一种溅镀式真空镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:27215748 阅读:22 留言:0更新日期:2021-02-04 11:32
本实用新型专利技术公开了一种溅镀式真空镀膜装置,包括工艺腔室,工艺腔室内部设置有基座,基座顶部设置有支撑架,支撑架上端一侧设置有电动机,支撑架的另一侧设置有第一夹持块,第一夹持块远离支撑架的一侧设置有第二夹持块,第二夹持块远离第一夹持块的一侧设置有气缸,工艺腔室的顶部固定连接有靶材,靶材的顶部上表面固定连接有靶件背板,靶件背板顶部上表面固定连接有冷却腔体,冷却腔体下侧设置有冷却腔室,冷却腔体内部设置有进水口与出水口,冷却腔室内部设置有磁控管。本实用新型专利技术的一种溅镀式真空镀膜装置,通过设置的气缸带动伸缩杆使得支撑架移动,用来夹持工件,再电动机旋转带动夹持块,可以将工件翻面。可以将工件翻面。可以将工件翻面。

【技术实现步骤摘要】
一种溅镀式真空镀膜装置


[0001]本技术涉及真空镀膜领域,特别涉及一种溅镀式真空镀膜装置。

技术介绍

[0002]现有的技术设备。在真空镀膜的过程中,需要对产品进行翻面,实现对其上下表面均完成镀膜,因此需要在镀膜的过程中完成对用于固定产品的基片的翻转。而现有的真空镀膜机在完成了正面的镀膜后有的是采用人工手动翻转的方式,这种方式不仅效率低下,而且会影响到镀膜质量;另一种是通过采用在基片上下两端中间位置安装支杆,上支杆放在工件盘上凹槽内,下支杆插在基片旋转轴承内,工作盘在转动的过程中两根拔叉杆先后接触到拔叉并推动拔叉,在轴承的作用下使基片旋转至另一面,而这种翻转方式在翻转过程中由于速度较快,对基片上产品的震动较大,会造成产品偏移位置,导致镀膜不良。

