一种等离子体增强化学气相沉积设备制造技术

本实用新型专利技术涉及镀膜技术领域，具体涉及一种等离子体增强化学气相沉积设备，包括抽真空机构、反应机构及移送机构，抽真空机构与反应机构相连通，移送机构将待处理产品送入或取出反应机构，反应机构包括反应腔室、电极组件及承载组件，电极组件设置在反应腔室的顶端并在反应腔室的内部移动，承载组件设置在反应腔室的底端并在反应腔室的内部移动，电极组件包括至少一个出气装置，出气装置从上往下依次包括弥散管和弥散球头，弥散管和弥散球头均设有若干个均匀分布的弥散孔。以此可以使镀膜气体从弥散管和弥散球头中全方位发散，确保镀膜气体能均匀地粘附在疫苗瓶内壁，避免疫苗瓶内壁出现镀膜缺陷、不完整的问题，有利于提高疫苗瓶的生产质量。的生产质量。的生产质量。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体增强化学气相沉积设备


[0001]本技术涉及镀膜
，具体涉及一种等离子体增强化学气相沉积设备。

技术介绍

[0002]等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition， PECVD)是利用微波或射频等能量，使含有薄膜组成原子的气体电离成高能原子、正负离子、电子等的混合体，形成等离子体并沉积薄膜，从而实现高速率成膜。
[0003]在包括疫苗瓶在内的一些瓶状物体间通常对其内壁进行镀膜。目前，常见的方式是将疫苗瓶倒放，用于镀膜的气体在疫苗瓶口处从下往上升进而粘附在疫苗瓶的内壁来完成镀膜。然而，在常见的方式中由于用于镀膜的气体是从下往上升，疫苗瓶瓶口处的电镀膜容易出现电镀不均匀的现象，甚至出现电镀缺陷、不完整的问题，大大影响疫苗瓶的生产质量。
[0004]因此，行业内亟需一种能解决上述问题的方案。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于针对现有技术的不足而提供一种等离子体增强化学气相沉积设备。本技术的目的可以通过如下所述技术方案来实现。
[0006]一种等离子体增强化学气相沉积设备，包括抽真空机构、反应机构及移送机构，所述抽真空机构与所述反应机构相连通，所述移送机构将待处理产品送入或取出所述反应机构，所述反应机构包括反应腔室、电极组件及承载组件，所述电极组件设置在所述反应腔室的顶端并在所述反应腔室的内部移动，所述承载组件设置在所述反应腔室的底端并在所述反应腔室的内部移动，所述电极组件包括至少一个出气装置，所述出气装置从上往下依次包括呈中空状的弥散管和弥散球头，所述弥散管和所述弥散球头均设有若干个均匀分布的弥散孔，所述电极组件为导电材料，所述电极组件加设偏压电源。
[0007]作为优选地，所述弥散管上套设有密封盖板，所述密封盖板在工作时盖压待处理产品并使待处理产品内部真空度范围为1Pa-100Pa，反应腔室的真空度范围为0.1Pa-10Pa。
[0008]作为优选地，所述电极组件还包括第一升降机构、上电极板及进气通道，所述第一升降机构固定在所述反应腔室的顶端，所述上电极板固定在所述第一升降机构的升降轴上，所述上电极板与所述进气通道相连通，所述出气装置固定在所述上电极板的底端并与所述上电极板连通，所述上电极板与偏压负极连接。
[0009]作为优选地，所述上电极板开设有若干层弥散层，所述弥散层的宽度从上往下依次扩大，相邻两弥散层之间设有弥散板，所述弥散板上设有若干个弥散通口，且从上往下弥散板的弥散通口依次变细，且位于底端的弥散板上设有若干个出气装置。
[0010]作为优选地，所述承载组件包括第二升降机构、下电极板及定位件，所述第二升降机构固定在所述反应腔室的底端，所述下电极板固定在所述第二升降机构的升降轴上，所述定位件设于所述下电极板上，所述下电极板与偏压正极连接。
[0011]作为优选地，所述移送机构包括移送腔室、进片件、移送驱动装置及导向杆，所述移送驱动装置固定在所述移送腔室的腔壁上，所述导向杆固定设置在所述移送腔室的内部，所述进片件与所述移送驱动装置传动连接，所述进片件与所述导向杆滑动连接。
[0012]作为优选地，所述移送腔室的侧壁上固定设有定位监测装置。
[0013]作为优选地，所述抽真空机构依次包括干泵、罗茨泵，所述罗茨泵和反应腔室之间设有角阀和蝶阀。
[0014]与现有技术比，本技术的有益效果：
[0015]本技术研发了一种等离子体增强化学气相沉积设备，将出气装置伸进正放的疫苗瓶中，使镀膜气体从弥散管和弥散球头中全方位发散，确保镀膜气体能均匀地粘附在疫苗瓶内壁，避免疫苗瓶内壁出现电镀缺陷、不完整的问题，有利于提高疫苗瓶的生产质量。
附图说明
