30重量份的复合添加剂溶液、800～1000重量份的水，所述复合添加剂溶液为所述的复合添加剂溶液。
[0016]优选地，所述复合添加剂溶液的制备方法为：先加入50wt％的水、10-20wt％乙醇
和5-10wt％H3BO3充分搅拌至H3BO3完全溶解，然后在保持快速搅拌的状态下依次缓慢加入1-3wt％SrCl2·
6H2O、1-3wt％钴源、3-6wt％锑源，经搅拌完全溶解，最后补充余量的水。
[0017]一种取向硅钢片，所述取向硅钢片包括硅酸镁底层和设置于所述硅酸镁底层表面的绝缘涂层，所述硅酸镁底层由所述的氧化镁涂液涂覆于取向硅钢退火板上制得。
[0018]本专利技术的乙醇能增大有机酸盐草酸锑和三氯化六氨合钴的溶解性，增强添加剂分子反应活性，提高添加剂分子在氧化镁颗粒表面分散均匀性和稳定性，降低氧化镁浆料粘度，改善带钢表面涂覆性和稳定性；本专利技术的硼酸属于低熔点化合物，随炉温升高，提前形成液相状态，增大固相反应接触面积和扩散速度，降低硅酸镁成膜温度；本专利技术的锑源为有机酸锑盐草酸锑，溶解性好，与添加剂组分兼容性好，分散性好；同时，本专利技术选用的氯化锶，Sr
2+
离子的半径大，和镁离子亲和性好，结合Sb
3+
离子的半径大和熔点低的特点，在微观状态下与氧化硅等化合物颗粒的接触面积大，引入高温固相反应的活性位点，提前引发并加快高温时氧化镁和氧化硅固相反应的反应速率；氯离子反应活性高，可以减少取向硅钢表面FeO含量，使硅钢表面氧化硅更致密，高温固相反应时形成的硅酸镁底层中的杂质少，从而改善硅酸镁底层质量；Co离子在高温状态下迁移活性高，可以改善硅酸镁底层韧性，底层附着性好，均匀有光泽；硫酸钴溶解性好，高温时硫酸根分解成SO3，使膜层有一定氧化性，三氯化六氨合钴随环形炉温度的升高，逐渐分解释放出NH3气体，确保在生成硅酸镁膜层的固相反应之前，在带钢表面形成内部保护气氛，有利于硅酸镁膜层成膜的致密性和表面均匀一致性，同时有利于带钢二次再结晶稳定，成品取向硅钢的表面性能和磁性能优异。
[0019]本专利技术与现有技术相比具有如下有益效果：
[0020]1)本专利技术引入液态复合添加剂溶液，提高添加剂分子在氧化镁颗粒表面分散均匀性，减少氧化镁颗粒团聚。高温状态下熔点低，随着环形炉温度的升高，可以提前形成液相状态，增大氧化镁和取向硅钢表面氧化硅的固相表面接触面积和扩散速度，降低固相反应温度，加快硅酸镁底层的稳定形成，提高硅酸镁底层的致密性。
[0021]2)本专利技术的复合添加剂溶液的分散性更好：现有技术方案的硼酸镁水溶解性不高，在溶液配制过程中不易分散均匀；硫酸锑容易吸潮结块，不利于现场生产操作；本专利技术的复合添加剂溶液为水性溶液，与水可以完全互溶，更易于氧化镁配液时分散均匀。
[0022]3)本专利技术得到的硅酸镁底层均匀有光泽，底层弯曲性不脱落，附着性高，底层质量较好，表面光亮度高，底层色泽整体均匀连续一致，附着性为B级以上，基本达到A级(对比例主要为C级)，磁性能良好稳定。
附图说明
[0023]图1为本专利技术的硅酸镁底层在850℃的截面SEM图。
[0024]图2为本专利技术的硅酸镁底层在900℃的截面SEM图。
[0025]图3为本专利技术的硅酸镁底层在950℃的截面SEM图。
[0026]图4为本专利技术的硅酸镁底层在1000℃的截面SEM图。
[0027]图5为本专利技术的硅酸镁底层在1050℃的截面SEM图。
[0028]图6为本专利技术的硅酸镁底层在1100℃的截面SEM图。
具体实施方式
[0029]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0030]本专利技术提供一种复合添加剂溶液，所述复合添加剂溶液包括10-20wt％乙醇、5-10wt％H3BO3、1-3wt％SrCl2·
6H2O、1-3wt％钴源、3-6wt％锑源、余量为水。
[0031]所述钴源为三氯化六氨合钴和CoSO4·
7H2O的复合。所述三氯化六氨合钴和CoSO4·
7H2O的质量比为1～3:1～3，优选为1:1。所述锑源为草酸锑。所述水的电阻率在5
×
106以上。
[0032]表1列出了实施例1至实施例8以及对比例1至对比例9的不同配方的复合添加剂溶液。
[0033本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种复合添加剂溶液，其特征在于，所述复合添加剂溶液包括10-20wt％乙醇、5-10wt％H3BO3、1-3wt％SrCl2·
6H2O、1-3wt％钴源、3-6wt％锑源、余量为水。2.如权利要求1所述的复合添加剂溶液，其特征在于，所述钴源为三氯化六氨合钴和CoSO4·
7H2O的复合。3.如权利要求2所述的复合添加剂溶液，其特征在于，所述三氯化六氨合钴和CoSO4·
7H2O的质量比为1～3:1～3。4.如权利要求3所述的复合添加剂溶液，其特征在于，所述三氯化六氨合钴和CoSO4·
7H2O的质量比为1:1。5.如权利要求1所述的复合添加剂溶液，其特征在于，所述锑源为草酸锑。6.如权利要求1所述的复合添加剂溶液，其特征在于，所述水的电阻率在5
×
106以上。7.一种提高取向硅钢底层密实性的方法，其特征在于，包括以下步骤：将复合添加剂溶液、TiO2及水混合搅拌分散均匀；然后在快速搅拌的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张刚，高虎，梁军，
申请(专利权)人：武汉圆融科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：