一种带有黑色多层膜的镀膜器件及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种带有黑色多层膜的镀膜器件及其制备方法，该镀膜器件表面形成的黑色多层膜，不仅具有L值低、金属质感良好、高硬度等特点，而且还具有优异的耐磨性和耐腐蚀性能。本发明专利技术提供的制备方法包括如下步骤：1)将待镀所述黑色多层膜的基体进行等离子体蚀刻；2)在基体的表面镀氮化铬膜；3)在步骤2)所形成的所述氮化铬膜的表面镀第一复合膜，第一复合膜为碳氮化铬、碳化铬、氮化铬和掺杂含氢非晶碳的混镀层，所述掺杂含氢非晶碳中的掺杂元素包括氮和铬；4)在步骤3)所形成的所述第一复合膜的表面镀第二复合膜，所述第二复合膜为碳化铬和掺杂铬的含氢非晶碳的混镀层；5)在步骤4)所形成的所述第二复合膜的表面镀含氢非晶碳膜。

【技术实现步骤摘要】
一种带有黑色多层膜的镀膜器件及其制备方法
本专利技术涉及卫浴产品表面处理
，特别涉及一种带有耐腐蚀及耐磨性强的黑色膜的镀膜器件及其制备方法。
技术介绍
近年来随着消费者对卫浴产品品质追求的不断提升，人们对产品耐用性、色彩多样性及高性价比的需求越来越高。黑色作为装饰领域的经典颜色深受消费者喜爱。现有的卫浴产品表面形成黑色膜层主要方法有喷涂法、电泳法及PVD真空镀膜法等。喷涂和电泳法都不可避免的具有环境污染大、外观缺乏金属质感、抗腐蚀及耐磨性能较差等不足；而现有的真空镀膜技术很难兼具较低的L值(L值越低，颜色越黑)及良好的抗腐蚀及耐磨性能；例如目前市场上的PVD工艺制备的枪黑色等其它深色卫浴产品酸性盐雾最多只能通过24小时，很难满足消费者对质量的需求。因此开发一种适于卫浴产品的对环境友好型、高金属光泽、耐腐蚀及耐磨性能强、高硬度及成本较低的黑色膜层就显得非常的有必要。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种带有黑色多层膜的镀膜器件及其制备方法，本专利技术所提供的镀膜器件，其表面形成四层膜结构构成的黑色多层膜，不仅具有L本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带有黑色多层膜的镀膜器件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：/n1)将待镀所述黑色多层膜的基体进行等离子体蚀刻；/n2)在经步骤1)处理的基体的表面镀氮化铬膜；优选所述氮化铬膜的厚度为50-90nm；/n3)在步骤2)所形成的所述氮化铬膜的表面镀第一复合膜，第一复合膜为碳氮化铬、碳化铬、氮化铬和掺杂含氢非晶碳的混镀层，所述掺杂含氢非晶碳中的掺杂元素包括氮和铬；优选所述第一复合膜的厚度为40-80nm；/n4)在步骤3)所形成的所述第一复合膜的表面镀第二复合膜，所述第二复合膜为碳化铬和掺杂铬的含氢非晶碳的混镀层；优选所述第二复合膜的厚度为210-270nm；/n5)在步骤4)所形成的所...

【技术特征摘要】
1.一种带有黑色多层膜的镀膜器件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
1)将待镀所述黑色多层膜的基体进行等离子体蚀刻；
2)在经步骤1)处理的基体的表面镀氮化铬膜；优选所述氮化铬膜的厚度为50-90nm；
3)在步骤2)所形成的所述氮化铬膜的表面镀第一复合膜，第一复合膜为碳氮化铬、碳化铬、氮化铬和掺杂含氢非晶碳的混镀层，所述掺杂含氢非晶碳中的掺杂元素包括氮和铬；优选所述第一复合膜的厚度为40-80nm；
4)在步骤3)所形成的所述第一复合膜的表面镀第二复合膜，所述第二复合膜为碳化铬和掺杂铬的含氢非晶碳的混镀层；优选所述第二复合膜的厚度为210-270nm；
5)在步骤4)所形成的所述第二复合膜的表面镀含氢非晶碳膜，优选所述含氢非晶碳膜的厚度为40-80nm；
优选的，所述黑色多层膜的总厚度为340-520nm。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤3)中，采用多弧离子镀膜技术和等离子体增强化学气相沉积技术相结合来形成所述第一复合膜，优选的，工艺条件包括：多弧电流为40-60A，负偏压为60-100V，占空比为50％-70％，氩气流量为100-200sccm，氮气流量为150-250sccm，乙炔流量为120-240sccm，离子源功率为300-500W，炉温45-155℃，镀膜时间为4-8min；靶材为圆弧铬靶，优选靶材为纯度＞99.95％的圆弧铬靶；
和/或，步骤2)中，采用多弧离子镀膜技术镀所述氮化铬膜，优选的，工艺条件包括：多弧电流为40-60A，负偏压为60-400V，占空比为70％-90％，氩气流量为100-200sccm，氮气流量为150-250sccm，炉温45-155℃，镀膜时间4-8min，靶材为圆弧铬靶，优选为纯度＞99.95％的圆弧铬靶。


3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤4)中，采用多弧离子镀膜技术和等离子体增强化学气相沉积技术相结合来形成所述第二复合膜，优选的，工艺条件包括：多弧电流为35-55A，负偏压为40-90V，占空比为10％-50％，氩气流量为100-200sccm，乙炔流量为270-380sccm，离子源功率为300-500W，炉温45-155℃，镀膜时间为15-25min，靶材为圆弧铬靶，优选为纯度＞99.95％的圆弧铬靶。


4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤1)中，进行所述等离子体蚀刻的工艺条件包括：真空度为1.5-5.0×10-5Torr，通入50-200sccm氩气，离子源功率为300-400W，炉温45-155℃，处理时间为8-15min；
和/或，步骤5)中，采用等离子体增强化学气相沉积技术形成所述的含氢非晶碳膜，优选的，工艺条件包括：负偏压为1000-1400V，占空比为10％-30％，乙炔流量为100-140sccm，离子源功率为300-500W，炉温45-155℃，镀膜时间为15-25min。


5.根据权利要求1-4任一项所述的带有黑色多层膜的镀膜器件的制备方法，其特征在于，所述基体与所述氮化铬膜接触的表面为塑料或金属材质，优选为电镀了铬的塑料或金属材质；所述镀膜器件优选为卫浴产品。


6.一种黑色...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴文勤，熊文涛，程朝阳，
申请(专利权)人：南昌科勒有限公司，常州科勒水龙头有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36