[0016]为了更清楚的说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见的，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。
[0017]图1为本技术实施例中设备的结构示意图。
[0018]图2为本技术实施例中隐藏部分结构的设备结构示意图。
[0019]图3为本技术实施例中设备侧面剖视图。
[0020]图4为图3中A部分的局部放大图。
[0021]图5为本技术实施例中上电极板的侧面剖视图。
[0022]图6为本技术实施例中设备的示意简图。
具体实施方式
[0023]下面将结合具体实施例，对本技术的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通的技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术的保护范围。
[0024]一种等离子体增强化学气相沉积设备，如图1至图6所示，包括抽真空机构1、反应机构2及移送机构3，所述抽真空机构1与所述反应机构2相连通，抽真空机构1对反应机构2内部进行抽真空，提供满足疫苗瓶内部镀膜的反应条件，所述移送机构3将待处理产品送入或取出所述反应机构2。根据不同情况，可以设置一个移送机构3将待镀膜的疫苗瓶送入反应机构2，待镀膜完成后由该移送机构3将处理好的疫苗瓶取出，也可以设置两个移送机构3分别位于反应机构2的两侧，其中一个移送机构3将待镀膜处理的疫苗瓶送入反应机构2，另一个移送机构3将镀膜完成的疫苗瓶取送出来。如图3所示，反应机构2包括反应腔室21、电极组件22及承载组件23，反应腔室21用于容纳待处理的疫苗瓶以便进行疫苗瓶内部镀膜，抽真空机构1对反应腔室21抽真空确保反应腔室 21的真空度在工作要求范围内。所述电极组件22设置在所述反应腔室21的顶端并在所述反应腔室21的内部移动，可以调整电镀气体
的出气端的位置高度，使散发出的电镀气体能在疫苗瓶内均匀发散。所述承载组件23设置在所述反应腔室21的底端并在所述反应腔室21的内部移动，承载组件23可以将镀膜处理完的疫苗瓶顶起一定高度，便于移送机构3将疫苗瓶取出。所述电极组件22包括至少一个出气装置221，一个出气装置221对应一个疫苗瓶，如图6所示，根据生产要求可以设置多个出气装置221来同时对多个疫苗瓶进行镀膜处理，有利于提高生产效率。如图4所示，所述出气装置221从上往下依次包括呈中空状的弥散管2211和弥散球头2212，所述弥散管2211和所述弥散球头2212均设有若干个均匀分布的弥散孔2213，镀膜气体通过弥散管2211和弥散球头2212 上的弥散孔2213向各个方向散发出，其中弥散管2211主要对疫苗瓶口区域，其散发出的镀膜气体可以均匀地对疫苗瓶口区域进行镀膜，而弥散球头2212较为发散，用于对疫苗瓶身体内壁镀膜。所述电极组件22为导电材料，包括弥散管2211和弥散球头2212在内均为导电材料，进而可以充分地电离镀膜气体。
[002本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，包括抽真空机构、反应机构及移送机构，所述抽真空机构与所述反应机构相连通，所述移送机构将待处理产品送入或取出所述反应机构，所述反应机构包括反应腔室、电极组件及承载组件，所述电极组件设置在所述反应腔室的顶端并在所述反应腔室的内部移动，所述承载组件设置在所述反应腔室的底端并在所述反应腔室的内部移动，所述电极组件包括至少一个出气装置，所述出气装置从上往下依次包括呈中空状的弥散管和弥散球头，所述弥散管和所述弥散球头均设有若干个均匀分布的弥散孔，所述电极组件为导电材料，所述电极组件加设偏压电源。2.根据权利要求1所述的一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述弥散管上套设有密封盖板，所述密封盖板在工作时盖压待处理产品并使待处理产品内部真空度范围为1Pa-100Pa，反应腔室的真空度范围为0.1Pa-10Pa。3.根据权利要求1所述的一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述电极组件还包括第一升降机构、上电极板及进气通道，所述第一升降机构固定在所述反应腔室的顶端，所述上电极板固定在所述第一升降机构的升降轴上，所述上电极板与所述进气通道相连通，所述出气装置固定在所述上电极板的底端并与所述上电极板连通，所述上电极板与偏压负极...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱锋，姚飞，王小东，廖运华，梁锦东，陈进福，
申请(专利权)人：东莞帕萨电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：