本发明专利技术系为一种用于检测设备的透镜拼接方法及其系统，尤指用于玻璃基板、印刷电路基板或晶圆基板等的表面缺陷检测、表面微结构组织检测或是基板的表面电子零件接合检测等的检测系统，其主要包括可发出测试光源的光源投射机、可将光源进行反射的反射镜、具有聚焦特性的拼接式透镜以及一待测基板；通过将一个以上裁切后的透镜进行拼接增加拼接式透镜的尺寸，而其裁切透镜的技术主要乃将欲形成于拼接式透镜中央位置的透镜以原中心点进行裁切，而欲与中央透镜拼接的透镜则以中心点偏移的方式进行裁切，藉由将中央透镜及偏移透镜的拼接不但可以增加拼接式透镜的尺寸，并可藉此拼接式透镜于该待测基板上形成分布均匀的光斑。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术系为藉由以一原中心点进行裁切而形成的中央透镜，再进一步藉由 将中心点偏移的方式进行裁切而形成的偏移透镜相拼接而形成的拼接式透镜， 而将该拼接式透镜运用至玻璃基板、印刷电路基板或晶圆基板等基板的检测， 将于受测基板上形成分布均匀的光斑。
技术介绍
随着知识信息时代的来临，无论是网络通讯应用的多元化或是现今3 C产 业技术及多媒体信息的蓬勃发展，无论是传统产业或是科技产业皆是以降低制 造成本、增加制造产能或是提升产品品质为目标，并藉此来增加企业的获利以 及竞争力。然而以目前的薄膜液晶显示器为例，为了因应市场需求并以降低制造成本 及增加制造产能为目标，现今的薄膜液晶显示器无论是于制程阶段或是成品贩 卖的趋势，皆是以逐年增加该面板尺寸来达到或满足上述企业端所欲达到的目 的，相较下，逐年增大的面板组件则需要更大的检测仪器来控制或检测该面板 的品质；请参阅图10及图11所示，系为检测液晶显示器中玻璃基板的检测系 统架构图及检测液晶显示器中玻璃基板的示意图，由图中可以清楚了解一般的 检测系统主要包括有测试光源a 、反射镜b 、透镜c及待测基板d等组件，其 中，通常于检测待测基板d的环境中系将可发出测试光源a的光源投影机或光 源投射机(图中未出示)及反射镜b架设于天花板或墙面，由光源投射机所发 出的测试光源a将可透过反射镜b的反射，再透过透镜c (如菲涅尔镜片(Fresnd lens)或其它凸透镜)来将测试光源a集中于待测基板d上，藉此测试 光源a将可透过透镜c将光源集中的特性并于待测基板d上形成如图12的光斑(亦即为比较明亮的斑点)；是以，检测人员将可藉由待测基板d上所形成的光 斑来做为检测待测基板d表面是否具有缺陷或做为表面微结构组织判断的依 据。再者，上述列举的光源的检测设备不仅可运用于液晶显示器中玻璃基板的 检测，亦可运用于如印刷电路基板及晶圆基板等组件基板的表面缺陷检测、表面微结构组织检测或是基板的表面电子零件接合检测等运用领域，然而上述习 用技术对于现成组件基板尺寸的检测尚称足够，但是对于目前产业所使用检测 尺寸愈来愈大的情况下则显然无法满足其需求，其理由主要乃在于其透镜C的尺寸系需与待测基板d的尺寸成正比，亦即待测基板d尺寸若愈大则与其配合的透镜C的尺寸也愈大；然而，透镜C的成本、重量及其制程的难度却与该透 镜C尺寸成等倍增加，是以，针对检测组件基板的相关厂商而言，若欲加大透 镜C的尺寸来检测较大的待测基板d ，不但难以将加大重量后的透镜C吊置于 天花板或墙面，更增加了检测设备的购置成本，再者，若仅是单纯的加大透镜 的尺寸来配合日益增大的组件基板，有朝一日相关厂商将无法克服透镜的光学 特性。缘此，上述习用技术的不足，便为从事此行业者所亟欲改善的课题，而有 待相关业者作进一步改良与创新设计的必要。
技术实现思路
今，专利技术人有鉴于上述检测设备的缺失与不足，故专利技术人利用此行业的多 年研究专利技术经验，经不断改良与试作，终于专利技术出简化用于检测设备的透镜拼 接方法及其系统。本专利技术的主要目的乃在于藉由裁切后的中央透镜与偏移透镜所拼接而成的 拼接式透镜，将可透过检测系统中的光源投射机而于待测基板形成较大尺寸的 光斑，而藉此透镜的拼接方法不但可以形成光源分布均匀的光斑，亦可减少加 大尺寸后的单一透镜的重量以及降低该加大尺寸的透镜的购置成本。另，本专利技术的次要目的乃在于若将拼接式透镜运用于相关的检测系统，将 可全面照射于欲受测的待测基板，因此于此检测系统检测时将不需移动相关的 检测光源或待测基板，如此即可减少设备间所需设置移动组件的轴数，藉此即 可有效降低设备制造成本以及减少该受测基板的测试时间。