曝光装置以及高度调整方法制造方法及图纸

能够准确地进行光照射部的高度调整。驱动旋转驱动部而使小齿轮(161b)旋转，从而使设置有与小齿轮(161b)啮合的齿条(161a)的支承部(15a)沿高度方向移动。另外，在具有永久磁铁和电磁铁的永久电磁铁(163)所具有的电磁铁的线圈流通电流，使永久电磁铁(163)吸附支承部(15a)，由此使支承部侧滑动面(161e)与柱侧滑动面(161d)紧贴，通过支承部侧滑动面(161e)与柱侧滑动面(161d)之间的摩擦力而固定支承部(15a)。(15a)。(15a)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光装置以及高度调整方法


[0001]本专利技术涉及曝光装置以及高度调整方法。

技术介绍

[0002]在专利文献1中公开有一种描绘装置，其在保持板的一端卡合有滚珠丝杠，通过与该滚珠丝杠连结的伺服马达而使描绘头沿上下方向在规定的范围内移动。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开平9-320943号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的课题
[0007]然而，在专利文献1所记载的专利技术中，在描绘头的移动中使用了滚珠丝杠，因此产生随动误差(内螺纹构件相对于丝杠转一圈的前进速度的浮动)，存在不能使描绘头准确地移动这样的问题。
[0008]本专利技术是鉴于这样的情况而完成的，其目的在于，提供能够准确地进行照射光的光学装置的高度调整的曝光装置以及高度调整方法。
[0009]用于解决课题的方案
[0010]为了解决上述课题，本专利技术的曝光装置的特征在于，例如，具备：基板保持部，其供基板载置；框体，其具有大致棒状的支承部和棒状的柱，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备：基板保持部，其供基板载置；框体，其具有大致棒状的支承部和棒状的柱，所述支承部由磁性材料形成，且以长度方向为大致水平方向的方式设置，所述柱以长度方向为大致铅垂方向的方式分别设置于所述支承部的两端，在所述支承部形成有支承部侧滑动面，在所述柱的与所述支承部侧滑动面对置的位置形成有柱侧滑动面；移动机构，其使所述支承部沿铅垂方向移动，并且具有设置于所述支承部的齿条、能够旋转地设置于所述柱且与所述齿条啮合的小齿轮、以及使所述小齿轮旋转的旋转驱动部；光学装置，其设置于所述支承部，且向所述基板照射光；永久电磁铁，其设置于所述柱，且具有永久磁铁和电磁铁；以及控制部，其驱动所述旋转驱动部而使所述支承部移动，并且在所述电磁铁的线圈流通电流而使所述永久磁铁吸附所述支承部，所述永久电磁铁吸附所述支承部而使所述支承部侧滑动面与所述柱侧滑动面紧贴，通过所述支承部侧滑动面与所述柱侧滑动面之间的摩擦力而将所述支承部固定于所述柱。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备测量部，所述测量部设置于所述支承部，并且具有大致沿着铅垂方向设置的标尺、以及读取所述标尺的值而输出位置信息的头，在所述支承部移动时，所述永久电磁铁以比所述移动机构不使所述支承部移动时的吸附力即第一吸附力弱的第二吸附力吸附所述支承部，所述测量部连续地测量所述支承部的高度，所述支承部侧滑动面沿着所述柱侧滑动面滑动。3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述第二吸附力是所述第一吸附力的大致20％至大致30％。4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备：大致薄板状的引导构件，其设置于所述支承部与所述光学装置之间；以及驱动部，其设置于所述框体，且使所述光学装置沿铅垂方向移动，所述支承部具有大致水平地配置的板状部，在所述板状部形成有沿大致铅垂方向贯通的圆孔，所述引导构件俯视呈大致圆板形状，且以覆盖所述圆孔的方式设置于所述板状部，在所述引导构件的大致中央形成有安装孔，所述安装孔与所述圆孔配置为大致同心圆状，所述光学装置以光轴与所述安装孔的中心大致一致的方式插入所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：米泽良，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：