氧化锆/氧化硅系高抗激光损伤高反膜的制备方法技术

一种氧化锆／氧化硅系高抗激光损伤高反膜的制备方法，在玻璃基底上用化学镀膜法交替制备数层氧化锆（ＺｒＯ↓［２］）和氧化硅（ＳｉＯ↓［２］）膜层。氧化锆（ＺｒＯ↓［２］）溶胶镀膜液制备方法为：以正丙醇锆Ｚｒ（Ｏ－ｎＣ↓［３］Ｈ↓［７］）↓［４］为前驱体，在碱性或中性催化条件下，加入一定量的二甘醇（ＤＥＧ），搅拌均匀后，按一定比例加入水和无水乙醇，混合后充分搅拌，然后装入密闭容器中在适当的温度下进行陈化。本发明专利技术制备过程简单、方便，膜层达到高反所需的层数减少，膜层的耐激光损伤阈值在５～２５Ｊ／ｃｍ↑［２］（１０６４ｎｍ，３ｎｓ）。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于一种高反膜的制备方法，具体地说涉及一种。制作高反膜通常采用物理真空镀膜和溶胶-凝胶化学镀膜。物理真空镀膜是将无机材料在真空室中高温蒸发，然后在电场的作用下沉积到玻璃基片上形成镀层，因其设备复杂、造价昂贵，所镀膜层不够均匀、不易控制膜层的微观结构，以及竟激光损伤阈值不高等难以克服的缺点，实际应用受到限制。溶胶-凝胶法化学镀膜是用预先配制好的胶体，通过旋转、提拉或弯液面镀膜等过程获得膜层。研究人员(国际光学工程会议文集Vol.2114，232；Vol.2253，764)选用几种不同的物质作为高折射率材料，氧化硅(SiO2)作为低折射率材料，用溶胶-凝胶法制备了高反膜。其中ThO2-SiO2在光学性能和损伤阈值两方面都能满足要求，但不安全；TiO2-SiO2体系给出良好的光学性能，但是没有高的损伤阈值；ALOOH-SiO2体系可以满足损伤阈值的要求，但是ALOOH的折射率只有1.44，与氧化硅(SiO2)折射率1.22相比不算太大，要达到较好的光学性能则需要镀很多层膜。目前研究的焦点正逐步转向氧化锆/氧化硅(ZrO2/SiO2)体系，其中氧化锆(ZrO2)溶胶多采用无机本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氧化锆／氧化硅系高抗激光损伤高反膜的制备方法，将氧化锆和氧化硅溶胶镀膜液用化学镀膜法交替镀在玻璃基底上形成高反膜，具体步骤如下： （１）氧化锆（ＺｒＯ↓［２］）溶胶镀膜液的制备：以正丙醇锆［Ｚｒ（Ｏ－ｎＣ↓［３］Ｈ↓［７］）↓［４］］为前驱体，在碱性或中性催化条件下，加入一定量的稳定性、高分子添加剂，搅拌均匀后，按一定比例加入水（Ｈ↓［２］Ｏ）和无水乙醇（ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＯＨ），混合后充分搅拌，然后装入密闭容器中在０－６０℃度下进行陈化１５－１００天； （２）制备氧化硅（ＳｉＯ↓［２］）溶胶镀膜液的方法为：以正硅酸甲酯或正硅酸乙酯为前驱体，在碱性或酸性催化条件下，按一定...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙予罕，吴东，范文浩，徐耀，孙继红，
申请(专利权)人：中国科学院山西煤炭化学研究所，
类型：发明
国别省市：14[中国|山西]