【技术实现步骤摘要】
本申请涉及显示,尤其涉及一种阵列基板及显示面板。
技术介绍
1、目前tft-lcd(thin film transistor-liquid crystal display,薄膜晶体管液晶显示器)已经广泛用于手机、电视、笔记电脑等的显示屏幕。在液晶显示面板或阵列基板中,上层金属层中的走线通过绝缘层中的过孔连接下层金属层中的走线。
2、然而,在上层金属层中的走线与下层金属层中的走线在过孔连接部位容易被水汽等腐蚀,导致过孔连接失效,从而使得上层金属层中的走线与下层金属层中的走线连接失效或阻抗增加。
技术实现思路
1、本申请实施例提供一种阵列基板及显示面板,能够解决现有技术中过孔连接部位容易被水汽等腐蚀,导致过孔连接失效,从而使得上层金属层中的走线与下层金属层中的走线连接失效或阻抗增加的问题。
2、本申请实施例的第一方面,提供了一种阵列基板,包括:
3、基底;
4、第一金属层,设置于所述基底的一侧,所述第一金属层包括至少一条第一走线;
5
...【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二金属层包括至少两层金属子层,所述第二金属层的至少一所述金属子层比所述第三金属层的耐腐蚀性高。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二金属层的材料包括钛、铬、镍中至少一种。
4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第三金属层的材料包括透明导电金属氧化物、铜、铝中至少一种。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述第一绝缘层包括多个所述第一过孔,所述第二绝缘层包括多个所述第二过孔;
>6.根据权利...
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二金属层包括至少两层金属子层,所述第二金属层的至少一所述金属子层比所述第三金属层的耐腐蚀性高。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二金属层的材料包括钛、铬、镍中至少一种。
4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第三金属层的材料包括透明导电金属氧化物、铜、铝中至少一种。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述第一绝缘层包括多个所述第一过孔,所述第二绝缘层包括多个所述第二过孔;
6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述第一过孔的数量与所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员:王洪惠,
申请(专利权)人:北京京东方显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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