一种添加剂及使用该添加剂制备高抗拉电解铜箔的工艺制造技术

本发明专利技术提供一种添加剂，该添加剂由下列原料制备而成：光亮剂SPS、HEC水溶液、胶原蛋白、HCL盐酸、糖精钠，一种该添加剂制备高抗拉电解铜箔的工艺，包括如下步骤：步骤A：制作溶液、步骤B：一次过滤、步骤C：中和、步骤D：二次过滤、步骤E：电解制箔和步骤F：防氧化处理。添加剂中选用的HEC、SPS硫脲用作提高在高温下的抗拉强度和延伸率，胶原蛋白可以改变在常温下的抗拉强度和延伸率，糖精钠用作增加韧性，增强延伸率，通过控制五者之间的合适配比，使得生产所得的电解铜箔具有极高的抗拉强度和延伸率，采用本发明专利技术所述添加剂及其工艺产生的电解铜箔在常温下抗拉强度为500Ma，在高温下抗拉强度在550MPa以上，延伸率在10%以上。

【技术实现步骤摘要】
一种添加剂及使用该添加剂制备高抗拉电解铜箔的工艺
本专利技术涉及铜箔生产
，具体涉及一种添加剂及使用该添加剂制备高抗拉电解铜箔的工艺。
技术介绍
目前，政府政策的刺激引领市场快速发展，带动新能源产业进一步升级和爆发式增长。高精端电解铜箔可广泛应用于锂离子动力电池等生产行业，对于当前国家极力倡导的“低碳环保”能源的开发与利用具有深远的意义。电解铜箔具有良好的导电性，常被用作锂离子电池的负极集流体材料。随着锂离子电池产业的迅猛发展，对电解铜箔的供给需求和性能需求不断提高。制备同时具备双面光、高抗拉和低翘曲特性的高性能锂离子电池用电解铜箔对添加剂配比和工艺条件都提出了更高的要求。一般情况下，电解铜箔抗拉强度较低时易使电极尺寸稳定性和平整性变差，易产生铜箔断裂，导致负极材料成品率下降，影响电池容量、内阻及寿命。另外不同添加剂种类和含量存在交互作用，都会直接影响高抗拉锂电铜箔质量，而且往往当电解铜箔的抗拉强度显著提高后会导致电解铜箔翘曲严重，因此，提出一种添加剂及使用该添加剂制备高抗拉电解铜箔的工艺来解决问题。专利
技术实现思路
本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种添加剂，其特征在于：该添加剂由下列原料制备而成：光亮剂SPS、HEC水溶液、胶原蛋白、HCL盐酸、糖精钠，所述添加剂中SPS的浓度为3-15g/L，HEC的浓度为6-12g/L,胶原蛋白的浓度为8-12g/L，HCL的浓度为3-7g/L，糖精钠的浓度为4-6g/L。/n

【技术特征摘要】
1.一种添加剂，其特征在于：该添加剂由下列原料制备而成：光亮剂SPS、HEC水溶液、胶原蛋白、HCL盐酸、糖精钠，所述添加剂中SPS的浓度为3-15g/L，HEC的浓度为6-12g/L,胶原蛋白的浓度为8-12g/L，HCL的浓度为3-7g/L，糖精钠的浓度为4-6g/L。


2.一种使用如根据权利要求1所述的添加剂制备高抗拉电解铜箔的工艺，其特征在于，包括如下步骤：
步骤A：制作溶液：将原材料铜杆或铜丝加入融铜罐中，在硫酸溶液中经过空压溶解生成硫酸铜电解液，调节硫酸铜电解液中的铜离子含量、硫酸浓度、氯离子含量及温度指标达到规定范围；
步骤B：一次过滤：将步骤A中的硫酸铜电解液加入到硅藻士过滤器中进行粗过滤；
步骤C：中和：将步骤B中过滤过后的硫酸铜电解液加入到净液罐中加热，在净液灌中按比例添加权利要求1所述的添加剂进行搅拌；
步骤D：二次过滤：将步骤C中融入过后的硫酸铜电解液加入到精滤器内进行精过滤；
步骤E：电解制箔：将步骤D中的过滤过后的硫酸铜电解液，送至电解槽内进行电解制箔，；
步骤F：防氧化处理：将步骤E中所得的电解铜箔通过防氧化液槽处理过后制得成品电解铜箔试样。


3.根据权利要求2所述的使用该添加剂制备高抗拉电解铜箔的工艺，其特征在于：所述步骤B中的粗过滤为过滤直径＞5μm杂质。


4.根据权利要求2所述的使用该添加剂制备高抗拉电解铜箔的工艺，其特征在于：所述步骤C...

【专利技术属性】
技术研发人员：李应恩，李会东，裴晓哲，王建智，贾佩，杨锋，王斌，
申请(专利权)人：灵宝宝鑫电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河南;41