用于在基板上形成薄膜的装置和方法制造方法及图纸

液晶显示装置的制造装置及利用其制造的液晶显示装置。一种用于在基板上形成薄膜的装置包括：具有进气口的室；位于该室中的上电极，该上电极具有多个喷嘴；位于该室中的下电极，用于将基板支承在其上，该下电极与上电极相隔开来；以及位于上电极上方的选择性注入板，该选择性注入板包括选择性注入阀，该选择性注入阀用于将通过进气口提供的气体选择性地集中到上电极的一部分上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于形成薄膜的装置及其方法，更具体来说，涉及一种用于在基板上形成薄膜的装置及使用该装置制造的液晶显示装置。
技术介绍
由于信息技术的快速发展，显示装置必须显示大量的信息。尽管已将阴极射线管(CRT)普遍用作显示装置，但是已对薄、轻质并且功耗低的平板显示装置进行了大量研究。其中，液晶显示(LCD)装置因其卓越的图像分辨率、彩色图像显示以及显示图像质量，而被广泛用于笔记本计算机监视器、个人计算机监视器、办公自动化设备(如复印机)以及手持装置(如蜂窝电话和寻呼机)。LCD装置包括上基板、下基板以及置于该上基板与下基板之间的液晶材料。LCD装置利用液晶材料层中的液晶分子的光学各向异性和双折射特性，通过控制施加于液晶材料层的电场来产生图像数据，从而交替改变液晶分子的排列并改变其透光性。LCD装置还包括充当开关器件的薄膜晶体管。通常把这种包括薄膜晶体管的LCD装置称为有源矩阵液晶显示(AMLCD)装置。AMLCD装置具有高图像分辨率并且能够显示运动图像。通常，通过以下工艺来制造AMLCD装置清洁基板、在基板上形成图案、形成配向层、贴合基板、在基板之间形成液晶层，以及封装电路。可以在所述在基板上形成图案的工艺之前或之后执行清洁基板的工艺，在清洗基板的工艺中，通过清洁剂去除基板上的颗粒。此外，把在基板上形成图案的工艺分成在上基板上形成图案的工艺和在下基板上形成图案的工艺。在上基板上形成图案的工艺中，在上基板上形成滤色器层、黑底以及公共电极。在下基板上形成图案的工艺中，在下基板上形成相互交叉以限定多个像素区的多条选通线和多条数据线、连接到该多条选通线与多条数据线的各个交叉点的薄膜晶体管、在各像素区中连接到薄膜晶体管的像素电极。此外，在各基板上形成了图案并对其进行了摩擦之后，把配向层涂敷在各基板上。接着，在下基板上形成密封胶以将下基板与上基板贴合起来。然后通过注入孔把液晶注入贴合的基板之间以形成液晶层，然后把注入孔密封起来。此外，对贴合的基板(包括其间的液晶层)执行另一清洁工艺和研磨工艺以形成液晶板。把集成电路接合到液晶板。用于制造液晶显示装置的装置包括密封室，以在高真空下执行这些工艺。已广泛使用组室(cluster chamber)，其能够在短时间内处理多块基板。组室包括处理室、负载锁定室以及传送室。具体来说，在处理室中，执行用于直接处理基板的工艺。传送室用于储存基板并把基板传送到处理室中或从处理室中传送出来。处理室包括用于等离子增强化学气相淀积(PECVD)装置的室和用于干法刻蚀装置的室。图1是示出用于制造根据现有技术的液晶显示装置的干法刻蚀装置的截面图，图2是示出图1所示的干法刻蚀装置的上电极的平面图。如图1所示，干法刻蚀装置包括形成在室10的上侧的进气口12和形成在室10的下侧的出气口11。气体从储气单元(未示出)通过进气口12注入室10中，而从室10通过出气口11排出。此外，室10包括相互隔开的下电极21和上电极31。在室10内的下电极21上加载有基板22，该基板22包括待构图的薄膜。具体来说，下电极21连接到外电源13，该外电源13向下电极21施加射频(RF)功率。此外，通常把下电极21与上电极31之间的空间称为反应区。具体来说，上电极31接地并具有多个孔32。如图2所示，该多个孔跨布上电极31按矩阵方式排列。再参照图1，室10还包括注气板41、42以及43，将这些注气板41、42以及43置于上电极31上方以均匀地散布通过进气口12注入的气体。可以根据需要改变注气板41、42以及43的数量。由此，均匀地注入气体并把气体提供给上电极31。然后，通过上电极31的所述多个孔32将气体散布到上电极31与下电极21之间的反应区中。此外，室10包括分别形成在下电极21和上电极31周围的下护罩23和上护罩33。上护罩33的一部分延伸到反应区中，使得等离子体的密度在与基板22对应的区域中增加。然而，随着基板尺寸的增加，现有技术的干法刻蚀装置变得难以将气体均匀地散布到基板的整个表面上。此外，即使应当沿基板表面不同地对层进行刻蚀，根据现有技术的干法刻蚀装置也不能为基板的中央部分和边沿部分提供不同的刻蚀率。例如，在基板的边沿部分中还刻蚀有源层，而在基板的中央部分中还刻蚀钝化层。
