调光结构及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种调光结构及其制备方法、显示装置，其中，调光结构包括：第一基板；与第一基板相对设置的第二基板，第二基板朝向第一基板的一侧设置有多个凹槽；每个凹槽与第一基板之间均形成一容纳腔，至少两个相邻的容纳腔互相连通；液晶层，液晶层位于容纳腔中，液晶层用于在第一状态和第二状态之间切换，其中，处于第一状态的液晶层的折射率与第二基板的折射率相同，处于第二状态的液晶层的折射率与第二基板的折射率不同。采用本发明专利技术的调光结构，可以提高整个调光结构中液晶层的厚度均一性。以提高整个调光结构中液晶层的厚度均一性。以提高整个调光结构中液晶层的厚度均一性。

【技术实现步骤摘要】
调光结构及其制备方法、显示装置


[0001]本专利技术涉及显示
，具体涉及一种调光结构及其制备方法、显示装置。

技术介绍

[0002]透镜作为实现3D显示的重要元件被广泛关注，目前业内研究较多的是可在2D显示和3D显示之间切换的液晶透镜。通过向液晶透镜施加驱动电场，可以控制液晶透镜中液晶的折射率，从而使从液晶透镜出射的光线的方向发生改变，进而实现2D显示和3D显示之间的切换。
[0003]但是，目前的液晶透镜中，液晶层的均一性较差，进而影响显示效果。

