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本实用新型涉及镀膜技术领域，具体涉及一种等离子体增强化学气相沉积设备，包括抽真空机构、反应机构及移送机构，抽真空机构与反应机构相连通，移送机构将待处理产品送入或取出反应机构，反应机构包括反应腔室、电极组件及承载组件，电极组件设置在反应腔室的...
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