图像曝光设备制造技术

本发明专利技术涉及一种用于在卤化银光敏材料上曝光图像的图像曝光设备，包括：一个或多个用于发射光图像的阵列光源，每个阵列光源具有多排发光器件，多排中每一排具有被排成一条直线的多个发光器件，并且多排发光器件的相邻两排的其中一排在纵向上被移位形成发光器件的交错布局；以及一个聚光器件，用于将从阵列光源发出的光图像会聚到卤化银光敏材料上。其中，多排发光器件中各排间的间距不大于５００微米。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种图像曝光设备，特别是涉及一种图像曝光设备，其中，卤化银光敏材料被曝光于由多个阵列光源中的每一个所发射的并且具有不同波长的光图像。
技术介绍
到目前为止，已经提出的一种图像曝光设备中，为每种记录颜色提供了一种具有多个发光器件的阵列光源，卤化银光敏材料例如相纸被曝光于光图像，并且这种图像曝光设备已经在实际中使用。近年来，已经提出一种图像曝光设备，其中，从阵列光源为每种记录颜色所发射的光被混合而形成一种线形光通量，并且这种线形光通量通过一种聚光装置被聚集在光敏材料上使曝光得以进行(例如，见专利文献1)。作为聚光装置，使用一种自聚焦透镜阵列代表一种线形的尺寸相同的直立图像形成透镜，它由多个安排成单独一排或多排的自聚焦透镜构成。当使用这种图像曝光设备进行曝光时，需要通过适合的曝光量来建立形成在光敏材料上的一个像素的尺寸。这是因为当像素尺寸太小时会导致很大的像素间距，在有些时候难于获得高密度从而导致图像缺少锐度，当像素尺寸太大时会导致明显的像素重叠，在另一方面，线图像有时会变粗或图像缺少清晰度，从而导致图像质量的下降。为了给像素尺寸建立一个适合的值以防止图像质量的下降，这就需要为阵列光源的发光器件的尺寸建立一个适合的值。作为阵列光源发光器件的尺寸，最好它与排成一直线的发光器件圆心之间的距离接近。可是，以空间来讲，很难将发光器件排成一直线，因为需要有控制每一发光器件的电线，需要有精确和特定的结构，这导致了制造上的困难以及不理想的产量。因此多个发光器件被安排成多排，并且相邻排中的一排在纵向上被移位呈交错形，从而解决了上述各种问题，可以很容易地建立发光器件的尺寸，从而防止了图像质量的下降。顺便提及，因为从阵列光源发出的光会发生扩散，所以优选地使得从阵列光源到聚光装置之间的距离尽可能的短。因此，元件的布局非常地受限，包括需要将光混合元件容纳在阵列光源和聚光装置之间的一个小空间中，并且要求混合元件具备紧凑、精确以及特定的结构。另外，因为上述在元件布局上的限制，阵列光源也需要有特定的结构(例如，使用高强度特定材料的薄类型结构)。还有，在与其它元件配合的情况下，需要小公差的精确操作，这导致了制造成本的上升。为了控制由于元件布局上的限制所导致的制造成本的上升，近年来采用大孔径的透镜用作聚光器件(例如排成多排的自聚焦透镜阵列)。即，当使用一个大孔径的透镜时，有可能使得从阵列光源到透镜之间的距离较长，因此对元件布局的限制较少，从而制造成本的增长可以被控制。(专利文献)特开第2000-6469(第2页，图9)(本专利技术所要解决的技术问题)在所述的图像曝光设备中，使用了如上所述的具有多排发光器件的阵列光源和一个大孔径的透镜，防止了图像质量的下降并控制了制造成本。但是，这种图像曝光设备存在着下列问题。也就是，当使用大孔径的透镜时，每个透镜的特性不同导致了在曝光位置的离散。特别是，当使用多排自聚焦透镜阵列时，每个自聚焦透镜阵特性的不同以及组装误差都可能造成曝光位置的离散。众所周知，自聚焦透镜越长，越容易导致图像形成位置的离散。另外，当使用一个具有多排发光器件的阵列光源时，各发光器件排的曝光点组合而形成一排曝光线，所以，如果产生了曝光位置的离散，在图像上容易形成“条纹”。例如，在使用交错布局阵列光源的情况下(见图6a)，其中奇数排的曝光位置是错开的，这样奇数排中的每一个可以被放置在偶数排之间。当奇数排的曝光位置和偶数排的曝光位置偏离时，两个像素重叠部分100和非曝光部分200交替形成，如图6b所示，这些两个像素重叠部分100的扫描线经由副扫描例如光敏材料的运送和阵列光源的运动，形成了有规律间距的“条纹”。这些“条纹”的密度大约是阵列光源写入密度的一半，并且，“条纹”经由卤化银光敏材料的特殊特性被加强，因此，条纹可被人的肉眼分辩出来，从而导致了图像质量的下降。尽管上述提及的“条纹”是由于曝光位置离散造成的，起源于使用具有多排发光器件的阵列光源以及大孔径的透镜，并且是由卤化银光敏材料的特性导致的，可是制造和选择具有各透镜特性差异小的透镜和减少组装误差会带来成本的增加。进一步，改善卤化银光敏材料的特性是非常困难的，因为需要从细节上搞清楚光敏机理才能开始进行。
