一种N-乙烯基唑类化合物的合成方法技术

技术编号:27053168 阅读:6 留言:0更新日期:2021-01-15 14:24
本发明专利技术提供了一条低成本的由唑类化合物和炔丙基叔硫盐化合物在常用无机碱的促进下合成N‑乙烯基唑类化合物的新方法。本发明专利技术所合成的N‑乙烯基唑类化合物是医药、半导体和光敏材料的重要的结构单元,所以本发明专利技术所提供的合成方法有很重要的商业价值。

【技术实现步骤摘要】
一种N-乙烯基唑类化合物的合成方法
本专利技术属于药物化学和绿色化学化工
,具体涉及一种由唑类化合物和炔丙基叔硫盐化合物合成N-乙烯基唑类化合物的新方法。
技术介绍
N-乙烯基唑是有机合成中重要的结构单元,也是许多药物的重要结构单元。例如,N-乙烯基唑已被证明是合成聚N-乙烯基唑的重要单体,聚N-乙烯基唑被广泛应用于半导体和光敏材料。聚N-乙烯基唑也具有抗真菌活性。传统上其制备方法包括直接向炔烃中添加唑类化合物;唑类化合物与1,2-二溴乙烷烷基化,然后脱除溴化氢;其他制备N-乙烯基唑的方法包括Wittig-Horner,Horner-Wadsworth-Emmons和Peterson烯烃化反应。这些已知的合成方法的区域选择性和底物的通用性都有局限。此外,有些过程需要苛刻的反应条件。另外过渡金属(如钯催化剂)催化的N-乙烯基化是一种有吸引力的方法,但是昂贵的钯催化剂的使用限制了这些方法在工业应用中的吸引力。另外铜催化的乙烯基硼酸的N-乙烯基化反应条件比较温和可以在室温下进行,但需要当量的铜盐作为试剂。
技术实现思路
本专利技术提供了一条低成本的由唑类化合物和炔丙基叔硫盐化合物在常用无机碱的促进下合成N-乙烯基唑类化合物的新方法。本专利技术所合成的N-乙烯基唑类化合物是医药、半导体和光敏材料的重要的结构单元,所以本专利技术所提供的合成方法有很重要的商业价值。本专利技术所述的合成N-乙烯基唑类化合物的新方法中底物B中X为Cl、Br或I。本专利技术所述的合成N-乙烯基唑类化合物的新方法中底物A的适用范围包括取代的二唑、三唑和四唑;底物A和对应产物的结构通式如下:其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8为H、烷基、芳香基、氧烷基、硫烷基、氧芳香基、硫芳香基。本专利技术开发的合成N-乙烯基唑类化合物的新方法的具体操作的特征如下:在保护气保护下向含有唑类化合物、炔丙基叔硫盐化合物和第一种无机碱(如醋酸钠、醋酸钾、醋酸铵、碳酸钾、碳酸钠、碳酸氢钾、碳酸氢钠、碳酸铯、碳酸锂)的反应器中加入有机溶剂(如氯仿、1,2-二氯乙烷、四氢呋喃、乙腈、二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺),在15-25度反应直到唑类化合物完全消耗完,然后加入第二种无机碱(如氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂),然后反应在15-25度继续搅拌过夜,减压条件下除去有机溶剂,柱层析或重结晶纯化得到纯的N-乙烯基唑类化合物。如上所述的合成方法中唑类化合物和炔丙基叔硫盐化合物的分子当量比例范围为1/1~1/3,唑类化合物和第一种无机碱的分子当量比例范围为1/1~1/3,唑类化合物和第二种无机碱的分子当量比例范围为1/1~1/3。具体实施方式下面结合具体的实施例对本专利技术作进一步说明,但本专利技术不限于这些实施例。实施例1在氮气保护下向含有咪唑(0.2mmol,1.0equiv)、底物B(73mg,0.4mmol,2.0equiv)和三水合醋酸钠(42mg,0.3mmol,1.5equiv)的反应器中加入干燥的1,2-二氯乙烷(2mL,c=0.1M),之后在20度反应直到咪唑完全消耗完,然后加入氢氧化钾(22mg,0.4mmol,2.0equiv),然后反应在20度继续搅拌12小时。在减压条件下除去有机溶剂,所得粗产物经硅胶柱层析纯化得到纯的无色油状液体产物P-1(23mg,产率69%);表征:无色油状液体IRνmax(neat)/cm-1:2992,2854,1684,1302,1223,854;1HNMR(600MHz,CDCl3):δ7.63(s,1H),7.04(s,2H),5.09(s,1H),4.84(s,1H),2.73(t,J=7.2Hz,2H),2.55(t,J=7.2Hz,2H),2.05(s,3H);13CNMR(150MHz,CDCl3):δ141.0,135.2,130.0,117.0,104.6,34.0,31.4,15.6.HRMS(ESI,m/z):calcdforC8H13N2S+,[M+H]+,169.0794,found169.0790。