技术实现思路
因此，本专利技术旨在提供一种液晶显示装置的制造装置及使用其制造的液晶显示装置，其基本上克服了由于现有技术的局限和缺点而导致的一个或更多个问题。本专利技术的一个目的是提供一种液晶显示装置的制造装置及使用其制造的液晶显示装置，该制造装置对基板的多个区域选择性地进行处理。本专利技术的另一目的是提供一种液晶显示装置的制造装置和使用其制造的液晶显示装置，该制造装置跨布基板的表面选择性地提供气体并按多个位置跨基板表面以变化的速率对薄膜进行淀积/刻蚀。在下面的说明中将阐述本专利技术的其它特征和优点，其部分地根据说明即可显见，或者可以通过对本专利技术的实践来获知。通过下述文字说明及其权利要求以及附图中具体指出的结构，可以实现并获得本专利技术的目的和其它优点。为了实现这些和其它优点并根据本专利技术的目的，如所具体实现和广泛描述的，提供了一种用于在基板上形成薄膜的装置，其包括具有进气口的室；位于该室中的上电极，该上电极具有多个喷嘴；位于该室中的下电极，用于将基板支承在其上，该下电极与上电极相隔开来；以及位于上电极上方的选择性注入板，该选择性注入板包括选择性注入阀，该选择性注入阀用于将通过进气口提供的气体选择性地集中到上电极的一部分上。在另一方面中，提供了一种液晶显示装置，其包括第一基板、第二基板以及位于第一基板与第二基板之间的液晶层，第一基板和第二基板中的一个具有由一种用于在基板上形成薄膜的装置形成的薄膜，该装置包括具有进气口的室；位于该室中的上电极，该上电极具有多个喷嘴；位于该室中的下电极，用于将基板支承在其上，该下电极与上电极相隔开来；以及位于上电极上方的选择性注入板，该选择性注入板包括选择性注入阀，该选择性注入阀用于将通过进气口提供的气体选择性地集中到上电极的一部分上。在又一方面中，提供了一种用于在基板上形成薄膜的方法，该方法包括以下步骤将气体提供到室中；选择性地移动该室中的选择性注入板的选择性注入阀；通过选择性注入板引导(channeling)气体；利用选择性注入阀将气体选择性地集中到室中的上电极的一部分上；以及按跨由下电极支承的基板的表面改变气体注入速率的方式跨布该基板注入气体，所述上电极与下电极相互隔开。在另一方面中，提供了一种液晶显示装置，其包括第一基板、第二基板以及位于第一基板与第二基板之间的液晶层，第一基板和第二基板中的一个具有由一种用于在基板上形成薄膜的方法形成的薄膜，该方法包括以下步骤将气体提供到室中；选择性地移动该室中的选择性注入板的选择性注入阀；通过选择性注入板引导气体；利用选择性注入阀将气体选择性地集中到室中的上电极的一部分上；以及按跨由下电极支承的基板的表面改变气体注入速率的方式跨布该基板注入气体，所述上电极与下电极相互隔开。应当明白，以上一般性描述和以下详细描述都是示例性和说明性的，旨在提供对如权利要求所述的本专利技术的进一步说明。附图说明附图被包括进来以提供对本专利技术的进一步理解，其被并入且构成本说明书的一部分，示出了本专利技术的实施例，并与本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在基板上形成薄膜的装置，其包括：具有进气口的室；位于该室中的上电极，该上电极具有多个喷嘴；位于该室中的下电极，用于将基板支承在其上，该下电极与上电极相隔开来；以及位于上电极上方的选择性注入板，该选择性 注入板包括选择性注入阀，该选择性注入阀用于将通过进气口提供的气体选择性地集中到上电极的一部分上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：全大镇，梁在镐，
申请(专利权)人：LG菲利浦LCD株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]