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本发明公开了一种快速生长InSb单晶的方法。选取一个InSb单晶晶锭作为引晶晶锭,晶锭底部的宽颈部分直径不小于50mm;对底部进行切磨抛处理:将籽晶方柱上端固定在籽晶杆上,并连接于提拉装置上;将晶体底部的宽颈部位浸入熔体,当底面接触熔体之后...该专利属于中国电子科技集团公司第四十六研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国电子科技集团公司第四十六研究所授权不得商用。
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本发明公开了一种快速生长InSb单晶的方法。选取一个InSb单晶晶锭作为引晶晶锭,晶锭底部的宽颈部分直径不小于50mm;对底部进行切磨抛处理:将籽晶方柱上端固定在籽晶杆上,并连接于提拉装置上;将晶体底部的宽颈部位浸入熔体,当底面接触熔体之后...