技术实现思路

[0004]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种调光结构及其制备方法、显示装置。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术提供一种调光结构，其中，所述调光结构包括：
[0006]第一基板；
[0007]与所述第一基板相对设置的第二基板，所述第二基板朝向所述第一基板的一侧设置有多个凹槽；每个所述凹槽与所述第一基板之间均形成一容纳腔，至少两个相邻的所述容纳腔互相连通；
[0008]液晶层，所述液晶层位于所述容纳腔中，所述液晶层用于在第一状态和第二状态之间切换，其中，处于所述第一状态的所述液晶层的折射率与所述第二基板的折射率相同，处于所述第二状态的所述液晶层的折射率与所述第二基板的折射率不同。
[0009]可选地，所述第二基板与所述第一基板之间设置有多个支撑部，所述支撑部位于所述凹槽的侧壁与所述第一基板之间，以使所述凹槽的侧壁与所述第一基板之间形成间隔，相邻两个所述容纳腔通过所述间隔连通。
[0010]可选地，所述凹槽的侧壁的部分位置与所述第一基板接触，所述凹槽的侧壁的其他位置设置有开口，以使相邻两个所述容纳腔通过所述开口连通。
[0011]可选地，所述凹槽的表面为弧面。
[0012]可选地，所述第一基板包括第一基底、第一取向层和第一电极层，所述第一电极层设置在所述第一基底朝向所述第二基板一侧，所述第一取向层设置在所述第一电极层远离所述第一基底的一侧；
[0013]所述第二基板包括：第二基底、第二取向层和第二电极层，所述第二基底朝向所述第一基板的表面形成有多个凹陷，所述凹陷与所述凹槽一一对应，所述第二取向层设置在所述第二基底朝向所述第一基板的表面，所述第二电极层设置在所述第二基底背离所述第一基板的一侧。
[0014]本专利技术还提供一种调光结构的制备方法，其中，包括：
[0015]提供第一基板和第二基板，所述第二基板上形成有多个凹槽；
[0016]将所述第二基板与所述第一基板进行对盒，以使每个所述凹槽与所述第一基板之间均形成一容纳腔，且至少两个相邻的所述容纳腔互相连通；
[0017]在所述容纳腔中之间形成液晶层；所述液晶层用于在第一状态和第二状态之间切换，其中，处于所述第一状态的所述液晶层的折射率与所述第二基板的折射率相同，处于所述第二状态的所述液晶层的折射率与所述第二基板的折射率不同。
[0018]可选地，所述制备方法还包括：
[0019]在将所述第二基板与所述第一基板进行对盒之前，在所述第一基板上形成多个支撑部；
[0020]其中，在所述将所述第二基板与所述第一基板进行对盒之后，所述支撑部位于所述凹槽的侧壁与所述第一基板之间，以使所述凹槽的侧壁与所述第一基板之间形成间隔，相邻两个所述容纳腔通过所述间隔连通。
[0021]本专利技术还提供一种显示装置，其中，包括：显示面板和上述的调光结构；
[0022]所述调光结构设置在所述显示面板的出光侧。
[0023]可选地，所述显示面板具有多个像素；
[0024]所述支撑部在所述第一基板上的正投影位于相邻的所述像素在所述第一基板上的正投影的间隔区域。
[0025]可选地，所述凹槽在所述显示面板上的正投影覆盖多个所述像素。
附图说明
[0026]附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。在附图中：
[0027]图1为一示例中调光结构的示意图；
[0028]图2a和图2b为本专利技术实施例提供的调光结构的示意图之一；
[0029]图3为本专利技术实施例提供的调光结构的示意图之二；
[0030]图4a和图4b为本专利技术实施例提供的调光结构的平面图；
[0031]图5a和图5b为本专利技术实施例提供的第一基板的平面图。
具体实施方式
[0032]以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限制本专利技术。
[0033]除非另作定义，本专利技术实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本专利技术中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
[0034]在一示例中，提供一种显示装置，包括调光结构和显示面板，调光结构设置在显示
面板的出光侧，图1为一示例中调光结构的示意图，如图1所示，调光结构包括相对设置的第一基板1'和第二基板2'，第二基板2'朝向第一基板1'的一侧设置有多个凹槽，每个凹槽与第一基板1'之间形成一容纳腔，容纳腔用于容纳液晶层3'。当液晶层3'的折射率与第二基板2'相同时，调光结构相当于平行平板，入射光平行出射，此时显示装置可以实现2D显示；当液晶层3'的折射率与第二基板2'不同时，调光结构相当于透镜，入射光发生折射，此时显示装置可以实现3D显示。
[0035]在上述示例的调光结构中，每个凹槽的侧壁与第一基板1'接触，多个容纳腔之间互不连通，通过常规的真空灌晶(VIF)/液晶预滴(ODF)工艺在容纳腔中形成的液晶层3'的厚度难以保持均一。
[0036]有鉴于此，本专利技术实施例提供一种调光结构，图2a和图2b为本专利技术实施例提供的调光结构的示意图之一，其中，图2b中隐去了图2a中的液晶层，结合图2a和图2b所示，该调光结构包括：第一基板1、第二基板2和液晶层3。第二基板2与第一基板1相对设置，第二基板2朝向第一基板1的一侧设置有多个凹槽4。每个凹槽4与第一基板1之间均形成一容纳腔5，至少两个相邻的容纳腔5互相连通。液晶层3位于容纳腔5中，液晶层3用于在第一状态和第二状态之间切换，其中，处于第一状态的液晶层3的折射率与第二基板2的折射率相同，处于第二状态的液晶层3的折射率与第二基板2的折射率不同。
[0037]具体地，液晶层3可以在电场的驱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种调光结构，其特征在于，所述调光结构包括：第一基板；与所述第一基板相对设置的第二基板，所述第二基板朝向所述第一基板的一侧设置有多个凹槽；每个所述凹槽与所述第一基板之间均形成一容纳腔，至少两个相邻的所述容纳腔互相连通；液晶层，所述液晶层位于所述容纳腔中，所述液晶层用于在第一状态和第二状态之间切换，其中，处于所述第一状态的所述液晶层的折射率与所述第二基板的折射率相同，处于所述第二状态的所述液晶层的折射率与所述第二基板的折射率不同。2.根据权利要求1所述的调光结构，其特征在于，所述第二基板与所述第一基板之间设置有多个支撑部，所述支撑部位于所述凹槽的侧壁与所述第一基板之间，以使所述凹槽的侧壁与所述第一基板之间形成间隔，相邻两个所述容纳腔通过所述间隔连通。3.根据权利要求1所述的调光结构，其特征在于，所述凹槽的侧壁的部分位置与所述第一基板接触，所述凹槽的侧壁的其他位置设置有开口，以使相邻两个所述容纳腔通过所述开口连通。4.根据权利要求1至3中任一项所述的调光结构，其特征在于，所述凹槽的表面为弧面。5.根据权利要求1至3中任一项所述的调光结构，其特征在于，所述第一基板包括第一基底、第一取向层和第一电极层，所述第一电极层设置在所述第一基底朝向所述第二基板一侧，所述第一取向层设置在所述第一电极层远离所述第一基底的一侧；所述第二基板包括：第二基底、第二取向层和第二电极层，所述第二基底朝向所述第一基板的表面形成有多个凹陷，所述凹陷与所述凹槽一一对应，所述第二取向层设置在所述第二基底...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵伟利，
申请(专利权)人：北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：