图像曝光方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供图像曝光装置以及使用该图像曝光装置的曝光方法。所述方法，在具备分别调制被照射光的多个像素部以二维排列而成的ＤＭＤ等空间光调制元件（５０）、照射这种空间光调制元件（５０）的光源（６６）、由分别将来自空间光调制元件（５０）的各像素部的光Ｂ聚光的微透镜（５５ａ），以阵列状配置而成的微透镜阵列（５５）的图像曝光装置中，将微透镜阵列（５５）的各微透镜（５５ａ），制成补正因上述像素部的面的变形而产生的像差的非球面形状。从而，在由空间光调制元件和微透镜阵列组合而成的图像曝光装置中，防止微透镜聚光光束的变形。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
图像曝光方法和装置
本专利技术涉及图像曝光装置，更详细地讲本专利技术涉及一种使被空间光调制元件调制的光通过成像光学系统，将由这种光的像在感光材料上成像，对该感光材料进行曝光的图像曝光装置。本专利技术也涉及使用上述图像曝光装置的曝光方法。
技术介绍
过去已知，使被空间光调制元件调制的光通过成像光学系统，将由这种光的像在规定感光材料上成像，对该感光材料进行曝光的图像曝光装置。这种图像曝光装置，基本上是由具备分别根据控制信号调制被照射光的多个像素部以二维状排列的空间光调制元件，对该光调制元件照射光的光源，和使被所述的空间光调制元件调制的光的像在感光材料上成像的成像光学系统构成的。其中在非专利文献1和本申请人提出的专利申请号第2002-149886号说明书中，示出了具有上述基本构成的图像曝光装置。这种图像曝光装置中，可以适当使用例如LCD(液晶显示元件)和DMD(数字微反射镜器件)等。而上述DMD是指，根据控制信号使反射面变化的多个微反射镜在硅等半导体基板上以二维状排列而成的反射镜器件。上述图像曝光装置中，大多伴随着希望放大在感光材料上投影图像的这一要求，这种情况下可以使用放大成像光学系统本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图像曝光装置，其中具备：空间光调制元件，其分别调制被照射光的多个像素部以二维状排列而成；光源，其对所述空间光调制元件照射光；和成像光学系统，其包含分别将来自所述的空间光调制元件各像素部的光聚光的微透镜以阵列状配置 而成的微透镜阵列，使由所述空间光调制元件调制的光形成的像在感光材料上成像；其特征在于，所述微透镜阵列的各微透镜，被制成补正因所述像素部的面的变形而产生的像差的非球面形状。

【技术特征摘要】
JP 2003-12-26 2003-433799;JP 2004-1-5 2004-000396一种图像曝光装置，其中具备：空间光调制元件，其分别调制被照射光的多个像素部以二维状排列而成；光源，其对所述空间光调制元件照射光；和成像光学系统，其包含分别将来自所述的空间光调制元件各像素部的光聚光的微透镜以阵列状配置而成的微透镜阵列，使由所述空间光调制元件调制的光形成的像在感光材料上成像；其特征在于，所述微透镜阵列的各微透镜，被制成补正因所述像素部的面的变形而产生的像差的非球面形状。2.根据权利要求1所述的图像曝光装置，其特征在于所述的非球面是复曲面。3.一种图像曝光装置，其中具备：空间光调制元件，分别调制被照射光的多个像素部以二维状排列而成；光源，以对所述的空间光调制元件照射光；和成像光学系统，其包含分别将来自所述的空间光调制元件各像素部的光聚光的微透镜以阵列状配置而成的微透镜阵列，使由所述的空间光调制元件调制的光形成的像在感光材料上成像；其特征在于，所述微透镜阵列的各微透镜，被制成具有补正因所述的像素部的面的变形而产生的像差的折射率分布的。4.一种图像曝光装置，其中具备：空间光调制元件，其分别调制被照射光的多个矩形像素部以二维状排列而成；光源，以对所述的空间光调制元件照射光；和成像光学系统，其包含分别将来自所述的空间光调制元件各像素部的光聚光的微透镜以阵列状配置而成的微透镜阵列，使由所述的空间光调制元件调制的光形成的像在感光材料上成像；其特征在于，所述微透镜阵列的各微透镜，被制成具有不使来自所述的像素部的周边部分的光入射的透镜开口形状的。5.根据权利要求4所述的图像曝光装置，其特征在于，所述微透镜阵列的...

【专利技术属性】
技术研发人员：石川弘美，石井秀一，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]