液晶装置的制造装置和制造方法、液晶装置及电子设备制造方法及图纸

一种制造液晶装置的制造装置，该液晶装置具有：对置的一对基板；形成在所述一对基板中的至少一方基板的内面侧的取向膜；和被夹持在所述一对基板之间的液晶，该制造装置包括：成膜室；蒸镀部，其具有蒸镀源，通过物理蒸镀法在所述成膜室内对所述基板蒸镀无机材料，形成取向膜和配置在所述取向膜之下的基底膜；基底膜形成区域，其位于所述成膜室内的所述蒸镀源的大致上方，用于形成所述基底膜；和取向膜形成区域，其位于所述成膜室内的所述蒸镀源的斜上方，并具有遮挡板，用于形成所述取向膜，所述遮挡板具有用于选择性蒸镀无机材料的狭缝状开口部分。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及制造液晶装置的制造装置、液晶装置的制造方法、液晶装置以及电子设备。
技术介绍
在液晶投影仪等投射型显示装置中，液晶装置被用作光调制部。这样的液晶装置通过在一对基板间的周缘部配置密封部件，并在其中央部封入液晶层而构成。在该一对基板的内面侧形成有对液晶层施加电压的电极，在这些电极的内面侧形成有在施加非选择电压时控制液晶分子取向的取向膜。根据这样的构成，液晶装置基于在施加非选择电压时和施加选择电压时的液晶分子的取向变化，对光源光进行调制，从而制作图像光。但是，作为上述的取向膜，一般使用对由加成了侧链烷基的聚酰胺等构成的高分子膜的表面，实施了研磨处理的膜。研磨处理是指，通过使用由软布构成的辊，向规定方向摩擦高分子膜的表面，使高分子向规定方向上取向的处理。液晶分子在取向性高分子和液晶分子的分子间的相互作用下，沿着取向性高分子而配置。因此，能够使在施加非选择电压时的液晶分子在规定方向上取向。另外，基于侧链烷基，能够对液晶分子赋予预倾斜。但是，在采用具备了这样的有机取向膜的液晶装置作为投影仪的光调制部时，由于从光源照射的强光和热的作用，取向膜可能会被逐渐地分解。而且，在长时间使用后，会产生不能使液晶分子以所希望的预倾斜角排列等，液晶分子的取向控制功能下降、使液晶投影仪的显示品质下降的问题。因此，如特开2002-277879号公报所公开的那样，提出了使用由具有优良的耐光性和耐热性的无机材料构成取向膜的方案。作为这样的无机取向膜的制造方法，公知有一种例如采用斜向蒸镀法来形成氧化硅(SiO2)膜的方法。该特开2002-277879号公报的技术，特别是解决了下述问题，即，在由像素电极等的布线等在取向膜的基底部分形成阶差部的情况下，如果直接斜向蒸镀无机材料，则在阶差部附近会导致形成无机材料的蒸镀不均或未蒸镀的蒸镀不良区域的技术问题。在特开2002-277879号公报所公开的技术中，特别是以不同的方位角方向来形成第1无机斜向蒸镀膜和第2无机斜向蒸镀膜。另外，在采用斜向蒸镀法形成无机取向膜的情况下，为了使取向膜形成所希望的取向状态，需要控制取向膜材料的入射角度。作为控制取向材料的入射角度的技术，公知有特开2002-365639号公报所公开的技术。该技术是在具有取向膜材料的蒸镀源与基板之间配置形成有狭缝的遮挡板，通过以规定的入射角度通过该狭缝进行选择性蒸镀，来形成所希望的取向膜。可是，为了解决如上所述的由于在取向膜的基底部分上形成有阶差部而造成的技术问题，除了特开2002-277879号公报所公开的技术以外，还可以采用例如以下的技术，即，预先形成兼用作平坦化层的基底膜作为取向膜的基底，利用该基底膜在一定程度上消除阶差部，然后，在其上形成无机取向膜。但是，在形成兼用作平坦化层的基底膜的情况下，特别需要分别准备用于形成基底膜的装置和用于形成取向膜的装置，因而，又产生了增加装置成本的新的问题。另外，在特开2002-365639号公报的技术中，对取向膜材料的入射角度进行控制，使得从蒸镀源升华的取向膜材料中，只有通过遮挡板的狭缝，并以规定的角度流过(飞过)的取向膜材料被用于蒸镀。因此，未通过遮挡板的狭缝的其余取向膜材料被浪费掉。即，存在着材料的使用效率低的问题。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述的问题点而提出，其目的在于，提供解决了由于在取向膜的基底部分形成有阶差部而引起的技术问题，并改善了在通过斜向蒸镀形成无机取向膜时的材料使用效率的制造液晶装置的制造装置、液晶装置的制造方法、液晶装置以及电子设备。