处理系统技术方案

一种处理系统，当搬运机器人搬运处理对象物时，即使载在处理对象物上的物体从处理对象物洒落，也可抑制洒落的物体在处理装置外部扩散。在处理系统中，手移动机构使载置有处理对象物的手在第一位置和第二位置之间移动，在该第一位置，手配置于处理装置的内部，在该第二位置，手配置于处理装置的外部。用于接收从处理对象物掉落的物体的接收部件至少配置于载置在配置于第二位置的手上的处理对象物的下侧。在处理系统中，当载置有处理对象物的状态的手在第一位置和第二位置之间移动时，使接收部件的一部分沿手的往复移动方向移动的接收部件移动机构使接收部件的一部分向处理装置的内部移动并配置在处理装置的内部。的内部移动并配置在处理装置的内部。的内部移动并配置在处理装置的内部。

【技术实现步骤摘要】
处理系统


[0001]本专利技术涉及一种处理系统，其具备对半导体晶片等处理对象物进行规定处理的处理装置和进行处理对象物相对于处理装置的搬运的搬运机器人。

技术介绍

[0002]目前，已知有搬运半导体晶片的工业用机器人(例如，参照专利文献1)。专利文献1所记载的工业用机器人具备载置半导体晶片的手、以使手能够转动的方式连接所述手的臂以及以使臂的基端侧能够转动的方式连接臂基端侧的主体部。该工业用机器人通过组装到半导体制造系统中来使用，进行半导体晶片从对半导体晶片进行规定处理的处理装置的搬出和半导体晶片向处理装置的搬入。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2017-119326号公报