技术实现思路
本专利技术的目的是通过防止由曝光位置离散而形成的“条纹”的出现，防止图像质量的下降。这种离散起源于使用具有多排发光器件的阵列光源和大孔径透镜以及卤化银光敏材料的特性。上述目的可以由下列结构而解决。(结构1)一种图像曝光设备，包括阵列光源，其中排列有多排发光器件，多个发光器件被排成一条线的形式，并且邻近发光器件排在纵向上被移开形成交错状；以及一个聚光器件，将发射的光会聚在卤化银光敏材料上，其中呈交错形的阵列光源的发光器件排的间距被设置成在500微米之内。(结构2)一种图像曝光设备，包括阵列光源组，其中排列有多排发光器件，多个发光器件被排成一条线的形式，邻近发光器件排中的一个在纵向上被错开而形成交错状；混光装置(器件)，混合从阵列光源组发出的光并以一条线的形式形成发射光；聚光装置(器件)，将由光混合装置形成的发射光会聚在卤化银光敏材料上，其中，呈交错形的阵列光源的发光器件排的间距被设置成在500微米之内。在结构1和2中，可能停止从阵列光源组发出光的曝光位置离散所形成的“条纹”现象的发生，因为呈交错形的阵列光源的发光器件排的间距被设置在一定的范围内(在500微米以内)。于是，防止了图像质量的下降。(结构3) 根据结构1或2的图像曝光设备，其中，聚光装置(器件)是自聚焦透镜阵列，其中布置有多排自聚焦器件(元件)。在结构3中，因为使用每个透镜具有大孔径的多排自聚焦透镜阵列作为聚光器件，所以可以使得从阵列光源组至聚光器件之间的距离可以较长并且对元件布置的限制较小。其结果是，可以控制制造成本的增加。(结构4)根据结构1至3中任何一个图像曝光设备，其中阵列光源的写入密度被设定在210dpi或更多。在结构4中，因为阵列光源组的写入密度被设置在210dpi或更高，所以可能防止扫描线的出现。也就是说，当用于阵列光源组的写入密度少于210dpi时，扫描线会变得明显，因此即使在“条纹”现象尚未形成时，图像的质量也会降低。可是，通过将阵列光源组的写入密度设置在210dpi或更高就可以使扫描线不会变得明显。因此，可以防止图像质量的下降。(结构5)根据结构1至4中任何一个图像曝光设备，其中阵列光源的写入密度被设定在440dpi或更少。通常，当写入密度是440dpi或更少时，条纹会变得明显。可是通过结合结构1至4中任何一个的限制，可以使条纹现象变得不明显。附图说明图1是本专利技术第一实施例的图像曝光设备中阵列光源附近结构的示意性透视图；图2是图1所示图像曝光设备整体结构的示意性侧视图(阵列光源附近的结构除外)；图3是图1所示图像曝光设备中阵列光源的发光器件的布局示意图；图4是图1所示图像曝光设备电气构造的方块图；图5a和图5b的每一个都是本专利技术第二实施例的图像曝光设备中阵列光源的发光器件的布局示意图；图6a和图6b的每一个都是当使用传统曝光设备时条纹现象形成过程的示意图。具体实施例方式本专利技术的一个实施例将通过附图进行详细解释。在本实施例中，将对一个曝光设备进行解释，其中所述的曝光是指对卤化银光敏本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在卤化银光敏材料上曝光图像的图像曝光设备，包括：一个或多个用于发光的阵列光源，每个阵列光源包括多排发光器件，多排发光器件中的每一排具有多个排成一条直线的发光器件，多排发光器件中相邻两排的至少一排在纵向方向移位形成发光器件的交 错布局；聚光器件，将从阵列光源发出的光图像会聚在卤化银光敏材料上，其中，多排发光器件中各排间的间距不大于５００微米。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：铃木厚司，服部毅，
申请(专利权)人：柯尼卡美能达控股株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]