技术实现思路

[0003]本技术的主要目的在于提供一种溅镀式真空镀膜装置,可以有效改善
技术介绍
中阐述的真空镀膜不易翻面问题。
[0004]为实现上述目的,本技术采取的技术方案为:
[0005]一种溅镀式真空镀膜装置,包括工艺腔室,工艺腔室内部设置有基座,基座顶部设置有支撑架,支撑架上端一侧设置有电动机,支撑架的另一侧设置有第一夹持块,第一夹持块远离支撑架的一侧设置有第二夹持块,第二夹持块远离第一夹持块的一侧设置有气缸,工艺腔室的顶部固定连接有靶材,靶材的顶部上表面固定连接有靶件背板,靶件背板顶部上表面固定连接有冷却腔体,冷却腔体下侧设置有冷却腔室,冷却腔体内部设置有进水口与出水口,冷却腔室内部设置有磁控管。
[0006]优选的,基座形状呈T型,基座贯穿设置与工艺腔室内部,基座顶部设置有凹槽。
[0007]优选的,支撑架的数量有两组且形状呈倒T型线性分布,支撑架下端的尺寸与基座凹槽的尺寸相匹配,支撑架与基座滑动连接。
[0008]优选的,电动机数量有两组且分别固定连接于支撑架的上端外侧,支撑架上端设置有贯穿孔,贯穿孔的内径尺寸大于电动机输出端尺寸,电动机输出端贯穿支撑架,电动机的输出端分别固定连接第一夹持块与第二夹持块。
[0009]优选的,第一夹持块与第二夹持块形状相同且位置相对应。
[0010]优选的,气缸固定连接于基座,气缸的输出端固定连接有伸缩杆,伸缩杆固定连接有支撑架下端外表面。
[0011]优选的,磁控管的数量有三组且呈线性分布,磁控管的磁极依次交错排列。
[0012]与现有技术相比,本技术具有如下有益效果:该溅镀式真空镀膜装置,通过气缸作为动力装置来带动支撑架在基座的凹槽中进行滑动,来控制第一夹持块与第二夹持块之间的距离,可以来夹持固定需要镀膜的工件,再工件将正面镀膜完成后,电动机开始工作,其输出轴将带动第一夹持块与第二夹持块进行旋转翻面,等到工件翻转到反面时,电动
机停止运转,工件开始进行反面的镀膜。
附图说明
[0013]图1为本技术一种溅镀式真空镀膜装置的结构示意图;
[0014]图2为本技术一种溅镀式真空镀膜装置的基座顶部示意图;
[0015]图3为本技术一种溅镀式真空镀膜装置的夹持示意图;
[0016]图4为本技术一种溅镀式真空镀膜装置的气缸示意图。
[0017]图中:1、工艺腔室;2、基座;3、支撑架;4、电动机;5、第一夹持块;6、第二夹持块;7、气缸;8、靶材;9、靶件背板;10、冷却腔体;11、冷却腔室;12、进水口;13、出水口;14、磁控管。
具体实施方式
[0018]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面对本技术的技术方案进行进一步详细的阐述。
[0019]如图1-4所示,本实施例中一种溅镀式真空镀膜装置,包括工艺腔室1,工艺腔室1内部设置有基座2,基座2顶部设置有支撑架3,支撑架3上端一侧设置有电动机4,支撑架3的另一侧设置有第一夹持块5,第一夹持块5远离支撑架3的一侧设置有第二夹持块6,第二夹持块6远离第一夹持块5的一侧设置有气缸7,工艺腔室1的顶部固定连接有靶材8,靶材8的顶部上表面固定连接有靶件背板9,靶件背板9顶部上表面固定连接有冷却腔体10,冷却腔体10下侧设置有冷却腔室11,冷却腔体10内部设置有进水口12与出水口13,冷却腔室11内部设置有磁控管14。
[0020]本实施例中,基座2形状呈T型,基座2贯穿设置与工艺腔室1内部,基座2顶部设置有凹槽,支撑架3的数量有两组且形状呈倒T型线性分布,支撑架3下端的尺寸与基座2凹槽的尺寸相匹配,支撑架3与基座2滑动连接,气缸7固定连接于基座2,气缸7的输出端固定连接有伸缩杆,伸缩杆固定连接有支撑架3下端外表面,气缸7作为动力装置,来调节夹持距离,进而将工件固定住;电动机4数量有两组且分别固定连接于支撑架3的上端外侧,支撑架3上端设置有贯穿孔,贯穿孔的内径尺寸大于电动机4输出端尺寸,电动机4输出端贯穿支撑架3,电动机4的输出端分别固定连接第一夹持块5与第二夹持块6,第一夹持块5与第二夹持块6形状相同且位置相对应,利用电动机4来将工件进行翻面,磁控管14的数量有三组且呈线性分布,磁控管14的磁极依次交错排列,通过磁控管14来控制溅射。
[0021]需要说明的是,本技术为一种溅镀式真空镀膜装置,在使用时,使用者将:包括工艺腔室1,工艺腔室1内部设置有基座2,基座2顶部设置有支撑架3,支撑架3上端一侧设置有电动机4,支撑架3的另一侧设置有第一夹持块5,第一夹持块5远离支撑架3的一侧设置有第二夹持块6,第二夹持块6远离第一夹持块5的一侧设置有气缸7,工艺腔室1的顶部固定连接有靶材8,靶材8的顶部上表面固定连接有靶件背板9,靶件背板9顶部上表面固定连接有冷却腔体10,冷却腔体10下侧设置有冷却腔室11,冷却腔体10内部设置有进水口12与出水口13,冷却腔室11内部设置有磁控管14,通过气缸7作为动力装置来带动支撑架3在基座2的凹槽中进行滑动,来控制第一夹持块5与第二夹持块6之间的距离,可以来夹持固定需要镀膜的工件,再工件将正面镀膜完成后,电动机4开始工作,其输出轴将带动第一夹持块5与第二夹持块6进行旋转翻面,等到工件翻转到反面时,电动机4停止运转,工件开始进行反面
的镀膜。
[0022]以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解,本技术不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理,在不脱离本技术精神和范围的前提下,本技术还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅镀式真空镀膜装置,其特征在于:包括工艺腔室(1),所述工艺腔室(1)内部设置有基座(2),所述基座(2)顶部设置有支撑架(3),所述支撑架(3)上端一侧设置有电动机(4),所述支撑架(3)的另一侧设置有第一夹持块(5),所述第一夹持块(5)远离支撑架(3)的一侧设置有第二夹持块(6),所述第二夹持块(6)远离第一夹持块(5)的一侧设置有气缸(7),所述工艺腔室(1)的顶部固定连接有靶材(8),所述靶材(8)的顶部上表面固定连接有靶件背板(9),所述靶件背板(9)顶部上表面固定连接有冷却腔体(10),所述冷却腔体(10)下侧设置有冷却腔室(11),所述冷却腔体(10)内部设置有进水口(12)与出水口(13),所述冷却腔室(11)内部设置有磁控管(14)。2.根据权利要求1所述的一种溅镀式真空镀膜装置,其特征在于:所述基座(2)形状呈T型,所述基座(2)贯穿设置与工艺腔室(1)内部,所述基座(2)顶部设置有凹槽。3.根据权利要求1所述的一种溅镀式真空镀膜装置,其特征在于:所述支撑架(3)...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘国新朱一兵朱爱军
申请(专利权)人:太仓伟林五金制品有限公司
类型:新型
国别省市:

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