为了达到上述的目的，本专利技术的制造液晶装置的制造装置，用于制造具有相互对置的一对基板；形成在所述一对基板中的至少一方基板的内面侧的取向膜；和夹持在所述一对基板之间的液晶的液晶装置，该制造装置包括成膜室；蒸镀部，其具有蒸镀源，通过物理蒸镀法在所述成膜室内对所述基板蒸镀无机材料，由此，形成取向膜和被配置在所述取向膜下面的基底膜；基底膜形成区域，其位于所述成膜室内的所述蒸镀源的大致上方，用于形成所述基底膜；和取向膜形成区域，其位于所述成膜室内的所述蒸镀源的斜上方，用于形成所述取向膜，并具有遮挡板，该遮挡板具有用于选择性蒸镀无机材料的狭缝状开口部分。根据该制造液晶装置的制造装置，由于在同一成膜室内具有基底膜的形成区域和取向膜的形成区域，所以对于不同的基板，可以利用同一蒸镀部并行地进行基底膜的形成和取向膜的形成。并且，通过形成基底膜，可抑制在取向膜的基底部分形成阶差部，并且，不需要分别准备用于形成基底膜的装置和用于形成取向膜的装置，从而可降低装置成本。另外，由于使用同一蒸镀部并行地进行基底膜的形成和取向膜的形成，所以，可减少从蒸镀源升华的材料的浪费，从而，可提高材料的使用效率。而且，在上述制造液晶装置的制造装置中，优选所述成膜室包括只在所述基底膜形成区域一侧选择性地使蒸镀物飞散的选择蒸镀部。这样，与取向膜的成膜率相比能够提高基底膜的成膜率，由此，可使基底膜的膜厚足够厚，从而提高其作为平坦化膜的功能。而且，在上述制造液晶装置的制造装置中，优选所述成膜室具有用于保持并搬送所述基板的搬送部，所述搬送部具有在保持所述基板的同时使其升降的升降机构。这样，利用上述升降机构，尤其是在基底膜的形成区域侧，通过使基板下降，缩小其与蒸镀源之间的距离，可提高基底膜的成膜率。因此，能够使基底膜的膜厚充分厚，从而提高其作为平坦化膜的功能。而且，在上述制造液晶装置的制造装置中，优选所述成膜室具有用于保持并搬送所述基板的搬送部，所述搬送部具有在保持所述基板的同时使其转动的转动机构。这样，利用上述转动机构，尤其是在基底膜的形成区域，通过使基板转动，可消除所形成的基底膜的膜厚和膜质的不均匀。本专利技术的液晶装置的制造方法包括准备一对基板，并在所述一对基板中的至少一方基板上形成基底膜的工序；在所述基底膜上形成取向膜的工序；在所述取向膜上配置液晶的工序；和使所述一对基板相互对置，以在所述一对基板之间配置所述取向膜的方式，通过所述一对基板保持所述液晶的工序，在同一成膜室内，使用同一蒸镀部并行地进行在一块基板上形成所述基底膜的至少一部分的工序、和在另一块基板上形成所述取向膜的工序。根据该液晶装置的制造方法，由于在同一成膜室内使用同一蒸镀部，并行地对一个基板进行基底膜的形成，对另一个基板进行取向膜的形成，所以，不需要分别准备用于形成基底膜的装置和用于形成取向膜的装置，从而可降低装置成本。而且，尤其是通过形成基底膜，可抑制在取向膜的基底部分形成阶差部，从而可解决因该阶差部所造成的技术问题。进而，由于使用同一蒸镀部并行地进行基底膜的形成和取向膜的形成，所以，可减少从蒸镀源升华的材料的浪费，从而，可提高材料的使用效率。而且，在上述液晶装置的制造方法中，优选形成所述基底膜的工序包括使用与形成所述取向膜的蒸镀部相同的蒸镀部，形成所述基底膜的工序；和使用与形成所述取向膜的蒸镀部不同的蒸镀部，形成所述基底膜的工序。这样，与取向膜的成膜率相比能够提高基底膜的成膜率，可使基底膜的膜厚充分厚，从而提高其作为平坦化膜的功能。而且，在上述液晶装置的制造装置中，优选一边使所述基板转动，一边在所述基板上形成所述基底膜。这样，由于一边转动基板，一边形成基底膜，所以，可消除所形成的基底膜的膜厚和膜质的不均匀。本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造液晶装置的制造装置，该液晶装置具有：对置的一对基板；形成在所述一对基板中的至少一方基板的内面侧的取向膜；和被夹持在所述一对基板之间的液晶，该制造装置包括：成膜室；蒸镀部，其具有蒸镀源，通过物理蒸镀法在所述成膜室内对所 述基板蒸镀无机材料，形成取向膜和配置在所述取向膜之下的基底膜；基底膜形成区域，其位于所述成膜室内的所述蒸镀源的大致上方，用于形成所述基底膜；和取向膜形成区域，其位于所述成膜室内的所述蒸镀源的斜上方，具有遮挡板，用于形成所述取 向膜，所述遮挡板具有用于选择性蒸镀无机材料的狭缝状开口部分。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：中田英男，宫下武，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]