实施例2在氮气保护下向含有咪唑(0.2mmol,1.0equiv)、底物B(73mg,0.4mmol,2.0equiv)和三水合醋酸钠(42mg,0.3mmol,1.5equiv)的反应器中加入干燥的乙腈(2mL,c=0.1M),之后在20度反应直到咪唑完全消耗完,然后加入氢氧化钾(22mg,0.4mmol,2.0equiv),然后反应在20度继续搅拌12小时。在减压条件下除去有机溶剂,所得粗产物经硅胶柱层析纯化得到纯的无色油状液体产物P-1(25mg,产率74%);表征:无色油状液体IRνmax(neat)/cm-1:2992,2854,1684,1302,1223,854;1HNMR(600MHz,CDCl3):δ7.63(s,1H),7.04(s,2H),5.09(s,1H),4.84(s,1H),2.73(t,J=7.2Hz,2H),2.55(t,J=7.2Hz,2H),2.05(s,3H);13CNMR(150MHz,CDCl3):δ141.0,135.2,130.0,117.0,104.6,34.0,31.4,15.6.HRMS(ESI,m/z):calcdforC8H13N2S+,[M+H]+,169.0794,found169.0790。实施例3在氮气保护下向含有咪唑(0.2mmol,1.0equiv)、底物B(73mg,0.4mmol,2.0equiv)和三水合醋酸钠(42mg,0.3mmol,1.5equiv)的反应器中加入干燥的乙腈(2mL,c=0.1M),之后在20度反应直到咪唑完全消耗完,然后加入氢氧化钠(16mg,0.4mmol,2.0equiv),然后反应在20度继续搅拌12小时。在减压条件下除去有机溶剂,所得粗产物经硅胶柱层析纯化得到纯的无色油状液体产物P-1(22mg,产率65%);表征:无色油状液体IRνmax(neat)/cm-1:2992,2854,1684,1302,1223,854;1HNMR(600MHz,CDCl3):δ7.63(s,1H),7.04(s,2H),5.09(s,1H),4.84(s,1H),2.73(t,J=7.2Hz,2H),2.55(t,J=7.2Hz,2H),2.05(s,3H);13CNMR(150MHz,CDCl3):δ141.0,135.2,130.0,117.0,104.6,34.0,31.4,15.6.HRMS(ESI,m/z):calcdforC8H13N2S+,[M+H]+,169.0794,found169.0790。实施例4在氮气保护下向含有咪唑(0.2mmol,1.0equiv)、底物B(73mg,0.4mmol,2.0equiv)和三水合醋酸钠(54mg,0.4mmol,2.0equiv)的反应器中加入干燥的乙腈(2mL,c=0.1M),之后在20度反应直到咪唑完全消耗完本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种N-乙烯基唑类化合物的合成方法,其特征为在保护气的保护下向含有唑类化合物、炔丙基叔硫盐化合物和第一种无机碱的反应器中加入有机溶剂,在15-25度反应直到唑类化合物完全消耗完,然后加入第二种无机碱,然后反应在15-25度继续搅拌过夜,减压条件下除去有机溶剂,柱层析或重结晶纯化得到纯的N-乙烯基唑类化合物。/n

【技术特征摘要】
1.一种N-乙烯基唑类化合物的合成方法,其特征为在保护气的保护下向含有唑类化合物、炔丙基叔硫盐化合物和第一种无机碱的反应器中加入有机溶剂,在15-25度反应直到唑类化合物完全消耗完,然后加入第二种无机碱,然后反应在15-25度继续搅拌过夜,减压条件下除去有机溶剂,柱层析或重结晶纯化得到纯的N-乙烯基唑类化合物。


2.权利1所述的一种N-乙烯基唑类化合物的合成方法,其特征在于所述保护气为氮气、氦气、氖气或氩气。


3.权利1所述的一种N-乙烯基唑类化合物的合成方法,其特征在于所述唑类化合物有如下结构式:



其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8为H、烷基、芳香基、氧烷基、硫烷基、氧芳香基、硫芳香基。


4.权利1所述的一种N-乙烯基唑类化合物的合成方法,其特征在于所述炔丙基叔硫盐化合物有如下结构式:

【专利技术属性】
技术研发人员:汪子玉沈守杰
申请(专利权)人:惠州大物生物科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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