一种快速生长InSb单晶的方法技术

技术编号:26841242 阅读:47 留言:0更新日期:2020-12-25 12:58
本发明专利技术公开了一种快速生长InSb单晶的方法。选取一个InSb单晶晶锭作为引晶晶锭,晶锭底部的宽颈部分直径不小于50mm;对底部进行切磨抛处理:将籽晶方柱上端固定在籽晶杆上,并连接于提拉装置上;将晶体底部的宽颈部位浸入熔体,当底面接触熔体之后缓慢浸入,设定加热功率,待晶体底面和熔体完全融合时,启动提拉装置,初始拉速8‑10mm/h,加热功率降低0.1‑0.4%,待新生晶体达到目标尺寸时,保持加热功率不变,拉速提升至12‑15mm/h,等待晶锭底面和熔体出现融合状态时完成引晶过程。该方法避免籽晶放肩过程中出现孪晶或多晶,在短时间内获得大尺寸InSb单晶,有利于提高InSb单晶的生长效率和成晶率。

【技术实现步骤摘要】
一种快速生长InSb单晶的方法
本专利技术涉及单晶制备,尤其是涉及一种快速生长InSb单晶的方法,具体涉及一种InSb单晶快速制备中的引晶晶锭的选择、引晶晶锭的处理和引晶过程。
技术介绍
在直拉法生长InSb(锑化铟)晶体过程中,首先将InSb原料放在坩埚中加热熔化。将固定于籽晶杆上的InSb籽晶从熔体表面缓慢浸入熔体中,浸入熔体的籽晶底部和熔体融合在一起,缓慢向上提拉籽晶杆,并通过籽晶杆散热。与籽晶接触的熔体首先获得一定的过冷度,而发生结晶。不断提拉籽晶杆,使结晶过程连续进行,从而实现连续的InSb晶体生长。如图1所示,在InSb单晶生长过程中,从小尺寸的籽晶方柱过渡到大尺寸的晶锭的过程称为“放肩”,即晶体直径变大部位定义为肩部,晶体放肩过程中的直径由提拉速率和加热功率共同调节。InSb单晶生长中,放肩角度过大的话容易导致孪晶的形成,因此通常采用小角度放肩工艺,放肩角度一般介于30-45º之间。此外,针对InSb这种材料,其自身的热导率较低,仅为17W/mK,生长过程中结晶潜热难以逸出,非常容易在晶体内部形成局部应力,产生位错,从而降本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种快速生长InSb单晶的方法,其特征在于:所述方法包括引晶晶锭的选择、引晶晶锭的处理和引晶过程,具体步骤如下:/n一、首先选取一个InSb单晶晶锭作为引晶晶锭,引晶晶锭由两部分组成:一是籽晶方柱;二是引晶晶锭具有满足放肩过程的晶体,即放肩部分晶锭;放肩角度为30-45º之间,放肩部分晶锭底部的宽颈部分直径不小于50mm;/n二、对引晶晶锭底部进行切磨抛处理,以保证底部表面基本平坦,并进行清洗,以保证底面的清洁度;/n三、引晶过程:将籽晶方柱上端固定在籽晶杆上,并连接于提拉装置上;将引晶晶体底部的宽颈部位浸入InSb熔体,当引晶晶体底面接触熔体之后缓慢浸入,待引晶晶体底面和熔体完全融合时启...

【技术特征摘要】
1.一种快速生长InSb单晶的方法,其特征在于:所述方法包括引晶晶锭的选择、引晶晶锭的处理和引晶过程,具体步骤如下:
一、首先选取一个InSb单晶晶锭作为引晶晶锭,引晶晶锭由两部分组成:一是籽晶方柱;二是引晶晶锭具有满足放肩过程的晶体,即放肩部分晶锭;放肩角度为30-45º之间,放肩部分晶锭底部的宽颈部分直径不小于50mm;
二、对引晶晶锭底部进行切磨抛处理,以保证底部表面基本平坦,并进行清洗,以保证底面的...

【专利技术属性】
技术研发人员:于凯徐世海王健洪颖霍晓青刘莎莎张嵩李强程红娟
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第四十六研究所
类型:发明
国别省市:天津;12

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