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的技术问题
[0007]在组装到半导体制造系统中的处理装置中，有一种使用易燃有机溶剂对半导体晶片进行处理的处理装置。在这种情况下，组装到半导体制造系统中的工业用机器人可能产生必须搬运上表面载有易燃有机溶剂的半导体晶片的状况。当工业用机器人搬运上表面载有易燃有机溶剂的半导体晶片时，若半导体晶片的上表面载有的易燃有机溶剂从半导体晶片洒落并在处理装置的外部扩散，则可能发生各种各样的问题。
[0008]因此，本专利技术的技术问题在于，提供一种处理系统，其具备对处理对象物进行规定处理的处理装置和进行处理对象物相对于处理装置的搬运的搬运机器人，当搬运机器人搬运处理对象物时，即使载于处理对象物上的物体从处理对象物洒落，也可以抑制洒落的物体在处理装置的外部扩散。
[0009]解决技术问题所采用的技术方案
[0010]为了解决上述技术问题，本专利技术的处理系统的特征在于，具备处理装置和搬运机器人，所述处理装置对处理对象物进行规定处理，所述搬运机器人进行从处理装置搬出处理对象物及将处理对象物搬入到处理装置中的至少任一项，在处理装置中形成有用于在处理装置的内部和处理装置的外部之间搬运处理对象物的开口部，搬运机器人具备载置处理对象物的手、使朝向恒定方向的状态的手线性移动的手移动机构、配置于比手靠下侧的位置且用于接收从处理对象物掉落的物体的接收部件、以及使接收部件的至少一部分沿手的往复移动方向移动的接收部件移动机构，手移动机构使手在第一位置和第二位置之间移动，在该第一位置，从开口部进入处理装置的手配置于处理装置的内部，在该第二位置，手配置于处理装置的外部，接收部件至少配置于载置在配置于第二位置的手上的处理对象物的下侧，接收部件移动机构使接收部件的至少一部分在第三位置和第四位置之间移动，并
且至少当载置有处理对象物的状态的手在第一位置和第二位置之间移动时，使接收部件的至少一部分移动至第三位置，其中，在该第三位置，从开口部进入处理装置的接收部件的一部分配置于处理装置的内部，在该第四位置，接收部件配置于处理装置的外部。
[0011]在本专利技术的处理系统中，配置成比手靠下侧且用于接收从处理对象物掉落的物体的接收部件至少配置于载置在配置于第二位置的手上的处理对象物的下侧(即，配置于处理装置外部的处理对象物的下侧)。因此，在本专利技术中，当搬运机器人在处理装置的外部对载置于手上的处理对象物进行搬运时，即使载于处理对象物上的物体从处理对象物洒落，也能够通过接收部件抑制洒落的物体扩散(飞散)。
[0012]另外，在本专利技术中，至少当载置有处理对象物的状态的手在第一位置和第二位置之间移动时，接收部件移动机构使接收部件的至少一部分移动至第三位置，在该第三位置，从开口部进入处理装置的接收部件的一部分配置于处理装置的内部。因此，在本专利技术中，当搬运机器人将载置于手上的处理对象物从处理装置搬出时，或当搬运机器人将载置在手上的处理对象物搬入到处理装置时，即使载于处理对象物上的物体从处理对象物洒落，也可以通过接收部件抑制洒落的物体扩散。
[0013]由此可见，在本专利技术中，当搬运机器人在处理装置的外部对处理对象物进行搬运时，即使载于处理对象物上的物体从处理对象物洒落，另外，当搬运机器人将处理对象物从处理装置搬出时或当搬运机器人将处理对象物搬入处理装置时，即使载于处理对象物上的物体从处理对象物洒落，均可以通过接收部件抑制洒落的物体的扩散。因而，在本专利技术中，当搬运机器人搬运处理对象物时，即使载于处理对象物上的物体从处理对象物洒落，也可以抑制洒落的物体在处理装置的外部扩散。
[0014]在本专利技术中，理想的是，当将手从第一位置朝向第二位置移动的移动方向设为第一方向且将与手的往复移动方向和上下方向正交的方向设为第二方向时，搬运机器人具备盖部件，该盖部件从上下方向的两侧、第二方向的两侧及第一方向侧覆盖配置于第二位置的手，盖部件的底部为接收部件。根据该结构，即使在高挥发性物体载于处理对象物上且载于处理对象物上的物体蒸发的情况下，也可以通过从上下方向的两侧、第二方向的两侧及第一方向覆盖配置于第二位置的手的盖部件抑制蒸发物在处理装置的外部扩散。
[0015]在本专利技术中，理想的是，盖部件具备固定盖及相对于固定盖能移动的可动盖，至少当载置有处理对象物的状态的手在第一位置和第二位置之间移动时，接收部件移动机构使可动盖移动至第三位置，且将可动盖的一部分配置于处理装置的内部。根据该结构，与接收部件移动机构使整个盖部件移动的情况相比，即使接收部件移动机构的驱动力较小，也可以使可动盖移动。因而，可以简化接收部件移动机构的结构，使接收部件移动机构小型化。
[0016]在本专利技术中，理想的是，搬运机器人具备从盖部件内部吸引空气的吸引机构。根据该结构，即使当高挥发性物体载于处理对象物上且载于处理对象物上的物体在盖部件内部蒸发的情况下，也可以将蒸发物与空气一起吸引并排放到盖部件外部的规定位置。因而，即使高挥发性物体载于处理对象物上，也可以有效地抑制蒸发物在处理装置的外部扩散。另外，根据该结构，可以将从处理对象物洒落到接收部件(即，盖部件底部)的落下物与空气一起吸引并排放到盖部件外部的规定位置。因而，即使载于处理对象物上的物体从处理对象物洒落，也可以有效地抑制洒落的物体在处理装置外部扩散。
[0017]在本专利技术中，盖部件例如由金属形成。另外，在本专利技术中，接收部件移动机构例如
具备气缸。
[0018]在本专利技术中，例如，手移动机构具备多关节臂和臂驱动机构，该多关节臂在前端侧以使手能够转动的方式连接该手，该臂驱动机构使多关节臂伸缩，第一位置是当多关节臂延伸到规定位置时的手的位置，第二位置是当多关节臂收缩到规定位置时的手的位置。
[0019]另外，在本专利技术中，例如，搬运机器人具备：臂支承部件，所述臂支承部件以使多关节臂的基端侧能够转动的方式连接多关节臂的基端侧；保持架，所述保持架以使臂支承部件能升降的方式保持臂支承部件；升降机构，所述升降机构使臂支承部件相对于保持架升降；以及转动机构，所述转动机构使保持架以上下方向为转动的轴向进行转动，当手位于第二位置时，转动机构使保持架转动。
[0020]专利技术效果
[0021]如上所述，在本专利技术中，在具备对处理对象本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种处理系统，其特征在于，具备：处理装置，所述处理装置对处理对象物进行规定处理；以及搬运机器人，所述搬运机器人进行从所述处理装置搬出所述处理对象物及将所述处理对象物搬入到所述处理装置中的至少任一项，在所述处理装置中形成有用于在所述处理装置的内部和所述处理装置的外部之间搬运所述处理对象物的开口部，所述搬运机器人具备：载置所述处理对象物的手；使朝向恒定方向的状态的所述手线性移动的手移动机构；配置于比所述手靠下侧的位置且用于接收从所述处理对象物掉落的物体的接收部件；以及使所述接收部件的至少一部分沿所述手的往复移动方向移动的接收部件移动机构，所述手移动机构使所述手在第一位置和第二位置之间移动，在所述第一位置，从所述开口部进入所述处理装置的所述手配置于所述处理装置的内部，在所述第二位置，所述手配置于所述处理装置的外部，所述接收部件至少配置于所述处理对象物的下侧，其中，所述处理对象物载置在配置于所述第二位置的所述手上，所述接收部件移动机构使所述接收部件的至少一部分在第三位置和第四位置之间移动，并且至少当载置有所述处理对象物的状态的所述手在所述第一位置和所述第二位置之间移动时，使所述接收部件的至少一部分移动至所述第三位置，其中，在所述第三位置，从所述开口部进入所述处理装置的所述接收部件的一部分配置于所述处理装置的内部，在所述第四位置，所述接收部件配置于所述处理装置的外部。2.根据权利要求1所述的处理系统，其特征在于，当将所述手从所述第一位置朝向所述第二位置移动的移动方向设为第一方向并将与所述手的往复移动方向和上下方向正交的方向设为第二方向时，所述搬运机器人具备盖部件，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林敏之，细川正己，河原启之，桥本光治，菊本宪幸，墨周武，
申请(专利权)人：日本电产三协株式会社，
类型：发明
国别省市：