本专利技术的用于检测设备的透镜拼接方法包括有将欲形成于拼接式透镜中 央位置的透镜以原中心点进行裁切以形成中央透镜；将欲与中央透镜拼接的透 镜以中心点偏移的方式进行裁切以形成偏移透镜；及将中央透镜与偏移透镜进 行拼接以形成拼接式透镜；藉上，透过一个或一个以上的中央透镜与相对应偏 移透镜的拼接，将可增加拼接式透镜的尺寸。其中该拼接式透镜可具有一个以上的中央透镜或偏移透镜，且裁切后的偏 移透镜与中央透镜的尺寸相同。其中该偏移透镜与中央透镜间所形成的曲率半径小于中央透镜的宽度。其中该透镜以中心点偏移进行裁切的方式可为以透镜中心点为基准进行水 平向或垂直向的位移。本专利技术的检测设备的系统主要包括有可发出测试光源的光源投射机；可 将光源投射机所发出的测试光源进行反射的反射镜；具有将光线进行集中或聚 焦特性的拼接式透镜；及欲做为检验或测试的待测基板；藉上，测试光源将可 透过拼接式透镜于待测基板上形成分布均匀的光斑，且该光斑的尺寸可藉由拼 接不同数量的透镜来增加。其中该拼接式透镜系由一个以上的裁切后的中央透镜及偏移透镜所构成， 且透镜可为奇数个或偶数个，而裁切后的偏移透镜与裁切后的中央透镜尺寸相 同。其中该裁切后的偏移透镜与中央透镜间所形成的曲率半径小于中央透镜的 宽度。其中该透镜可为具集中光线或聚光特性的凸透镜或菲涅尔透镜。本专利技术的用于检测设备的透镜拼接方法中，偶数个透镜的拼接方法包括有 取得两片透镜间所形成的曲率中心间距；取得两片透镜欲裁切于的宽度范围； 以上述曲 率中心间距为基准并对两片透镜进行平移裁切；将两片透镜进行拼接； 藉上，两个以上的偶数个透镜即可拼接而成一拼接式透镜。本专利技术的检测设备的系统主要包括有可发出测试光源的光源投射机、可将 光源投射机所发出的测试光源进行反射的反射镜、具有聚焦特性的拼接式透镜 及一待测基板等组件，其中藉由将一个以上裁切后的透镜进行拼接，将可增加 拼接式透镜的尺寸，并于该待测基板上形成分布均匀的光斑。本专利技术与习用的技术相较着实具下列优点(一) 本专利技术系透过裁切后中央透镜与裁切后偏移透镜所拼接而成的拼接 式透镜，将可透过检测系统中的光源投射机而于待测基板形成较大尺寸的光斑， 而藉此拼接方法不但可以形成光源分布均匀的光斑，亦可减少加大尺寸后的单 一透镜的重量以及降低该加大尺寸的透镜的购置成本。(二) 经由上述拼接方式组成的拼接式透镜并运用于相关的检测系统，将 可全面照射于欲受测的待测基板，因此于此检测系统检测时将不需移动光源或 待测基板，如此即可减少设备间所需设置移动组件的轴数，藉此即可有效降低 设备制造成本以及减少该受测基板的测试时间。(三) 于本专利技术所运用的裁切技术中，其中该裁切后中央透镜的中心系与裁切前的透镜相同，而待取得裁切后中央透镜后，再取得欲与裁切后中央透镜 拼接的透镜并进一步进行水平向的偏移裁切，如此，将可获得与中心位置的裁 切后中央透镜相同尺寸的裁切后偏移透镜，而上述方法仅需以二种步骤进行， 第一即为以欲设置于中央的透镜相同的中心点进行裁切，第二即是将与中央透 镜相邻的透镜进行水平或垂直向偏移的切割，其整体的制程并不复杂，仅需计 算透镜间相对的曲率中心位置，因此可广泛的运用于既有的检测系统。附图说明图l系为拼接后的检测待测基板的检测系统示意图。图2系为拼接后的检测待测基板的光学系统及路径示意图。 图3系为拼接后的待测基板光斑尺寸及亮度数据图。 图4系为非拼接技术的检测系统前视示意图。 图5系为本专利技术裁切及拼接后的检测系统示意图。 图6系为本专利技术裁切后中央透镜的示意图。 图6A系为本专利技术裁切本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于检测设备的透镜拼接方法，尤指运用于检测基板中所使用的拼接式透镜，其特征在于，该透镜的拼接方法包括有：将欲形成于拼接式透镜中央位置的透镜以原中心点进行裁切以形成中央透镜；将欲与中央透镜拼接的透镜以中心点偏移的方式进行裁切以形成偏移透镜；及将中央透镜与偏移透镜进行拼接以形成拼接式透镜。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：许巍耀，曾释锋，林宇仁，
申请(专利权)人：赖秀惠，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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